专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种土壤重金属检测用微波消解仪-CN202320948806.8有效
  • 邹德明;邱俊娟 - 通辽环保投资有限公司
  • 2023-04-23 - 2023-10-13 - G01N1/44
  • 本实用新型公开了一种土壤重金属检测用微波消解仪,涉及微波消解仪技术领域其结构包括微波消解仪箱、微波消解仪箱前侧左端安装有箱门、微波消解仪箱前侧右端安装有控制面板、微波消解仪箱内部底端右侧与微波消解仪主体底部固定连接,通过设置了驱动机构,使得驱动机构既可以驱动试管移动固定机构进行前后移动,还可以驱动试管移动固定机构进行旋转,使得操作土壤重金属检测用微波消解仪变得简单,提高土壤重金属检测用微波消解仪的实用性,通过设置了试管移动固定机构,使得试管的上下两端动可以被固定住,避免在剧烈旋转试管时只固定住试管的一端而导致试管中的土壤样本被甩出,导致检测出的数据存在较大的误差。
  • 一种土壤重金属检测微波消解
  • [实用新型]应用于磨抛机工件防甩出的控制电路-CN202222563515.5有效
  • 张习兵;邹德明;姚春凤 - 无锡市锡斌光电设备有限公司
  • 2022-09-27 - 2023-05-09 - B24B55/00
  • 本实用新型公开了应用于磨抛机工件防甩出的控制电路,涉及研磨抛光领域,包括用于控制主轴转动的主轴模块、用于控制摆轴摆动的摆轴模块、用于控制气缸工作的气缸模块和控制模块;与主轴模块控制模块电性连接;摆轴模块与控制模块电性连接;气缸模块与控制模块电性连接;控制模块上设置有开关;关闭开关,控制模块会控制:主轴模块工作使得主轴停转、摆轴模块工作使得摆轴停转、气缸模块在十秒后工作使得气缸在十秒后泄压。本实用新型提供的应用于磨抛机工件防甩出的控制电路,解决了在工件抛光完成后可能出现工件飞出产生危险的问题,通过优化电路,在不增加工作人员学习成本的前提下,使得工件不会在加工后从抛光盘上飞出。
  • 应用于机工件防甩出控制电路
  • [实用新型]应用于抛光机的顶针机构-CN202222563534.8有效
  • 张习兵;邹德明;姚春凤 - 无锡市锡斌光电设备有限公司
  • 2022-09-27 - 2023-05-05 - B24B41/06
  • 本实用新型公开了应用于抛光机的顶针机构,涉及研磨抛光领域,包括顶针和用于固定顶针的顶针座;顶针可拆卸固定在顶针座上;顶针座可调节顶针的轴线相对于水平面的角度。本实用新型提供的应用于抛光机的顶针机构,解决了现有技术中工件相对于抛光盘相对抛光盘位移时顶针会使得工件朝向抛光盘球形凹槽中心偏移的问题,使得在工件相对于抛光盘相对位移时,时刻保持顶针顶紧工件,保证工件球形抛光面被均匀的研磨而不发生偏移,从而提高加工后工件表面的抛光品质。
  • 应用于抛光机顶针机构
  • [实用新型]一种智能环抛机磨盘水冷装置-CN202223193993.8有效
  • 张习兵;邹德明;姚春凤 - 无锡市锡斌光电设备有限公司
  • 2022-11-30 - 2023-04-28 - B24B29/00
  • 本实用新型提供的一种智能环抛机磨盘水冷装置,涉及光学冷加工技术领域;包括磨盘、磨盘座和旋转主轴;所述磨盘座上表面固定有所述磨盘;所述磨盘的下表面与所述磨盘座的上表面贴合;所述磨盘座下表面连接有旋转主轴;所述磨盘座的上表面开设有螺旋槽;所述螺旋槽围绕所述磨盘座上表面的圆心向所述磨盘座的边缘展开;所述磨盘座在所述螺旋槽靠近磨盘座边缘的部分开设有出水口;所述出水口与所述螺旋槽连通;所述主轴内部开设有通路;所述通路与所述螺旋槽连通。本实用新型解决了现有技术中存在的磨盘盘面温度不均匀导致产品加工有影响的问题,达到实现磨盘整盘冷却,以保证产品表面的光洁度的有益效果。
  • 一种智能环抛机磨盘水冷装置
  • [实用新型]光学镜片夹具组件-CN202223307563.4有效
  • 张习兵;邹德明;姚春凤 - 无锡市锡斌光电设备有限公司
  • 2022-12-09 - 2023-04-25 - B24B13/005
  • 本实用新型公开了光学镜片夹具组件,涉及光学镜片加工设备技术领域,包括用于夹持镜片的夹具、第一转动机构和第二转动机构;夹具可转动固定在第一转动机构上;第一转动机构可转动固定在的第二转动机构上;第一转动机构在第二转动机构上的转动轴线竖直设置;夹具在第一转动机构上的转动轴线水平设置。本实用新型提供的光学镜片夹具组件,解决了现有技术中的光学镜片加工设备多角度加工镜片步骤繁琐的问题;本实用新型提出的设备可以在不更换夹具对镜片进行反复装夹的情况下,调整镜片与抛光盘的夹角,对镜片进行多角度加工。
  • 光学镜片夹具组件
  • [实用新型]一种半球面抛光机-CN202223193988.7有效
  • 张习兵;邹德明;姚春凤 - 无锡市锡斌光电设备有限公司
  • 2022-11-30 - 2023-03-24 - B24B29/02
  • 本实用新型提供的一种半球面抛光机,涉及光学加工技术领域,包括电机、摆轴、摆盘、摇杆和拉杆;摆盘与电机连接;电机带动摆盘绕圆心旋转;摇杆竖直设置;摇杆的下端与摆轴连接;摇杆的上端与拉杆连接固定;拉杆的轴线与摆轴轴线垂直;拉杆远离摇杆的一端固定在摆盘上;拉杆的轴线与摆盘的盘面平行。本实用新型能够解决现有技术中存在的摆架运动轨迹单一重复的问题,实现摆架的弧摆模式,达到对产品更好的研磨抛光效果。
  • 一种半球抛光机
  • [实用新型]双面磨抛机-CN202223143779.1有效
  • 张习兵;邹德明;姚春凤 - 无锡市锡斌光电设备有限公司
  • 2022-11-25 - 2023-02-07 - B24B27/00
  • 本实用新型公开了双面磨抛机,涉及磨抛机设备技术领域,包括用于抛光工件下表面的主磨盘装置、用于抛光工件上表面的上磨盘装置和用于限位工件的工装冶具;工装冶具设置在主磨盘装置的竖直上方;上磨盘装置设置在工装冶具的竖直上方;工装冶具包括冶具移动机构和用于限位工件使得工件加工面保持水平的冶具本体;冶具本体固定设置在冶具移动机构上;冶具移动机构可使得冶具本体移动;固定设置在冶具本体上的工件会随着冶具本体的移动而在水平方向上移动。本实用新型提供的双面磨抛机,解决了现有技术中,工件的双面同时加工时,工件的下表面不能被均匀研磨的问题;本实用新型可以对工件的双面同时进行均匀研磨,提升工件加工后的成品品质。
  • 双面磨抛机
  • [实用新型]一种柱面磨抛机工作台-CN202222780219.0有效
  • 张习兵;邹德明;姚春凤 - 无锡市锡斌光电设备有限公司
  • 2022-10-21 - 2023-01-03 - B24B5/36
  • 本实用新型提供的一种柱面磨抛机工作台,涉及磨抛机技术领域,包括外框和固定台;外框顶部敞口;固定台设置于外框内;固定台与外框的内侧壁之间形成水槽;固定台背离外框内底部的一面与外框的内底面平行;固定台与外框一体成型。本实用新型提供的一种柱面磨抛机工作台,能够解决现有技术中存在的固定范围受限的问题,达到适合各种不同外形尺寸的光学元件凹凸透镜精磨和抛光的有益效果。
  • 一种柱面机工
  • [实用新型]光纤研磨抛光工装-CN202222233952.0有效
  • 张习兵;邹德明;姚春凤 - 无锡市锡斌光电设备有限公司
  • 2022-08-24 - 2022-12-27 - B24B37/00
  • 本实用新型公开了光纤研磨抛光工装,涉及研磨抛光领域,包括光纤固定装置和抛光盘;光纤固定装置包括圆柱形的用于固定光纤端部的工装盘;工装盘的盘面上设置有若干用于固定光纤端部的安装孔;工装盘贴靠抛光盘设置;工装盘的直径小于抛光盘的直径;工装盘的轴线与抛光盘的轴线不在一条直线上;工装盘可相对于抛光盘进行转动;工装盘可在抛光盘的带动下旋转。本实用新型提供的光纤研磨抛光工装,有效解决了抛光盘利用率不高和光纤横截面不能均匀研磨的技术问题,提高抛光盘的利用率,使得光纤横截面研磨均匀。
  • 光纤研磨抛光工装
  • [实用新型]应用于精磨抛光机的椭圆摆幅机构-CN202222235453.5有效
  • 张习兵;邹德明;姚春凤 - 无锡市锡斌光电设备有限公司
  • 2022-08-24 - 2022-12-27 - B24B29/00
  • 本实用新型公开了应用于精磨抛光机的椭圆摆幅机构,涉及研磨抛光领域,包括可主动转动的摆盘、摆臂和可以支撑摆臂往返摆动的摆臂支撑装置;摆臂的一端可转动固定在摆盘的盘面上;摆臂固定设置在摆盘上的一端可以随着摆盘绕着自身轴线的转动而绕着摆盘的轴线转动;摆臂支撑装置包括直线导轨和平面推力球轴承;平面推力球轴承的轴圈与摆臂固定连接;平面推力球轴承的座圈可滑动设置在直线导轨上。本实用新型提供的应用于精磨抛光机的椭圆摆幅机构,可以稳定的控制摆臂往复运动,使得摆臂往返时间一致,从而使得加工工件的工艺光圈时不会受到急回特性影响。
  • 应用于抛光机椭圆机构

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