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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]嘧啶衍生物-CN202280011568.6在审
发明人：冈田亮;中野洋一;能势卓;前田智史;渡边友章 -专利权人： ASKA 制药株式会社
申请日： 2022-02-01 - 公布日： 2023-10-10 - 主分类号： C07D401/04 文献下载
摘要：本发明涉及式(I)的化合物或其盐，其具有mPGES‑1抑制作用，作为用于预防和/或治疗炎症、疼痛或风湿病等疾病的药物的有效成分有用(R表示甲基或氟原子)。#imgabs0#
嘧啶衍生物

[发明专利]嘧啶衍生物-CN201680063335.5有效
发明人：冈田亮;中野洋一;能势卓;西本恭博;前田智史 -专利权人： ASKA制药株式会社
申请日： 2016-10-28 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： C07D239/36 文献下载
摘要：具有mPGES‑1抑制作用，作为用于炎症、疼痛、或风湿等疾病的预防和/或治疗的药物的有效成分有用的式(1)所示的化合物或其盐(X表示羰基或磺酰基；R1表示氢原子、卤素原子、烷基、烷酰基、氰基、或羧基；R2表示烷基、碳环基、或杂环基；R3表示氢原子或1~3个的取代基；R4和R5表示氢原子、卤素原子、或烷基；R6表示烷基、或烷氧基)。
嘧啶衍生物

[发明专利]杂环化合物、制备方法及其用途-CN200680034048.8无效
发明人：金泽一;青塚知士;熊泽健太郎;石谷幸喜;能势卓 -专利权人： ASKA制药株式会社
申请日： 2006-09-15 - 公布日： 2008-09-17 - 主分类号： C07D471/04 文献下载
摘要：本发明的化合物是具有特殊杂环骨架、特别是具有使有机基团(例如，碳环、杂环)通过亚烷基在3－位键合、并使碳环在5－位键合的吡唑并萘啶或吡唑并喹啉骨架的新型化合物，并且该新型化合物具有磷酸二酯酶IV抑制活性。在吡唑并萘啶骨架的3－位键合的环(碳环或杂环)和在5－位键合的碳环的至少1个可具有卤代烷基和/或卤代烷氧基作为取代基。本发明的化合物或其盐可用作磷酸二酯酶IV抑制剂等。根据本发明可以提供具有高的磷酸二酯酶IV抑制作用的新型化合物。
杂环化合物制备方法及其用途

[发明专利]吡唑并二氮杂萘衍生物-CN200380104070.1有效
发明人：金泽一;青冢知士;熊泽健太郎;石谷幸喜;能势卓 -专利权人：格勒兰制药株式会社
申请日： 2003-11-05 - 公布日： 2006-01-04 - 主分类号： C07D471/14 文献下载
摘要：本发明涉及抗哮喘效果和COPD预防、治疗效果优异的、安全性高的PDE IV抑制剂的开发。通式(1)(式中，A表示可以被选自羟基、卤素、氰基、硝基、低级烷基、低级烷氧基、低级烷基羰基氧基、氨基、羧基、低级烷氧基羰基、羧基低级亚烷基、低级烷氧基羰基低级亚烷基、低级烷基磺酰基、低级烷基磺酰基氨基和脲基的取代基所取代的苯基、吡啶基、1－氧代吡啶基或噻吩基，R¹是氢或选自羟基、卤素、氰基、硝基、低级烷氧基、氨基、羧基和低级烷氧基羰基的取代基，R²是氢或低级烷基，m是1～3的整数)所示的化合物或其医药上所允许的盐具有优异的PDE IV抑制作用，安全性高，可以作为抗哮喘剂和COPD预防、治疗剂使用。
吡唑二氮杂萘衍生物

[发明专利]新的1,8－二氮杂萘－2(1H)－酮衍生物-CN00816844.X无效
发明人：青塚知士;熊沢健太郎;我妻永利;石谷幸喜;能势卓 -专利权人：格勒兰制药株式会社
申请日： 2000-12-07 - 公布日： 2003-04-02 - 主分类号： C07D471/04 文献下载
摘要：本发明的目的是提供具有很强的抗哮喘性能和优良的安全性等的PDEIV的选择性抑制剂。式(1)的化合物或其药学上可接受的盐具有选择性的抑制PDEIV的作用，可用作药物，特别是用作抗哮喘的药物。其中A是一种任选取代的5或6员杂芳基或一种与苯稠合的稠合环；B是碳或氮；R1是氢、低级烷基、三氟甲基、羟基、低级烷氧基、从羧酸或其衍生物衍生得到的残基、氨基或含有氨基氮的基团；R2是氢、卤素、氰基、硝基、烷硫基、低级烷基亚磺酰基、低级烷基磺酰基、三氟甲基、羟基、低级烷氧基、从羧酸或其衍生物衍生得到的残基、氨基或含有氨基氮的基团；并且m是1－8的整数。
二氮杂萘衍生物

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