专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果9个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]电介质瓷组成物以及陶瓷电子零件-CN201110271171.4有效
  • 福冈智久;高野弘介;前田信;松永裕太 - TDK株式会社
  • 2011-09-05 - 2013-03-06 - C04B35/468
  • 本发明的电介质瓷组成物,是含有钙钛矿型化合物(ABO3),相对于100摩尔的化合物,用各氧化物换算,含有0.6~2.5摩尔的RA2O3(RA为Dy、Gd以及Td中选出的一种以上)、0.2~1.0摩尔的RB2O3(RB为Ho和/或Y)、0.1~1.0摩尔的RC2O3(RC为Yb和/或Lu)、用Mg换算为0.8~2.0摩尔的Mg氧化物、用Si换算为1.2~3.0摩尔的Si化合物,RA2O3的含量(α)、RB2O3的含量(β)、RC2O3的含量(γ)满足关系式1.2≤α/β≤5.0、0.5≤β/γ≤10.0。这种电介质瓷组成物最好是使用于电介质层的厚度为5.0微米以下的电子零件。如果采用本发明,则能够提供即使是在电介质层薄型化的情况下,也能够显示出良好的特性的电介质瓷组成物以及电子零件。
  • 电介质组成以及陶瓷电子零件
  • [发明专利]电介质陶瓷组合物和电子部件-CN200810082344.6无效
  • 阿满三四郎;小岛隆;宫内真理;细野雅和;樱井弹;高野弘介;森崎信人 - TDK株式会社
  • 2008-02-29 - 2008-10-15 - C04B35/468
  • 本发明提供电介质陶瓷组合物,该电介质陶瓷组合物具有BamTiO2+m(m满足0.99≤m≤1.01)、BanZrO2+n(n满足0.99≤n≤1.01)、Mg的氧化物、R的氧化物(R为选自Sc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu的至少一种)、选自Mn、Cr、Co和Fe中的至少一种元素的氧化物、选自Si、Li、Al、Ge和B中的至少一种元素的氧化物;相对于100mol上述BamTiO2+m,BanZrO2+n:35~65mol;Mg的氧化物:4~12mol;R的氧化物:4~15mol;Mn、Cr、Co和Fe的氧化物:0.5~3mol;Si、Li、Al、Ge和B的氧化物:3~9mol。本发明的目的在于提供耐压高、绝缘电阻的加速寿命优异、适合额定电压高(例如为100V以上)的中高压用途中使用的电介质陶瓷组合物。
  • 电介质陶瓷组合电子部件
  • [发明专利]电介质陶瓷组合物以及电子部件-CN200810082345.0有效
  • 阿满三四郎;小岛隆;宫内真理;细野雅和;樱井弹;高野弘介;森崎信人 - TDK株式会社
  • 2008-02-29 - 2008-09-17 - C04B35/468
  • 电介质陶瓷组合物,它是含有:含BaTiO3的主成分;含BaZrO3的第1副成分;含Mg氧化物的第2副成分;含稀土类元素氧化物的第3副成分;含选自Mn、Cr、Co和Fe中一种以上元素的氧化物的第4副成分;和含选自Si、Al、Ge、B和Li中一种以上元素的氧化物的第5副成分的电介质陶瓷组合物,其中:在构成电介质陶瓷组合物的电介质粒子之中至少有一部分电介质粒子具有由中心层和存在于其周围的扩散层构成的表面扩散结构。设在电介质粒子界面附近R浓度为CR,设扩散层中R浓度的最大值为CRmax时,CRmax/CR>1。另外,设在电介质粒子界面附近的Mg浓度为CM,设扩散层中Mg浓度的最大值为CMmax时,CMmax/CM>1。
  • 电介质陶瓷组合以及电子部件

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top