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[发明专利]多色调光掩模的制造方法和图案转印方法-CN201110135088.4有效
发明人： 长岛奖 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2011-05-24 - 公布日： 2011-11-30 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明提供多色调光掩模的制造方法和图案转印方法，既能利用抗蚀剂图案的减膜来削减绘图和显影的次数，又能提高疏密部分之间的抗蚀剂图案的减膜速度的面内均匀性。所述制造方法具有如下步骤：形成第1抗蚀剂图案，该第1抗蚀剂图案覆盖遮光部的形成区域和半透光部的形成区域，且半透光部的形成区域中的抗蚀剂膜的厚度比遮光部的形成区域中的抗蚀剂膜的厚度薄；以及向第1抗蚀剂图案供给臭氧，对第1抗蚀剂图案进行减膜，其中，按照以下方式供给臭氧：提供给第1抗蚀剂图案的每单位面积的活性氧的供给量大于对第1抗蚀剂图案进行减膜而消耗的每单位面积的活性氧的消耗量。
多色调光制造方法图案

[发明专利]多色调光掩模的制造方法和图案转印方法-CN201110135517.8有效
发明人： 长岛奖 -专利权人： HOYA株式会社
申请日： 2011-05-24 - 公布日： 2011-11-30 - 主分类号： G03F1/14 文献下载
摘要：本发明提供多色调光掩模的制造方法和图案转印方法，既能利用抗蚀剂图案的减膜来削减绘图和显影的次数，又能提高疏密部分之间的抗蚀剂图案的减膜速度的面内均匀性。所述制造方法具有如下工序：形成第1抗蚀剂图案，该第1抗蚀剂图案覆盖遮光部的形成区域和半透光部的形成区域，且半透光部的形成区域中的抗蚀剂膜的厚度比遮光部的形成区域中的抗蚀剂膜的厚度薄；以及向第1抗蚀剂图案供给活性氧，对第1抗蚀剂图案进行减膜，其中，通过露出的半透光膜来消耗提供给第1抗蚀剂图案的活性氧的一部分。
多色调光制造方法图案