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[实用新型]介电透镜-CN202120707418.1有效
发明人：特雷弗·波利多尔;塞尔焦·克拉维霍;迪尔克·巴尔斯;约翰·桑福德 -专利权人：罗杰斯公司
申请日： 2021-04-07 - 公布日： 2022-03-15 - 主分类号： G02F1/29 文献下载
摘要：本实用新型公开了介电透镜。该介电透镜包括：介电材料的三维3D主体，其具有在空间上变化的介电常数Dk；该3D主体具有至少三个区域R(i)，所述至少三个区域具有相对于至少三个区域R(i)中的对应区域的周围区域的介电常数值Dk(i)的局部最大值，所述至少三个区域R(i)的位置由相对于与3D主体相关联的特定公共原点的方位角(i)、天顶角(i)和径向距离(i)的局部坐标来限定，其中，(i)是范围从1到至少3的索引；其中，3D主体的在空间上变化的Dk被配置成以给定方位角和给定径向距离根据第一区域与第二区域之间的天顶角而变化。
透镜

[发明专利]用于立体光刻的可光固化组合物、使用所述组合物的立体光刻方法、通过立体光刻方法形成的聚合物组件、以及包含所述聚合物组件的装置-CN202080039856.3在审
发明人：特雷弗·波利多尔;迪尔克·巴尔斯;托马斯·A·库斯;布鲁斯·菲茨;穆拉利·塞瑟马达范 -专利权人：罗杰斯公司
申请日： 2020-05-29 - 公布日： 2022-01-07 - 主分类号： C08F279/02 文献下载
摘要：用于立体光刻三维打印的可光固化组合物，其中所述可光固化组合物包含：光反应性低聚物组分，所述光反应性低聚物组分包含含有光反应性端基的疏水性低聚物；光反应性单体组分，所述光反应性单体组分包含具有光反应性端基的光反应性单体；以及光引发组合物，所述光引发组合物包含光引发剂；所述可光固化组合物的使用Brookfield粘度计确定的在22℃下的粘度为250厘泊至10,000厘泊；以及经光固化的组合物的各自在23℃下在10吉赫下通过分离式介电谐振器测试确定的介电损耗小于0.010，优选地小于0.008，更优选地小于0.006，最优选地小于0.004。
用于立体光刻光固化组合使用方法通过形成聚合物组件以及包含装置

[发明专利]介电透镜以及具有介电透镜的电磁设备-CN202110372684.8在审
发明人：特雷弗·波利多尔;塞尔焦·克拉维霍;迪尔克·巴尔斯;约翰·桑福德 -专利权人：罗杰斯公司
申请日： 2021-04-07 - 公布日： 2021-10-12 - 主分类号： G02F1/29 文献下载
摘要：本发明公开了介电透镜以及具有介电透镜的电磁设备。该介电透镜包括：介电材料的三维3D主体，其具有在空间上变化的介电常数Dk；该3D主体具有至少三个区域R(i)，所述至少三个区域具有相对于至少三个区域R(i)中的对应区域的周围区域的介电常数值Dk(i)的局部最大值，所述至少三个区域R(i)的位置由相对于与3D主体相关联的特定公共原点的方位角(i)、天顶角(i)和径向距离(i)的局部坐标来限定，其中，(i)是范围从1到至少3的索引；其中，3D主体的在空间上变化的Dk被配置成以给定方位角和给定径向距离根据第一区域R(1)与第二区域R(2)之间的天顶角而变化。
透镜以及具有电磁设备

[发明专利]电介质电磁结构及其制造方法-CN201980079872.2在审
发明人：詹尼·塔拉斯基;克里斯季·潘采;史蒂芬·奥康纳;克里斯托弗·布朗;特雷弗·波利多尔;艾伦·F·霍恩三世;迪尔克·巴尔斯;罗申·罗斯·乔治;贾里德·迪佩雷;谢莱什·潘迪;卡尔·E·施普伦托尔;肖恩·P·威廉斯;威廉·布拉休斯 -专利权人：罗杰斯公司
申请日： 2019-11-22 - 公布日： 2021-07-23 - 主分类号： H01Q9/04 文献下载
摘要：一种制造电介质Dk电磁EM结构的方法，包括：提供第一模具部分，第一模具部分包括被布置成阵列的第一多个凹部中的基本相同的凹部；用可固化第一Dk组合物填充第一多个凹部，第一Dk组合物完全固化后具有大于空气的介电常数的第一平均介电常数；将衬底放置在填充有第一Dk组合物的第一多个凹部中的多个凹部的顶部上并跨填充有第一Dk组合物的第一多个凹部中的多个凹部，并且至少部分地固化可固化第一Dk组合物；以及从第一模具部分去除衬底以及至少部分固化的第一Dk组合物，使得得到具有衬底以及包含至少部分固化的第一Dk组合物的多个Dk模版的组件，多个Dk模版中的每一个具有由第一多个凹部中的对应凹部限定的三维3D形状。
电介质电磁结构及其制造方法

[发明专利]用于制造空间上变化的介电材料的方法、通过该方法制造的制品及其用途-CN201980068541.9在审
发明人：特雷弗·波利多尔;塞尔吉奥·克拉维霍;迪尔克·巴尔斯 -专利权人：罗杰斯公司
申请日： 2019-10-18 - 公布日： 2021-05-28 - 主分类号： B32B7/025 文献下载
摘要：一种制造具有空间梯度介电常数的聚合物结构的立体光刻方法，所述方法包括：提供一定体积的液态可辐射固化组合物；用活化辐射以一定图案照射所述液态可辐射固化组合物的一部分以形成所述聚合物结构的层；使所述层与所述液态可辐射固化组合物接触；用活化辐射以一定图案照射所述液态可辐射固化组合物以在第一层上形成第二层；以及重复所述接触和所述照射的步骤以形成所述聚合物结构，其中所述聚合物结构包含复数个单位单元，其中各单位单元与相邻单位单元一体地连接，各单位单元由通过所述照射形成的复数个桁架限定，其中桁架在其相应的端部处彼此一体地连接，以及各单位单元的所述桁架的尺寸被设置成提供所述空间梯度介电常数。
用于制造空间变化材料方法通过制品及其用途

[发明专利]附着至基板的电磁电介质结构及其制造方法-CN201980029549.4在审
发明人：史蒂芬·奥康纳;詹尼·塔拉斯基;克里斯托弗·布朗;克里斯季·潘采;卡尔·施普伦托尔;布鲁斯·菲茨;迪尔克·巴尔斯;威廉·布拉休斯;穆拉利·塞瑟马达范;罗申·罗斯·乔治;迈克尔·S·怀特;迈克尔·伦特;萨姆·亨森;约翰·多布里克 -专利权人：罗杰斯公司
申请日： 2019-04-30 - 公布日： 2020-12-08 - 主分类号： H01Q9/04 文献下载
摘要：在实施方式中，电磁设备包括：基板，该基板包括电介质层和第一导电层；至少一个电介质结构，该电介质结构包括至少一种非气态电介质材料，该非气态电介质材料形成从基板的第一侧向外延伸的第一电介质部分以及延伸到可选的过孔中的可选的第二电介质部分，第一电介质部分具有平均介电常数。所述至少一个电介质结构通过以下至少一者结合到基板：由于包括有逆行表面的至少一个互锁槽而形成的第二电介质部分与基板之间的机械互锁；具有粗糙化表面的位于基板与电介质结构之间的中间层；或者位于电介质结构与基板之间的粘合材料。制造该设备的方法可以包括：将电介质复合物注塑模制到基板上以形成电介质基板。
附着至基板电磁电介质结构及其制造方法