专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]一种金相试样打磨抛光设备-CN201320434045.0有效
  • 马芹征;张国栋;张路;耿波;赖云亭;刘艳;赵彦芬 - 苏州热工研究院有限公司;中国广核集团有限公司
  • 2013-07-22 - 2013-12-18 - G01N1/32
  • 本实用新型涉及一种金相试样打磨抛光设备,它包括固定底板、用于固定金相试样且与固定底板相滑动连接的调位机构、用于抛光的电动机和抛光磨头、安装在固定底板上用于支撑电动机的支撑架,固定底板的上端面的长度方向为纵向,宽度方向为横向,调位机构包括固定在固定底板上且沿横向延伸的下滑轨、滑动连接在下滑轨上的横向底板、固定在横向底板上且沿纵向方向延伸的上滑轨以及滑动连接在上滑轨上的纵向底板。利用本实用新型对大金相试样进行打磨时,将大金相试样固定于两块卡座之间,调节好抛光磨头的位置既能进行打磨,其结构简单,装夹方便,极大地提高了大金相试样的打磨抛光的效率。
  • 一种金相试样打磨抛光设备
  • [发明专利]一种Mg-Si高阻尼合金的制备方法-CN200910023843.2无效
  • 王锦程;赖云亭;杨根仓;杨长林 - 西北工业大学
  • 2009-09-09 - 2010-02-17 - C22C23/00
  • 本发明涉及一种Mg-Si高阻尼合金的制备方法,其特征在于:以Mg-Si二元合金为基础熔炼,其中Si元素含量为:5~6wt.%Si,余量为Mg;Si以Mg-10wt.%Si的中间合金形式加入,则中间合金含量为50~60wt.%,Mg则采用工业纯镁;采用往复挤压(Reciprocating Extrusion,RE)是大塑性变形方式的一种,是细化晶粒的有效手段之一,且能够使增强颗粒在基体上更加均匀分布,显著消除材料内部的孔隙等缺陷,降低复合材料中空隙和增强相的团聚对材料的割裂作用,减小裂纹产生倾向。
  • 一种mgsi阻尼合金制备方法

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