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- [实用新型]蜘蛛人吊臂装置-CN202220865130.1有效
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刘海栋;周东;高佳;罗旭文;何蔚鹏;黄毅然;郭华;张彬
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中建八局浙江建设有限公司
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2022-04-14
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2022-10-11
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E04G3/34
- 本实用新型公开了一种蜘蛛人吊臂装置，包括吊臂基座(3)、支臂立柱(51)、支臂横梁(52)、支臂斜梁(53)、吊点装置(6)和索具(7)；吊臂基座固定在建筑结构顶部，支臂立柱下部与吊臂基座可升降调节式连接，支臂横梁的一端与支臂立柱的上端固定连接，支臂横梁的另一端水平延伸至建筑结构的外立面幕墙的外侧，支臂斜梁倾斜连接在支臂立柱与支臂横梁之间，支臂斜梁与支臂立柱和支臂横梁形成三角形支架结构；吊点装置可平移调节式连接在支臂横梁的另一端上，索具的上端固定连接在吊点装置上，且索具悬挂与外立面幕墙的外侧。本实用新型能调节吊臂的外挑长度和吊臂的高度，提高吊臂的使用灵活性和安全性。
- 蜘蛛吊臂装置
- [实用新型]塑胶溅射镀膜设备-CN202220299999.4有效
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高佳
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东莞市峰谷纳米科技有限公司
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2022-02-15
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2022-09-23
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C23C14/35
- 本实用新型公开了塑胶溅射镀膜设备，包括结构主体，所述结构主体包括送料装置与溅射镀膜装置，所述溅射镀膜装置包括周转室、第一溅射室、第二溅射室、第三溅射室以及第四溅射室，所述周转室设于溅射镀膜装置的中间，所述第一溅射室、第二溅射室、第三溅射室以及第四溅射室依次围绕周转室而设置，所述第一溅射室的外部设有低压溅射机构，所述第二溅射室的外部设有第一磁控溅射机构、第二磁控溅射机构以及第三磁控溅射机构，所述第三溅射室的外部设有第四磁控溅射机构、电感耦合等离子光谱发生仪以及第五磁控溅射机构，所述第四溅射室的外部设有第一RF离子源清洗机构、第六磁控溅射机构以及第七磁控溅射机构。
- 塑胶溅射镀膜设备
- [发明专利]吊顶灯槽构造及其施工方法-CN202210824601.9在审
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刘海栋;高佳;何蔚鹏;付章勇;黄毅然;韩伟
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中建八局浙江建设有限公司
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2022-07-13
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2022-09-20
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E04B9/00
- 本发明公开了一种吊顶灯槽构造及其施工方法，该构造包括：多根第一吊杆，可升降地安装有连接件，天花板通过第二吊杆安装有设置于第一吊杆的下方的吊顶龙骨，吊顶龙骨安装有吊顶板，吊顶板开设有透光孔，多根第一吊杆沿透光孔的周向方向设置，连接件的下部连接于吊顶龙骨；灯槽龙骨，连接于连接件的上部；安装于连接件的内侧的阻燃灯箱，阻燃灯箱搁置于吊顶板，阻燃灯箱的底部开设有对准于透光孔的投光孔，投光孔的孔径自投光孔的下端向投光孔的上端逐渐增大，阻燃灯箱的内腔的底部形成有安装槽，内腔以及投光孔的内壁分别涂覆有散光涂层；以及灯带，安装于安装槽中。本发明解决了现有吊顶灯具不能较好的提高用户的观感及心理舒适度的问题。
- 吊顶构造及其施工方法
- [实用新型]晶体棒测试装置-CN202221157114.3有效
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高佳;赵海泉;张芳;王世武;李建宏
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青岛海泰光电技术有限公司
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2022-05-16
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2022-09-20
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G01N21/31
- 本实用新型提供一种晶体棒测试装置，包括：基座：其上设置有安装槽；所述基座可被安装至分光光度计；垫片：安装在基座的安装槽内；晶体棒支座：安装在基座的安装槽内，位于垫片的上方；晶体棒支座的上端面开有晶体棒安装槽；光阑：安装在晶体棒支座的侧面，其上设置有光阑孔，所述光阑的安装位置被配置为，当光阑安装在晶体棒支座、晶体设置在晶体棒安装槽后，光阑孔的中心与晶体棒的中心相对。所有部件之间均可拆卸，部件尺寸可选。根据被测晶体棒截面尺寸的大小，光阑小孔的尺寸不同，配合相应厚度的垫片，保证小孔的中心与晶体棒的中心同轴。
- 晶体测试装置
- [发明专利]一种表面清洗氧化方法-CN202110247594.6在审
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高佳
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东莞市峰谷纳米科技有限公司
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2021-03-06
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2022-09-06
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B08B3/00
- 本发明是一种表面清洗氧化方法，包括以下步骤：S1、将待处理产品表面进行粗清洗，将粗清洗后的待处理产品吹干；S2、将粗清洗后待处理产品放置入真空腔中，对真空腔进行抽真空；S3、向真空腔内通入惰性气体，真空腔中真空度范围为5pa‑0.05pa，通入惰性气体速度范围为10‑5000sccm；S4、对石墨电极进行通电，通电电压范围为200‑5000v；S5、向真空腔中通入活性气体，通入活性气体的速度范围为10‑5000sccm；本发明中采用石墨电极作为靶源，对惰性气体与活性气体进行电离，解决了金属电极作为靶源对待处理产品表面清理造成表面沉积的问题，有效提升了待处理产品的表面达因值；采用惰性气体与活性气体同时对待处理产品表面进行清理，可使清洗后待处理产品表面洁净度达到99.9%。
- 一种表面清洗氧化方法
- [发明专利]一种电路板生产方法-CN202110247599.9在审
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高佳
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东莞市峰谷纳米科技有限公司
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2021-03-06
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2022-09-06
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H01L21/02
- 本发明是一种电路板生产方法，包括以下步骤：S1、将刻蚀电路板用晶圆表面进行粗清洗；S2、将粗清理后晶圆放置入真空腔中，对真空腔进行抽真空，真空腔中真空度范围为5pa‑2pa；S3、向真空腔内通入惰性气体，通入惰性气体速度范围为10‑5000sccm，对石墨电极进行通电，通电电压范围为200‑5000v；完成一次清洗；本发明中采用石墨电极作为靶源，对惰性气体与活性气体进行电离，解决了金属电极作为靶源对电路板表面清理造成损伤的问题，有效提升了电路板的表面达因值；采用惰性气体与活性气体同时对电路板表面进行清理，可使清理后电路板表面膜氧化率达到99.9%，对晶圆表面进行两次清理，确保晶圆的表面洁净度，提升了电路板的使用效果。
- 一种电路板生产方法
- [发明专利]一种表面氧化方法-CN202110247606.5在审
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高佳
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东莞市峰谷纳米科技有限公司
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2021-03-06
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2022-09-06
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C23C14/35
- 本发明是一种表面氧化方法，包括以下步骤：S1、将产品表面进行粗清理，将粗清理后产品吹干；S2、将粗清理后产品放置入真空腔中，真空腔中设置有隔离板，隔离板将真空腔分为溅射腔室与氧化腔室，对真空腔进行抽真空，真空腔中真空度范围为5pa‑0.05pa；S3、向溅射腔室内通入惰性气体，通入惰性气体速度范围为10‑5000sccm，向氧化腔室中通入活性气体及惰性气体，通入气体的速度范围为10‑5000sccm；本发明中采用石墨电极作为氧化靶源，对惰性气体与活性气体进行电离生成氧离子、氧化合物，产品在高速旋转前提下，先溅射后氧化实施；分步对完成溅射镀膜的产品表面进行氧化处理，可使镀膜的产品氧化率达到99.9%。
- 一种表面氧化方法
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