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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]螺旋涂敷装置-CN201410437598.0无效
  • 贵志寿之;渊上安彦;大城健一 - 株式会社东芝
  • 2014-08-29 - 2015-03-25 - B05B13/02
  • 本发明根据实施形态，提供具备载物台、喷嘴、移动单元、气体供给部、洗净液供给部和喷嘴洗净部的螺旋涂敷装置。载物台具有载置涂敷对象物的载置面。喷嘴往载置在载物台上的涂敷对象物吐出液体。移动单元使喷嘴相对于载物台相对地移动。气体供给部提供气体。洗净液供给部提供洗净液。喷嘴洗净部具有气体供给口和洗净液供给口，从气体供给口向喷嘴喷射从气体供给部提供来的气体，从洗净液供给口向喷嘴吐出从洗净液供给部提供来的洗净液。
  • 螺旋装置
  • [发明专利]成膜装置以及成膜方法-CN201410265714.5在审
  • 佐藤强;贵志寿之 - 株式会社东芝
  • 2014-05-30 - 2014-12-17 - B05C11/10
  • 本发明涉及成膜装置以及成膜方法。实施方式的成膜装置为，从移动的喷嘴向旋转的基板的表面供给处理液，在上述基板的表面上螺旋状地涂布上述处理液，通过上述基板的旋转由所涂布的上述处理液形成膜。该成膜装置具备保持上述基板的保持部、使上述保持部旋转的驱动部、向上述保持部所保持的上述基板的表面供给上述处理液的处理液供给部以及至少控制上述驱动部的控制部。而且，上述控制部使上述保持部以比涂布上述处理液时的第一转速慢的第二转速旋转，而由所涂布的上述处理液形成膜。
  • 装置以及方法
  • [发明专利]半导体发光装置-CN201310399990.6在审
  • 贵志寿之;小泉洋 - 株式会社东芝
  • 2013-09-05 - 2014-09-17 - H01L33/44
  • 本发明提供一种半导体发光装置，其包括：第1柱部、第2柱部、波长转换层、发光部、树脂部和中间层。第1柱部向第1方向延伸，并且为导电性。第2柱部在与第1方向交叉的第2方向上与第1柱部隔开，其向第1方向延伸，并且为导电性。波长转换层在第1方向上与第1柱部及第2柱部隔开。发光部包括第1导电型的第1半导体层、第2导电型的第2半导体层和发光层，其中，第1半导体层包括设置在第1柱部的至少一部分与波长转换层之间的第1半导体部分和设置在第2柱部与波长转换层之间的第2半导体部分，第2半导体层设置在第2柱部与第2半导体部分之间，发光层设置在第2半导体部分与第2半导体层之间，并放出第1光。
  • 半导体发光装置
  •  1 
  • 共 3 条
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