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[发明专利]一种电气比例阀的检测装置及检测方法-CN202310262994.3在审
发明人：朱学茂;郭俊;张翔;高友浪;林志威;龚勇;刘成飞 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2023-03-17 - 公布日： 2023-07-11 - 主分类号： G01M13/003 文献下载
摘要：本发明涉及阀检测技术领域，并提供了一种电气比例阀的检测装置及检测方法，包括气源处理模块、电气比例阀和检测模块；检查检测装置中各部件是否正常；将减压阀调至预设压力值；将电子压力表示数与预设压力值进行比较，根据比较结果判断电子压力表是否正常；判定电子压力表正常后，接入第一电气比例阀，依次调节各元器件参数；通过调节信号发生器控制第一电气比例阀输出量获取检测值，并与预设值比较，根据比较结果判断检测装置功能是否正常；判定检测装置功能正常，接入第二电气比例阀检测，获取检测值与预设值比较，根据比较结果判定第二电气比例阀是否合格；本发明能够避免因气源有杂质和输入压力不稳而影响检测结果，并提供严谨检测方法。
一种电气比例检测装置方法

[实用新型]一种动态密封结构及具有其的等离子清洗机-CN202220300369.4有效
发明人： 高友浪;张翔;李钟玲 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2022-02-15 - 公布日： 2023-06-27 - 主分类号： B08B7/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种动态密封结构及具有其的等离子清洗机，包括盖板、底板、密封腔、排气管和密封箱，所述密封腔设置于所述底板上，密封腔上设置所述盖板，所述底板下表面中部连接设置所述排气管一端，所述密封箱设置于所述密封腔内且安装于所述底板上，所述盖板上中部设置Plasma头，所述密封腔一侧面上分别设置密封气缸与密封口，所述密封气缸设置于所述密封口下方，所述密封气缸的输出端上安装密封挡板，所述密封挡板用于阻挡密封口，所述密封腔另一侧面上分别设置第二接头和压力传感器，所述第二接头和压力传感器平行设置，自动化清洗，效率高，成本低，不良率底，同时实现了生产腔室氧气浓度300ppm，具有良好的市场应用价值。
一种动态密封结构具有等离子清洗

[发明专利]一种晶圆快速加热和冷却的装置及方法-CN202211631101.X在审
发明人：李高勇;高友浪;张翔 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2022-12-19 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及半导体集成电路制造技术领域，并提供一种晶圆快速加热和冷却的装置及方法，包括第一密封腔、中转模组、加热冷却模组和运动模组；所述中转模组设置于所述第一密封腔的一侧，所述加热冷却模组嵌设于所述第一密封腔的内部，所述运动模组位于所述加热冷却模组的底部，所述加热冷却模组包括第二密封腔、加热盘组件和支撑组件；所述第二密封腔设置于所述第一密封腔的内部，所述加热盘组件设置于所述第一密封腔的上部，所述加热盘组件的底部与所述运动模组的工作端连接，所述支撑组件位于所述加热盘组件的内侧，并且与所述第二密封腔的上部连接，加热冷却模组集成对晶圆加热和冷却，减少晶圆中转时间，同时降低制造成本和使用成本。
一种快速热和冷却装置方法

[实用新型]一种用于密封腔保护气体的密封机构-CN202221298606.4有效
发明人：杨恒;高友浪 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2022-05-26 - 公布日： 2022-10-04 - 主分类号： F16J15/06 文献下载
摘要：实用新型涉及半导体技术领域，并提供了一种用于密封腔保护气体的密封机构，包括密封装置；所述密封装置包括固定底板、气缸安装板、气缸和密封门板；所述密封门板与所述气缸的工作端连接；所述气缸安装板远离所述固定底板的一侧设置为斜面，所述斜面与所述气缸的固定端连接；所述气缸固定在所述斜面上，从而使所述气缸与所述固定底板形成夹角，通过所述气缸倾斜推动所述密封门板上升既有向上推力又有正压力压紧所述密封开口，从而实现所述密封腔的密封；所述固定底板的一侧与所述气缸安装板的一端连接；密封装置封闭响应速度快，动作稳定，具有良好的市场应用价值本。
一种用于密封保护气体机构

[实用新型]一种用于Load Port对接多类型晶圆盒的快换机构-CN202221226045.7有效
发明人：杨恒;黎威博;高友浪 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2022-05-21 - 公布日： 2022-09-20 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本实用新型涉及半导体技术领域，并提供一种用于Load Port对接多类型晶圆盒的快换机构，包括气路对接板、对接吸盘、电信号对接板和磁吸端子连接器，对接吸盘的接触晶圆盒面板端的内部设置橡胶吸盘，橡胶吸盘的连接端与对接吸盘的固定端连接，橡胶吸盘用于对接晶圆盒面板的内部气路；对接吸盘的连接端固定设置于气路对接板的接触晶圆盒面板端，对接吸盘用于晶圆盒面板的固定；磁吸端子连接器的连接端固定设置于电信号对接板的接触晶圆盒面板端，磁吸端子连接器用于对接晶圆盒面板的内部的电路；本实用新型在同一台Load Port上兼容FOUP和Cassette等多种类型晶圆盒，用于快速切换多种晶圆盒面板，进而快速对接不同类型晶圆盒；切换晶圆盒面板时，无需人工接线、接管。
一种用于 load port 对接类型晶圆盒机构

[发明专利]一种晶圆中心位置对正及身份识别设备及校正方法-CN202210577195.0在审
发明人： 高友浪;张翔 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2022-05-25 - 公布日： 2022-09-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶圆中心位置对正及身份识别设备及校正方法，包括旋转装置、检测传感器和字符识别相机，所述旋转装置用于承载晶圆并带动晶圆旋转，所述检测传感器设置于所述旋转装置一侧，用于检测晶圆圆周侧的缺口位置，所述字符识别相机设置于所述旋转装置一侧，用于检测读取晶圆底面字符信息；相对于现有技术的有益效果是，采用上述方案，本发明在晶圆旋转装置上即可实现晶圆的偏心位置查找和字符信息的读取，节省空间，降低成本，在晶圆对位平台和搬运机器人的配合下，完成晶圆位置校正，校正方法及控制逻辑简化，有效提高了生产效率。
一种中心位置身份识别设备校正方法

[发明专利]一种晶圆平面位置校正及字符识别设备-CN202210636842.0在审
发明人： 高友浪;张翔 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2022-06-07 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明涉及半导体行业晶片制造领域，本发明公开了提供了一种晶圆平面位置校正及字符的识别设备，包括对晶圆进行平面校正的识别机构、对晶圆缺口位置识别的检测传感器和对晶圆的字符信息进行读取的检测相机；所述检测传感器和检测相机平行设置，所述检测传感器左侧设置识别机构，所述识别机构上的旋转轴带动晶圆在所述检测传感器的感应范围内进行旋转和停止，所述检测传感器一侧设置的检测相机对停止后的晶圆字符的信息进行检测读取；在晶圆对位平台模块下即可实现晶圆的偏心位置查找和字符信息的读取，降低成本；在晶圆对位平台模块下即可实现晶圆位置校正补偿；具有良好的有益效果。
一种平面位置校正字符识别设备

[实用新型]一种用于半导体的多功能加热台-CN202220363041.7有效
发明人： 高友浪;张翔 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2022-02-23 - 公布日： 2022-06-17 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于半导体的多功能加热台，包括加热台，所述加热台上设有吸盘、加热板、上夹板、加热丝、下夹板和安装板，所述加热板设置于所述吸盘的下方，所述上夹板与所述下夹板相对设置，所述加热丝设置于所述上夹板与所述下夹板之间，所述上夹板设置于所述加热板的下方，所述安装板设置于所述下夹板的下方，精度高，加热均匀，不良品少，成本低，同时可以保证在设备维修时将晶圆加热台快速降温，最后还可以保证晶圆加热台安装在设备上后减少热量传导到设备上，具有良好的市场应用价值。
一种用于半导体多功能加热

[实用新型]一种高洁净等级环境下半导体加热台升降及温度保护机构-CN202220005808.9有效
发明人： 高友浪;张翔 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2022-01-05 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高洁净等级环境下半导体加热台升降及温度保护机构，包括底板，所述底板上垂直贯穿设置有升降机构，所述升降机构上滑动设置有Z轴连接块，所述Z轴连接块顶面设置有隔热机构，所述隔热机构顶部设置有加热台，所述底板上环绕所述升降机构垂直设置有多根产品支撑杆，多根所述产品支撑杆顶端分别贯穿并滑动连接所述加热台；采用上述方案，本实用新型的升降机构将加热台在竖直方向上提升与下降，保证产品在所需的高度下完成相应工艺，提高产品的良率；利用机械结构以及气体循环，保证了降低机械结构温度的同时，实现冷却气的管理，避免了气体乱流，造成环境污染；保证产品生产过程中产品的洁净度，保证产品的良率。
一种洁净等级环境半导体加热升降温度保护机构

[实用新型]一种Wafer与Tape Wafer通用顶升机构及具有其的等离子清洗机-CN202220006593.2有效
发明人： 高友浪;张翔 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2022-01-05 - 公布日： 2022-06-03 - 主分类号： H01L21/687 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种Wafer与Tape Wafer通用顶升机构及具有其的等离子清洗机，包括底板，所述底板顶面中部设置有晶圆支撑机构，对应所述晶圆支撑机构中部在所述底板上垂直贯穿设置有顶升机构，所述顶升机构连接所述晶圆支撑机构，所述晶圆支撑机构上方设置有蓝膜支撑机构；相对于现有技术的有益效果是，采用上述方案，本实用新型不但能使得平台同时能生产Wafer，还可以生产Tape Wafer，同时Tape Wafer上的DAF不受损坏，升降机构将Wafer支撑台在垂直方向上提升与下降，保证Tape Wafer和Wafer与Plasma的清洗高度在1mm以内，提升半导体领域的生产工艺和良品率，具有很好的市场应用价值。
一种 wafer tape 通用机构具有等离子清洗

[发明专利]一种在线式大气等离子晶圆清洗设备-CN202210007988.9在审
发明人： 高友浪;张翔;杨恒;李钟玲 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2022-01-06 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：本发明公开了一种在线式大气等离子晶圆清洗设备，包括清洗框架和设置于所述清洗框架内的供料机构、搬运机构、识别定位机构、清洗机构、密封机构、三轴移送机构和清洗工作台，所述供料机构、搬运机构、识别定位机构均设置于所述清洗框架的前端，所述搬运机构设置于所述清洗框架的前端左侧，所述识别定位机构设置于所述清洗框架的前端右侧，所述密封机构设置于所述清洗框架的后端；本发明能够同时实现裸晶圆或者背膜晶圆的清洗工作，通过在线自动充气，随时保持清洗环境处于低氧环境下，大大节省空气置换等待时间，通过设置清洗框架、密封机构和清洗工作台，使清洗环境处于无尘等级，完全替代人工操作，具有良好的市场应用价值。
一种在线大气等离子清洗设备

[实用新型]一种半导体设备密封腔-CN202122932595.2有效
发明人： 高友浪;王本正;杨恒;张翔 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2021-11-26 - 公布日： 2022-04-08 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半导体设备密封腔，设有上腔室、下腔室、进气接口、自动密封门、维修操作门和排气管；所述下腔室安装在所述上腔室的下方，所述上腔室和下腔室连接位置设有机械密封装置；所述上腔室的顶面均匀分布有进气接口，所述自动密封门和维修操作门设置在上腔室的侧面；所述上腔室的侧面设有压差感应器；所述排气管安装在所述下腔室的底面，所述排气管的末端设有排气阀；所述上腔室的上部设有进气扩散板，所述下腔室的下部设有排气收集板；本实用新型在可以保持良好的密封性，腔内环境与外界环境分离，腔内可以保持高洁净度，填充保护气体后可以避免出现回流、乱流等问题，减少外界气体进入密封腔。
一种半导体设备密封

[外观设计]等离子清洗设备-CN202130682460.8有效
发明人： 高友浪;张翔 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2021-10-18 - 公布日： 2022-02-25 - 主分类号： 15-05 文献下载
摘要：1.本外观设计产品的名称：等离子清洗设备。2.本外观设计产品的用途：用于等离子去除产品金属氧化物或者有机物等离子处理和等离子体表面清洗设备。3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图。5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略仰视图。
等离子清洗设备

[实用新型]一种隔绝空气供料系统-CN202022003072.5有效
发明人：黄永宁;高友浪;李钟铃 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2020-09-14 - 公布日： 2021-07-30 - 主分类号： B05C11/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种隔绝空气供料系统，包括供料气缸、左辅助气缸、右辅助气缸、安装座、定位板、连接板、换向阀及控制器，供料气缸固定在安装座的中部，左辅助气缸和右辅助气缸分别安装在供料气缸的左右两侧；左辅助气缸、供料气缸和右辅助气缸的上部均通过定位板固定；左辅助气缸、供料气缸和右辅助气缸的活动端均与连接板连接，并通过连接板联动；换向阀安装在定位板上，换向阀通过气管与左辅助气缸和右辅助气缸的气口连接，控制器与换向阀连接；该方案结构简单，使用方便，操控性强，可连续工作，节省人工，在供料过程中将胶水与空气完全隔绝，避免因胶水与空气接触导致胶水性质变化，提升点胶品质，具有很好的市场应用价值。
一种隔绝空气供料系统

[实用新型]一种用于等离子清洗设备的废气处理装置-CN202021942423.2有效
发明人： 高友浪;杨恒 -专利权人：深圳市轴心自控技术有限公司
申请日： 2020-09-08 - 公布日： 2021-05-11 - 主分类号： B01D53/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种用于等离子清洗设备的废气处理装置，包括机架和废气处理装置，所述废气处理装置安装在机架的上表面，所述废气处理装置包括废气收集外罩、活性炭过滤网和波纹管，所述废气收集外罩固定在在所述机架上，所述活性炭过滤网设置在所述废气收集外罩内部，所述废气收集外罩底部开设有通气孔，所述机架的上表面与通气孔对应位置处开设有圆孔，所述波纹管的一端与通气孔通过底部安装接口连接，所述波纹管的另一端与外部风机通过风机接口连接；本实用新型实用性高，有效地改善了工作环境的空气，避免了有害气体损害工作人员，具有良好的市场应用价值。
一种用于等离子清洗设备废气处理装置

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