专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]低辐射玻璃退火装置-CN201880016398.4有效
  • 金仙株;河载均;朴在雄;卢俊亨 - 株式会社考恩斯特
  • 2018-09-06 - 2022-10-11 - C03C23/00
  • 本发明公开一种低辐射玻璃退火装置。该装置包括:输送装置,输送形成有镀膜的玻璃基板;激光模组,设置在所述输送装置的路径上的一个位置,向所述玻璃基板以与所述玻璃基板一定的角度照射激光束;及一对反射镜,向激光束照射方向在所述玻璃基板与激光束相遇的地点的前侧玻璃基板的上、下位置设置,使得激光束反射光或激光束透射光反射,并使得反射面相对地设置。根据本发明通过激光模组的玻璃基板加热,制造低辐射镀膜的同时抑制因热冲击的损伤,并提高能源效率。
  • 辐射玻璃退火装置
  • [发明专利]利用激光的光刻胶图案修整方法-CN202080003351.1在审
  • 朴在雄;朴勋;金甫谦;卢俊亨;全在赫;金仙株 - 株式会社考恩斯特
  • 2020-09-14 - 2021-08-03 - B23K26/362
  • 本发明公开了一种利用激光的光刻胶图案修整方法,包括:检查在工艺基板的加工对象物质层上形成的光刻胶图案而检测图案异常的步骤;限定于包括作为图案异常的光刻胶图案被破坏部分的部分,通过图案印刷来再形成光刻胶层的步骤;在所设计的图案以外的部分通过激光照射来去除光刻胶层的步骤;在光刻胶图案存在下实施蚀刻工艺等后续工艺的步骤。根据本发明,通过对在包括曝光和显影的光刻胶图案形成工艺中形成的光刻胶图案进行检查,在发生异常图案时,通过由限定于包括断线的图案异常部分的图案印刷的光刻胶层再形成及借助激光照射的加热、去除,在不进行另外的掩模曝光或显影工艺的情况下,形成光刻胶正常图案,从而能够低廉且简单地解决在光刻胶图案形成过程中的不良。
  • 利用激光光刻图案修整方法
  • [发明专利]激光退火装置-CN201880095618.7在审
  • 金仙株;河载均;苏裕真 - 株式会社考恩斯特
  • 2018-09-06 - 2021-02-26 - H01L21/67
  • 本发明提供一种激光退火装置,其包括:激光光源,其放射激光;激光整形部,其接收从所述激光光源放射的激光,并以既定的大小及形态的线光束整形;成像光学系统,其使整形的激光通过后集束,并向退火对象物基板照射;基台,其装载所述基板并使其与基板面平行地在平面上移动,并且,还包括激光补正部,其检查从所述激光光源放射的激光到达至所述基板的激光状态及路径,并根据检查结果补正激光的状态及路径。根据本发明能够补正在激光光源及路径上的光学要素的不稳定性引起的激光的路径或状态的变化,从而,能够准确地在基台上的基板的准确位置进行为激光退火的光照射。
  • 激光退火装置

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