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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用复合片、及带保护膜的工件加工物的制造方法-CN202211110452.6在审
发明人： 野岛一马 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2022-09-13 - 公布日： 2023-03-21 - 主分类号： C09J133/00 文献下载
摘要：一种保护膜形成膜，当所述保护膜形成膜为固化性时，所述保护膜形成膜的固化物的400～700nm整个波长范围的光的反射率为20％以上，当所述保护膜形成膜为非固化性时，所述保护膜形成膜的400～700nm整个波长范围的光的反射率为20％以上。
保护膜形成复合工件加工制造方法

[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用复合片、带保护膜的工件与带保护膜的工件加工物的制造方法-CN202210842590.7在审
发明人： 野岛一马 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2022-07-18 - 公布日： 2023-03-03 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明涉及保护膜形成膜(13)、具备保护膜形成膜(13)的保护膜形成用复合片、使用了保护膜形成膜(13)或保护膜形成用复合片的带保护膜的工件的制造方法、以及带保护膜的工件加工物的制造方法，所述保护膜形成膜(13)为热固性的保护膜形成膜(13)，即使在保护膜形成膜(13)的表面形成有瑕痕时，也能够使将保护膜形成膜(13)热固化后的保护膜的表面的瑕痕不明显。
保护膜形成复合工件加工制造方法

[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用复合片及晶圆的再生方法-CN202210102491.5在审
发明人： 野岛一马 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2022-01-27 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：一种保护膜形成膜，针对所述保护膜形成膜，进行以空出30mm的间隔的方式把持作为多片所述保护膜形成膜的层叠物的试验片的两处，在所述两处之间将所述试验片沿与其表面平行的方向、以1000mm/分钟的速度拉伸，并测定所述试验片中产生的应力与所述试验片在其拉伸方向上的应变的拉伸试验时，所述应力最初成为0.1N/mm2时的所述应变为0.5％以上，所述应力最初成为0.6N/mm2时的所述应变为200％以下。
保护膜形成复合再生方法

[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用复合片、带保护膜的工件加工物与带保护膜的工件的制造方法-CN202210102767.X在审
发明人： 野岛一马 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2022-01-27 - 公布日： 2022-09-27 - 主分类号： C08L33/08 文献下载
摘要：本发明提供一种保护膜形成膜，其为热固性的保护膜形成膜，其中，以空出20mm的间隔的方式把持为多片所述保护膜形成膜的层叠体的宽4mm的试验片的两处，并在拉伸模式下，以频率为11Hz、升温速度为3℃/分钟、且等速升温的条件，边将所述试验片由‑10℃升温至170℃，边测定所述试验片的储能模量E’，此时在160℃～170℃的整个温度区域中，所述试验片的储能模量E’为1MPa以上。
保护膜形成复合工件加工制造方法

[发明专利]保护膜形成用片及保护膜形成用片的加工方法-CN202110737279.1在审
发明人： 野岛一马;深谷知巳 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2021-06-30 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： C09J7/40 文献下载
摘要：本发明提供一种保护膜形成用片及加工该保护膜形成用片的方法，所述保护膜形成用片即使在使用切割刀片切出保护膜形成膜的情况下，保护膜形成膜与支撑膜之间的浮起的形成也得以抑制。所述保护膜形成用片具有保护膜形成膜、与以可剥离的方式配置于保护膜形成膜的一个主面上的第一剥离膜，23℃下的保护膜形成膜的探针粘性值小于6200mN，23℃下的第一剥离膜的与保护膜形成膜相接的面的表面弹性模量为17MPa以下，探针粘性值与表面弹性模量之积为66000以下。
保护膜形成加工方法

[发明专利]保护膜形成膜、保护膜形成用复合片及装置的制造方法-CN202110047614.5在审
发明人： 野岛一马 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2021-01-14 - 公布日： 2021-08-03 - 主分类号： H01L21/78 文献下载
摘要：本发明提供一种即使在形成有保护膜的芯片等工件的加工品进一步被树脂密封的情况下，也能够提高密封树脂与保护膜之间的粘合可靠性的保护膜形成膜及保护膜形成用复合片、以及使用该保护膜形成用复合片制造装置的方法。所述保护膜形成膜是用于形成保护膜的保护膜形成膜，且以260℃加热5分钟后的保护膜的表面粗糙度Ra1为200nm以下。
保护膜形成复合装置制造方法

[发明专利]保护膜形成用复合片及半导体芯片的制造方法-CN201980075529.0在审
发明人： 野岛一马 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2019-11-27 - 公布日： 2021-06-22 - 主分类号： H01L23/00 文献下载
摘要：本发明将具备支撑片(10)与形成在支撑片(10)的第一面(10a)上的保护膜形成用膜(13)的保护膜形成用复合片(101)中的支撑片(10)侧的最表层的表面电阻率设为1.0×1011Ω/□以下，并在使保护膜形成用膜(13)热固化而形成保护膜后，将所述支撑片(10)侧的最表层的表面电阻率也设为1.0×1011Ω/□以下。
保护膜形成复合半导体芯片制造方法

[发明专利]保护膜形成用膜及保护膜形成用复合片-CN202011052793.3在审
发明人： 野岛一马;米山裕之 -专利权人：琳得科株式会社
申请日： 2020-09-29 - 公布日： 2021-04-09 - 主分类号： C08J5/18 文献下载
摘要：本发明提供一种保护膜形成用膜，利用保护膜的波长2000～3200nm(其中，不包括2701～2999nm)下的吸光度的最大值Xmax与保护膜的150℃下的比热S150，并通过Z150＝Xmax/S150计算出的Z150为0.12以上，利用所述Xmax与保护膜的200℃下的比热S200，并通过Z200＝Xmax/S200计算出的Z200为0.11以上。本发明还提供一种保护膜形成用复合片，其具备支撑片与设置在所述支撑片的一个面上的所述保护膜形成用膜。
保护膜形成复合

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