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专利名称

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申请人
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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]硅胶气凝胶粉末制造系统及制造方法-CN201210458989.1有效
发明人：杨兴准;郑领哲;卢明济;朴钟哲;金敏雨;韩春洙;李文炯 -专利权人： JIOS气凝胶有限公司
申请日： 2012-11-14 - 公布日： 2016-10-19 - 主分类号： C01B33/157 文献下载
摘要：本发明涉及以去离子水、水玻璃、有机硅烷化合物、无机酸及有机溶剂为原料制造硅胶气凝胶粉末的硅胶气凝胶粉末制造系统及制造方法，设定了由原料的供给、凝胶化工序、溶剂置换工序、凝胶储藏供给工序、干燥工序及捕集工序等制造工序构成的系统，能够连续大量生产硅胶气凝胶粉末，因此具有显著提高生产性并使硅胶气凝胶粉末制造工序的生产管理也容易的效果。
硅胶凝胶粉末制造系统方法

[发明专利]晶圆载具-CN201080048140.6无效
发明人：林钟显;郑领哲;刘泳钟;金永均;崔铉喆 -专利权人： EMP有限公司
申请日： 2010-08-26 - 公布日： 2012-07-18 - 主分类号： H01L21/673 文献下载
摘要：本发明涉及一种晶圆载具，包括：一对侧板，所述一对侧板具有在其顶端形成的吊孔和插入孔；侧支撑杆，所述侧支撑杆固定在所述侧板的两侧，以使侧板相隔预定的距离，并且具有在内侧沿着长度方向由固定突出部形成的插槽；底部支撑杆，所述底部支撑杆固定在所述侧板的底部，以使侧板相隔预定的距离，并且具有在顶部沿着长度方向由固定突出部形成的插槽；及屏蔽杆，所述屏蔽杆可拆卸地插入所述插入孔中，并且具有在所述屏蔽杆的底部沿着长度方向由固定突出部形成的插槽；其中，形成所述插槽，以使所述插槽的中部低于在所述插槽的底表面的宽度方向上的两端。
晶圆载具

[发明专利]沉积有机化合物的设备和方法以及具有该设备的基底处理装置-CN200680041455.1有效
发明人：卢一镐;崔硕珉;郑领哲 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2006-11-02 - 公布日： 2009-01-07 - 主分类号： C23C14/12 文献下载
摘要：本发明提供了沉积有机化合物的设备，以在基底上沉积预定的有机膜。该设备包括沉积室、设置在沉积室内部并且支撑基底以使基底的沉积表面朝下的支撑构件、在其中安装有有机蒸发器以将有机化合物蒸镀到基底的沉积表面上的蒸发器安装部分，以及与蒸发器安装部分相邻设置的用以更换有机蒸发器的蒸发器更换部分。根据该设备，蒸发有机化合物的有机蒸发器自动更换。
沉积有机化合物设备方法以及具有基底处理装置

[发明专利]捕集碳纳米管的设备以及制备碳纳米管的系统和方法-CN200710130175.4有效
发明人：张硕元;郑领哲 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2007-07-20 - 公布日： 2008-02-13 - 主分类号： C01B31/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种碳纳米管制备系统。该碳纳米管制备系统包括反应管，其中供应有金属催化剂和含碳气体并通过热解在该金属催化剂上生长碳纳米管；排放管道，沿该排放管道从该反应管排放含有在该金属催化剂上生长的碳纳米管的气体；以及碳纳米管捕集设备，其安装在该排放管道上并用于借助于磁力捕集在该金属催化剂上生长的碳纳米管。
捕集碳纳米设备以及制备系统方法

[发明专利]基底处理装置-CN200610002822.9有效
发明人：安基喆;郑领哲;河泰荣;张祯元;卢一镐;李承培 -专利权人：细美事有限公司
申请日： 2006-02-06 - 公布日： 2006-10-04 - 主分类号： H01L21/677 文献下载
摘要：一种在用于有机发光二极管的基底上形成薄层的基底处理装置，该装置包括掩模安装室、沉积室和掩模拆卸室。所述掩模安装室、沉积室和掩模拆卸室的内部安装有传送导轨，而且，用于支撑基底的基底支架沿着传送导轨在这些室内或这些室之间移动。因此，缩短了用于处理基底的时间，并减小了上述装置所占的面积。另外，将上述这些室分成一个或多个组，并在分组的室之间安装闸门阀，以用于打开和关闭分组的室之间的通道。因此，在维修任意室时，其它室可以继续维持为真空状态。
基底处理装置

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