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[发明专利]羟腈含有液的制造方法和羟腈含有液的制造装置-CN201780042170.8有效
发明人：青木隆典;青木英雅 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2017-09-12 - 公布日： 2022-01-11 - 主分类号： C07C253/00 文献下载
摘要：本发明的目的是提供能够容易地制造反应原料等的杂质含量少的羟腈含有液的方法和适合该方法的装置。本发明的羟腈含有液的制造方法，含有下述工序1～4，工序1：使原料羰基化合物和原料氰化剂反应而得到含有羟腈的反应液的工序，工序2：将工序1得到的反应液供给至蒸馏装置，对该反应液进行蒸馏的纯化工序，工序3：对所述蒸馏装置中的液体中含有的、羰基化合物的摩尔浓度和氰化剂的摩尔浓度中的至少一者、以及羟腈的摩尔浓度进行计测的工序，工序4：基于该计测结果来控制纯化工序的工序。
羟腈含有制造方法装置

[发明专利]乳腈含有液的制造方法和乳腈含有液-CN201780043611.6有效
发明人：青木隆典;青木英雅 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2017-09-12 - 公布日： 2021-12-21 - 主分类号： C07C253/08 文献下载
摘要：本发明涉及乳腈含有液的制造方法和乳腈含有液，该乳腈含有液的制造方法包含使氰化剂与常压下沸点25℃以上的成分的含量为300质量ppm以下的纯化乙醛反应的工序。
含有制造方法

[发明专利]羟腈含有液的制造方法-CN201780042171.2在审
发明人：青木隆典;青木英雅 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2017-09-12 - 公布日： 2019-03-15 - 主分类号： C07C253/00 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供羟腈的收率提高了的羟腈含有液的制造方法。本发明的羟腈含有液的制造方法，含有下述工序1～4，工序1：将原料羰基化合物和氰化剂供给反应器的工序，其中将原料羰基化合物和氰化剂中的至少一者连续地进行供给，工序2：在反应器中使由工序1供给进来的原料羰基化合物和氰化剂反应，而得到反应液的工序，工序3：对所述反应液中含有的、原料羰基化合物的摩尔浓度和氰化剂的摩尔浓度中的至少一者的浓度、以及羟腈的摩尔浓度进行计测的工序，工序4：基于工序3的结果来控制在工序1中供给到反应器中的原料羰基化合物和氰化剂中的至少一者的摩尔浓度的工序。
羰基化合物氰化剂羟腈反应器制造计测收率

[发明专利]制备β-巯基羧酸类化合物的方法-CN200980108312.1有效
发明人： 青木英雅;黑岩昭男;涉谷彰 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2009-03-11 - 公布日： 2011-02-02 - 主分类号： C07C319/04 文献下载
摘要：本发明的目的是提供一种由易得的α，β-不饱和羧酸类化合物以高收率和生产率工业化生产β-巯基羧酸类化合物的方法，该β-巯基羧酸类化合物可用作药物和农用化学品的合成原料或作为聚合化合物的添加剂。本发明的特征在于在α，β-不饱和羧酸类化合物与硫化氢反应制备β-巯基羧酸类化合物时使用具有酰胺基和由式(1)代表的溶剂。尤其是，更优选在6.0-8.5的pH值进行反应。(在式(1)中，R¹代表氢原子、具有1至5个碳原子的烷氧基、具有1至5个碳原子的烷基、氨基和具有1至5个碳原子的烷基氨基中的任意一种；R²和R³各自独立地代表氢原子和具有1至5个碳原子的烷基中的任意一种；当R²和R³都不是氢原子时，R²和R³可以一起通过亚烷基形成环结构；并且当R¹和R²都不是氢原子时，R¹和R²可以通过亚烷基形成环结构。)
制备巯基羧酸化合物方法

[发明专利]制备β-巯基羧酸类化合物的方法-CN200880107962.X无效
发明人：涩谷彰;青木英雅 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2008-09-19 - 公布日： 2010-08-11 - 主分类号： C07C319/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种有效制备β-巯基羧酸类化合物的方法，该方法使用诸如沸石的固体酸催化剂，产物对应于选自α，β-不饱和羧酸类化合物(α，β-不饱和羧酸、α，β-不饱和羧酸酯、α，β-不饱和酰胺、α，β-不饱和醛和α，β-不饱和酮)和氢硫化物(硫化氢、硫化物盐和氢硫化物盐)的相应起始材料，在反应中使用与水相容的溶剂。根据本发明，作为在用于药物或农用试剂的合成材料中和聚合物化合物中的有用添加剂的β-巯基羧酸类化合物可通过使用易得的α，β-不饱和羧酸(例如巴豆酸)以高收率有效工业化制备。
制备巯基羧酸化合物方法

[发明专利]毛发处理剂和烫发方法-CN200910171912.4有效
发明人：涩谷彰;青木英雅;斋藤信;蒲池元昭;土屋笃史;冈村彰郎 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-12-20 - 公布日： 2010-03-17 - 主分类号： A61K8/49 文献下载
摘要：本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂，其对皮肤几乎不造成刺激，并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水，并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由-O-、-S-、-NH-和-NR¹-组成的组的结构；R¹是1-6个碳原子的烷基；Y是氧原子或硫原子；在式(1)中，Z是具有至少一个巯基的二价有机残基；在式(2)中，R是任选地具有巯基的二价有机残基，R²是氢原子或1-6个碳原子的烷基。
毛发处理烫发方法

[发明专利]杂环巯基化合物的生产方法-CN200780019825.6有效
发明人：万谷慎一;青木英雅 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2007-05-28 - 公布日： 2009-06-10 - 主分类号： C07D207/26 文献下载
摘要：本发明的方法使用易得的原材料，高产量和高产率地在工业上生产用作药物或杀虫剂合成中的原材料或中间物、或用作烫发剂的杂环巯基化合物。如下制备式(1)所示的杂环巯基化合物(其中X表示-O-、-S-、-NH-和-NR¹-中的任何结构；R¹表示各具有1至6个碳原子的烷基、烷氧基和烷氧基烷基中的任何基团；Y表示氧原子、硫原子或-NR²-；R²表示氢原子或具有1至6个碳原子的烷基；Z¹表示具有至少一个巯基的二价有机残基)：在存在溶剂的情况下在7.0至11.0的pH值使金属硫化物或金属氢硫化物与式(2)所示的化合物(其中X和Y与式(1)中定义相同；Z²表示具有至少一个卤素基团的二价有机残基)反应。
巯基化合物生产方法

[发明专利]毛发处理剂和烫发方法-CN200580043646.7有效
发明人：涩谷彰;青木英雅;斋藤信;蒲池元昭;土屋笃史;冈村彰郎 -专利权人：昭和电工株式会社
申请日： 2005-12-20 - 公布日： 2007-12-05 - 主分类号： A61K8/49 文献下载
摘要：本发明提供了一种即使在中性到弱酸性的pH范围内也能够烫发的毛发处理剂，其对皮肤几乎不造成刺激，并且该毛发处理剂中令人不愉快的气味被掩蔽。毛发处理剂含有至少一种式(2)表示的化合物。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物和至少一种选自巯基乙酸、硫羟乳酸、半胱氨酸、乙酰基半胱氨酸、半胱胺、酰基半胱胺、它们的盐和它们的酯衍生物的化合物(ii)。毛发处理剂含有式(2)表示的化合物、表面活性剂和水，并且被乳化。毛发处理剂含有式(2)的化合物和特定的香料。其中X是选自由－O－、－S－、－NH－和－NR¹－组成的组的结构；R¹是1－6个碳原子的烷基；Y是氧原子或硫原子；在式(1)中，Z是具有至少一个巯基的二价有机残基；在式(2)中，R是任选地具有巯基的二价有机残基，R²是氢原子或1－6个碳原子的烷基。
毛发处理烫发方法

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