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[发明专利]基板处理装置、半导体装置的制造方法和存储介质-CN202211477027.0在审
发明人：柴田仁;高畑觉;布村一朗;铺田严 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2022-11-23 - 公布日： 2023-06-16 - 主分类号： H01L21/203 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置、半导体装置的制造方法和存储介质，能够避免在将基板从基板保持件卸下时，由于所形成的膜而将基板与基板保持件固定连接，导致无法将基板从基板保持件剥离的问题。基板处理装置具有：基板保持件，其设置有载置基板的基板载置部；基板移载机构，其相对于基板载置部装填或卸下基板；处理容器，其容纳保持有基板的基板保持件；成膜气体供给系统，其对处理容器内的基板供给成膜气体；以及控制部，其能够控制基板移载机构和成膜气体供给系统，使得在从开始对基板供给成膜气体的成膜处理起至在基板上形成所需的厚度的膜为止的期间，至少一次将成膜处理的实施中断，并进行基板载置部上载置的基板的剥离处理。
处理装置半导体制造方法存储介质

[发明专利]处理装置、控制器、处理系统、处理装置的控制方法以及基板处理装置的显示方法-CN201480081361.1有效
发明人：布村一朗;高畑觉;岩仓裕幸 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2014-09-26 - 公布日： 2020-02-28 - 主分类号： G06F21/60 文献下载
摘要：提供一种处理装置，该处理装置包括：操作部，其具备对规定的编辑文件进行编辑的操作画面；存储部，其存储所述编辑文件，所述编辑文件至少包括与规定的图形图像文件相当的数据和与规定的数据文件相当的数据、以及将所述规定的数据文件加密后的加密数据；以及控制部，其执行对将所述加密数据解除而生成的所述规定的数据文件和所述规定的数据文件进行比较的处理、以及在所述操作画面显示根据所述比较的结果将所述规定的图形图像文件和所述规定的数据文件合并为一个文件从而生成的所述编辑文件的处理。
处理装置控制器系统控制方法以及显示

[发明专利]基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质-CN201910555332.9在审
发明人： 高畑觉;布村一朗;饭田宰;关原仁;筒口和典;柴田仁 -专利权人：株式会社国际电气
申请日： 2019-06-25 - 公布日： 2020-02-11 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明提供一种基板处理装置、半导体器件的制造方法及记录介质，其目的在于根据工艺的类别和/或要形成的膜种类变更移载室的气体环境。基板处理装置具备：进气阻尼器及进气扇，它们与向连接于进行基板处理的处理室的移载室吸入空气的进气口连通；非活性气体导入管的阀，该非活性气体导入管向移载室供给非活性气体；排气扇及排气阀，它们设于移载室；切换机构，其从将移载室的气体环境设为空气环境的空气模式和将移载室的气体环境设为非活性气体环境的吹扫模式中选择某一模式；和控制机构，其通过对进气阻尼器及进气扇、非活性气体导入管的阀、和排气扇及排气阀分别进行控制来执行空气模式和吹扫模式中的某一模式。
移载非活性气体气体环境导入管基板处理装置进气阻尼器空气模式进气扇排气阀排气扇吹扫进气口非活性气体环境半导体器件基板处理空气环境吸入空气种类变更连通制造