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[发明专利]水溶性膜、制造方法和包装体-CN202280007177.7在审
发明人：风藤修;高藤胜启 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2022-09-30 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： B65D65/46 文献下载
摘要：提供维持良好的水溶性且即便对洗涤洗剂等药剂加以包装也不易出现在高温/长时间保管中发生经时性外观不良这一问题的水溶性膜、其制膜方法、以及使用该水溶性膜对药剂加以包装而得到的包装体。水溶性膜，其含有聚合度为100～3000的聚乙烯醇，且含有相对于聚乙烯醇100质量份为1～50质量份的多元醇系增塑剂，将模型洗剂加以包装而制成包装体时的包装体的减重速度为1.0～6.0g/(m2·天)，将水溶性膜在模型洗剂中浸渍24小时后，进行拉伸试验时的拉伸100％时的弹性模量为9～35MPa，并且，将水溶性膜在模型洗剂中浸渍24小时后，在5℃的去离子水中浸渍时的完全溶解时间为100秒以内。
水溶性制造方法包装

[发明专利]聚乙烯醇膜和其制造方法-CN201980040936.8有效
发明人：中村高广;田中辽太郎;高藤胜启 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2019-06-20 - 公布日： 2023-04-14 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：聚乙烯醇膜，将PVA膜的宽度方向记作TD方向、机械流动方向记作MD方向，在MD方向上连续以直线状延伸1.5m以上的高低差0.15μm以上的条纹状缺陷在膜全宽中为5根以下，且在MD方向上连续以直线状延伸1.5m以上的高低差0.50μm以上的条纹状缺陷在膜全宽中不存在，且在对TD方向中央部的厚度在MD方向上以0.5mm间隔跨1.0m测定时的最大值记作tMAX、最小值记作tMIN和平均值记作tAVE的情况下，tAVE为35μm以下，且通过下述式(1)规定的厚度偏差率为5.5%以下。该膜即使薄，条纹状缺陷也少，且MD方向的厚度偏差减少，因此在拉伸时抑制了褶皱的产生。厚度偏差率=(tMAX‑tMIN)/tAVE×100(%)(1)。
聚乙烯醇制造方法

[发明专利]聚乙烯醇膜、膜卷和膜卷的制造方法-CN201880090019.6有效
发明人：梅本凉平;岛越信一;高藤胜启 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2018-12-17 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：[课题]提供成为偏振板性能降低的原因且存在于膜内部的来自活性剂的聚集物得以降低的聚乙烯醇膜、膜卷和膜卷的制造方法。[解决手段]聚乙烯醇膜，其为含有聚乙烯醇(A)、非离子性表面活性剂(B)、阴离子性表面活性剂(C1)、以及与前述C1不同的磺酸系阴离子性表面活性剂(C2)的聚乙烯醇膜，聚乙烯醇(A)的平均聚合度为500~7000、皂化度为99.0摩尔%以上，非离子性表面活性剂(B)、阴离子性表面活性剂(C1)和前述磺酸系阴离子性表面活性剂(C2)的含量相对于聚乙烯醇(A)100质量份均为0.001~1质量份，阴离子性表面活性剂(C1)和前述磺酸系阴离子性表面活性剂(C2)的总质量相对于非离子性表面活性剂(B)之比[(C1＋C2)/B]为1~10，前述磺酸系阴离子性表面活性剂(C2)相对于阴离子性表面活性剂(C1)的质量比(C2/C1)为0.1~10。
聚乙烯醇制造方法

[发明专利]人造大理石成型用聚乙烯醇脱模膜、和使用其的人造大理石的制造方法-CN201980073474.X有效
发明人：风藤修;练苧乔士;高藤胜启 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2019-09-06 - 公布日： 2022-11-29 - 主分类号： B29C33/68 文献下载
摘要：人造大理石成型用聚乙烯醇脱模膜，其为将成为人造大理石的原料的原液供给至赋形装置而固化成型时配置于原液与赋形装置之间的脱模膜，其特征在于，该脱模膜为聚乙烯醇膜，且满足下述式(1)。由此，提供在宽泛的人造大理石的制造中，也能够抑制在两个端部处产生的褶皱、卷曲等，防止所得人造大理石的表面形状的不良，能够简化将人造大理石研削·研磨的步骤的人造大理石成型用聚乙烯醇脱模膜、和使用其的人造大理石的制造方法。4.6×10‑3≥Δn(MD)0‑1.4×10‑3≥Δn(TD)0≥1.0×10‑3(1)[式(1)中，Δn(MD)0表示在聚乙烯醇脱模膜的宽度方向中心区域、将机械运动方向的双折射率沿该膜的厚度方向上平均化而得到的值，Δn(TD)0表示在聚乙烯醇脱模膜的宽度方向中心区域、将宽度方向的双折射率沿该膜的厚度方向上平均化而得到的值]。
人造大理石成型聚乙烯醇脱模使用制造方法

[发明专利]聚乙烯醇膜的制造方法-CN202180021877.7在审
发明人：佐藤耕大;樋口雄太;高藤胜启 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2021-03-11 - 公布日： 2022-10-18 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明提供能够在连续制造PVA膜时抑制条纹状缺陷恶化的PVA膜的制造方法。通过如下的聚乙烯醇膜的制造方法，能够连续生产条纹状缺陷的增大受到抑制的PVA膜，所述聚乙烯醇膜的制造方法具备从挤出制膜装置中喷出制膜原液的工序，所述制膜原液含有相对于聚乙烯醇100质量份为0.10~0.30质量份的含氮型非离子系表面活性剂，在前述喷出工序中，使喷出前的前述制膜原液中的前述含氮型非离子系表面活性剂相对于前述聚乙烯醇的含量经时性地增加。
聚乙烯醇制造方法

[发明专利]光学用聚乙烯醇膜的制造方法-CN202080085648.7在审
发明人：川嶋宏希;梅本凉平;高藤胜启 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2020-12-10 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： B29C41/26 文献下载
摘要：光学用聚乙烯醇膜的制造方法，其特征在于，使用具备旋转轴彼此平行的多个干燥辊的制膜装置，将包含聚乙烯醇的制膜原液以膜状喷出在位于前述制膜装置的最上游侧的第一干燥辊上并进行干燥，将所得膜用接续在该第一干燥辊的下游侧的第二干燥辊及之后的干燥辊进一步干燥，前述第二干燥辊及之后的干燥辊中的至少一个为变径干燥辊，从与前述变径干燥辊接触的前述膜的宽度方向两端部起朝向宽度方向中央部侧为50mm以上且250mm以下的位置的至少一部分区域中的前述异形干燥辊的外径比宽度方向中央部的外径大1.0mm~3.0mm。根据该方法，能够顺利且连续地制造宽度宽的光学用聚乙烯醇膜。
光学聚乙烯醇制造方法

[发明专利]改性聚乙烯醇、树脂组合物和膜-CN201580054676.1有效
发明人： 高藤胜启;加藤雅己;森容子 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2015-10-06 - 公布日： 2020-05-15 - 主分类号： C08F16/06 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供可形成冷水溶解性、机械强度和耐化学品性优异的膜的改性聚乙烯醇。本发明为包含式（I）所示单体单元和式（II）所示结构单元的改性聚乙烯醇，上述改性聚乙烯醇中的单体单元（I）相对于全部单体单元的含有率为0.05摩尔%以上且10摩尔%以下，上述改性聚乙烯醇中的结构单元（II）相对于全部单体单元的含有率为0.001摩尔%以上且0.5摩尔%以下，粘均聚合度为300以上且3,000以下、皂化度为82摩尔%以上且99.5摩尔%以下。式（I）中，R1为氢原子或烷基。R2为‑R3‑SO3‑X+、‑R3‑N+（R4）3Cl‑或氢原子。R3为烷烃二基。X+为氢原子、金属原子或铵基。R4为烷基。
改性聚乙烯醇树脂组合

[发明专利]光学膜制造用初始膜-CN201480072554.0有效
发明人： 高藤胜启;矶崎孝德 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2014-12-17 - 公布日： 2020-05-08 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：[课题]提供光学膜制造用初始膜以及使用该初始膜的光学膜的制造方法，所述光学膜制造用初始膜即使不进行在硼酸水溶液中浸渍、空中高温拉伸之类的不溶化处理也可以在与水接触的步骤中抑制聚乙烯醇的溶出，可以使用通用的光学膜制造设备简便地制造光学性能优异的光学膜。[解决手段]光学膜制造用初始膜，其具有热塑性树脂膜层和含有硼化合物的聚乙烯醇层；以及制造方法，其是使用该光学膜制造用初始膜的光学膜的制造方法，其具有拉伸步骤。
光学制造初始

[发明专利]液压转印用基膜-CN201680034753.1有效
发明人：西见昭雄;高藤胜启;练苧乔士;藤田聪 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2016-06-14 - 公布日： 2020-04-03 - 主分类号： B44C1/175 文献下载
摘要：单层的液压转印用基膜，其中，相对于聚乙烯醇100质量份，包含平均粒径为2~14μm且长宽比为4~60的片状或针状的填料1.5~15质量份；以及，液压转印用基膜的制造方法，其具备使用制膜原液进行制膜的工序，所述制膜原液中，相对于聚乙烯醇100质量份，包含平均粒径为2~14μm且长宽比为4~60的片状或针状的填料1.5~15质量份。由此，能够提供从卷中抽出时不易断裂的液压转印用基膜及其制造方法。
液压转印用基膜

[发明专利]树脂组合物和膜-CN201580054589.6有效
发明人： 高藤胜启;加藤雅己;森容子 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2015-10-06 - 公布日： 2019-10-18 - 主分类号： C08L29/04 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供可以形成冷水溶解性、机械强度和耐药品性优异的膜的树脂组合物。本发明的树脂组合物含有包含下式(I)所示的单体单元的改性聚乙烯醇和下式(II)所示的胺化合物，相对于上述改性聚乙烯醇100质量份，上述胺化合物的含量为0.01质量份以上且1质量份以下。式(I)中，R¹是氢原子或碳原子数1～8的直链状或支链状的烷基。R²是‑R³‑SO₃^‑X^＋、‑R³‑N^＋(R⁴)₃Cl^‑或氢原子。R³是碳原子数1～10的直链状或支链状的烷撑基。X^＋是氢原子、金属原子或铵基。R⁴是碳原子数1～5的直链状或支链状的烷基。式(II)中，R⁵是‑R³’‑SO₃^‑X^＋’、‑R³’‑N^＋(R⁴’)₃Cl^‑或氢原子。
式( I )氢原子树脂组合物碳原子数支链状直链状质量份烷基胺化合物改性聚乙烯醇改性聚乙烯冷水溶解性单体单元金属原子耐药品性烷撑基铵基

[发明专利]聚乙烯醇膜-CN201480063715.X有效
发明人：大园达也;高藤胜启;风藤修 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2014-11-13 - 公布日： 2019-05-10 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：[课题]提供可容易地制造偏振光膜的PVA膜，所述偏振光膜自身的色相优异，即使不使用透射率低的光学膜也能够制造色相优异的LCD，且能够制造画面明亮的LCD。[解决方案]以下斜率的最小值为‑0.84~‑0.783N/mm²·秒的PVA膜：将从PVA膜切出的宽度方向为3cm的样品以卡盘间距离为1.5cm且沿着长度方向拉伸的方式置于自动绘图仪，在30℃的水中浸渍1分钟后，在该水中以240%/分钟的速度沿着长度方向拉伸，在应力达到11.1N/mm²的时刻固定卡盘间距离，针对其后的应力的经时变化，以时间作为横轴且以应力作为纵轴进行绘图时的该图上的各点的斜率最小值。
聚乙烯醇

[发明专利]膜-CN201480042984.8有效
发明人： 高藤胜启;矶崎孝德 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2014-08-05 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：[课题]提供水溶性优异且即使与药剂接触时水溶性的经时变化也少的膜、使用了该膜的包装体及液压转印用膜、以及使用了该液压转印用膜的液压转印方法。[解决方案]膜、使用了该膜的包装体及液压转印用膜、以及使用了该液压转印用膜的液压转印方法，所述膜包含含羟甲基的乙烯醇系聚合物，所述含羟甲基的乙烯醇系聚合物包含乙烯醇单元和下述式（1）所示的单元结构。
膜

[发明专利]光学膜制造用初始膜-CN201580006076.8有效
发明人： 高藤胜启;矶崎孝德;加藤雅己 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2015-01-26 - 公布日： 2019-01-15 - 主分类号： G02B5/30 文献下载
摘要：本发明课题在于提供光学膜制造用初始膜以及使用其的光学膜的制造方法，所述光学膜制造用初始膜可容易地制造光学特性、色相和耐久性均优异的收缩应力低的光学膜。解决手段在于光学膜制造用初始膜以及使用该光学膜制造用初始膜的光学膜的制造方法，其具有单轴拉伸的工序，所述光学膜制造用初始膜包含含羟甲基的乙烯醇系聚合物，所述含羟甲基的乙烯醇系聚合物的下述式（1）所示的结构单元的含有率为0.1～1.9摩尔%。
光学制造初始

[发明专利]层叠体、偏振膜以及偏振膜的制造方法-CN201380041597.8有效
发明人： 高藤胜启;矶崎孝德 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2013-07-29 - 公布日： 2018-11-16 - 主分类号： B32B27/30 文献下载
摘要：本发明提供即使不预先进行不溶化处理，在与水接触的工序中也能够抑制PVA的溶出、能够使用通用的偏振膜制造设备简便地制造偏振性能优异的偏振膜的层叠体，以及使用了其的偏振膜的制造方法、以及偏振性能优异且交叉尼科尔状态（crossed nichol state）下的红色光泄露少的偏振膜及其制造方法。具有热塑性树脂膜层和溶胀度为180%以上且260%以下的PVA层的层叠体、以及包括对该层叠体进行拉伸的工序的偏振膜的制造方法、以及双折射率为45×10^‑3以上的基体上吸附有双色性色素的偏振膜、以及包括将具有热塑性树脂膜层与PVA层的层叠体拉伸至5.7倍以上的工序的偏振膜的制造方法，该制造方法中，PVA层所含的PVA的平均聚合度为2,800以上且9,500以下。
层叠偏振以及制造方法

[发明专利]液压转印用基膜-CN201380014947.1有效
发明人： 高藤胜启;矶崎孝德;练苧乔士;秦秀行;笹井弘治 -专利权人：株式会社可乐丽
申请日： 2013-03-06 - 公布日： 2018-11-09 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明的课题在于，提供一种从卷中抽出时难以断裂的液压转印用基膜及其制造方法。其解决方法在于：液压转印用基膜1，沿厚度方向测定裁切剖面3的表面粗糙度时，在最大峰高度（Rp）为5μm以上的情况下，赋予该最大峰高度（Rp）的位置5位于距离厚度方向的单侧为20~80%的位置，在最大峰高度（Rp）不足5μm的情况下，算术平均高度（Ra）为2μm以下；一种液压转印用基膜的制造方法，其包括使用剪切刀片来裁切膜的工序，上刀片的刀尖角度为30~90°，上刀片与下刀片的重叠量为0.1~0.8mm，夹角为2~100°，上刀片没有驱动；以及，一种液压转印用基膜的制造方法，其包括使用剃刀刀片进行裁切的工序，剃刀刀片的刀尖的最大高度（Rz）不足1μm。
液压转印用基膜

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