专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]基于ZrO2-CN201810588540.4有效
  • 李玉新;刘思远;苏科强;尉利强;白培康;刘斌;赵占勇;张鹏飞 - 中北大学
  • 2018-06-08 - 2021-03-30 - C23C24/10
  • 本发明公开了一种基于ZrO2掺杂的激光熔覆金属‑陶瓷涂层材料,是由5~20wt%Ti粉、70~92wt%TiBCN陶瓷粉末和3~10wt%ZrO2粉末混合制成。利用激光熔覆技术将本发明涂层材料熔覆在钛合金基体表面,可以吸收激光熔覆残余热应力的应变能量,减少应力集中造成的裂纹产生和延伸,提高熔覆涂层的断裂韧性,并增加熔覆涂层的强度和耐蚀性,以形成增韧金属‑陶瓷熔覆涂层。
  • 基于zrobasesub
  • [发明专利]一种粒状渗硼剂的再生方法及其装置-CN201710713882.X在审
  • 李玉新;苏科强;白培康;李亮;刘斌;赵占勇 - 中北大学
  • 2017-08-18 - 2018-02-23 - C23C8/68
  • 本发明公开了一种粒状渗硼剂的再生方法及其装置,属于材料表面改性材料的回收再利用领域;技术方案为将预处理好的基体放在磁控溅射装备的阳极板上方,采用平面对靶的方式将高纯硅靶放置在阴极的铜背板上;通入氩气到真空室,对真空室和预处理好的基体进行清洗;之后调节电源电压、电流密度以及真空气压进行;本发明使再生后渗硼剂的渗硼效果达到原渗剂的渗层深度;是原来渗硼剂使用次数的3‑5倍;镀膜后的渗剂与原材料的渗剂效果大致相同,渗层深度在120‑130mm左右;节约了材料,达到循环绿色的经济效益。
  • 一种粒状渗硼剂再生方法及其装置
  • [发明专利]一种制备TiBCN粉末的方法及装置-CN201710687372.X在审
  • 李玉新;苏科强;白培康;李亮;刘斌;赵占勇 - 中北大学
  • 2017-08-11 - 2018-01-23 - C23C14/06
  • 本发明公开了一种制备TiBCN粉末的方法及装置,属于陶瓷材料制备技术领域;技术方案为对基体预处理,将预处理好的基体放入直流溅射设备中阳极上面,将碳片放在高纯钛靶上,将氮气和氩气通入到真空室进行清洗,清洗完成后,调节保护气流量,对整个溅射系统加热直至800‑900℃,调节电源电压至、靶电流密度、气流量和真空室气压,系统温度提高40‑50℃并保持不变,之后不间断向基体的中空部位通入冷却水;本发明制备出的TiBCN粉末具有较高的硬度和较好的耐磨性,同时又具有强抗酸性、抗腐蚀和良好的导电性,其纯度可达95%左右,原料的利用率提高到100%。
  • 一种制备tibcn粉末方法装置
  • [实用新型]一种可滑动插板-CN201621425179.6有效
  • 李保强;黄顺有;李远;惠均;杨强;苏科强 - 李保强
  • 2016-12-23 - 2017-09-01 - H01R35/00
  • 本实用新型公开了一种可滑动插板,由轨道座及带有插孔的滑动组件组成,所述轨道座由平直的底板以及与底板垂直的两侧板组成,所述两侧板内侧中央设有滑槽,所述滑动组件底部为平直底板,两侧设有与滑槽匹配的受电滑片,在滑动组件中央设有插孔,使滑动组件可在轨道座内滑动,接触处安装有受电滑片,保证滑动组件在滑动过程中受电,且插头插入插孔中即可用电。进一步地,所述滑动组件由设有插孔的旋转块和单体座组成,所述旋转块位于单体座中央的空腔内,在空腔内侧设有单体座接触片,在单体座底部设有与旋转块连接的凸轮,所述旋转块外围设有与单体座接触片匹配的旋转块接触片。本实用新型解决了现有插座使用不方便及插座体积大的问题。
  • 一种滑动插板

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