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[发明专利]高固体含量的SiO₂分散液、其制造方法及用途-CN200510099283.0无效
发明人：弗里茨·施韦特费格;约翰·魏斯;彼得·里特;阿基姆·莫尔特;沃尔夫冈·施韦雷恩;福尔克尔·弗赖;汉斯－彼得·舍尔姆 -专利权人：瓦克化学有限公司
申请日： 2000-09-07 - 公布日： 2006-02-22 - 主分类号： C01B33/141 文献下载
摘要：本发明涉及高固体含量的SiO₂分散液、其制造方法以及由该分散液制造具有极高固体含量的多孔性无定形SiO₂型材(Formkoerper)的制备方法。本发明的分散液是一种均匀的、容易浇注的、分散于分散介质中的无定形SiO₂微粒的分散液。所说分散液的特征是其固体含量为至少80wt％的无定形SiO₂微粒，且所述无定形SiO₂微粒具有双模态粒径分布。
固体含量 sio sub 分散制造方法用途

[发明专利]氨基官能硅氧烷的制备-CN01136492.0有效
发明人：奥利弗·舍费尔;福尔克尔·弗赖;贝恩德·帕哈利;安德烈亚斯·鲍尔 -专利权人：电化学工业有限公司(国际)
申请日： 2001-10-19 - 公布日： 2004-09-01 - 主分类号： C07F7/18 文献下载
摘要：本发明涉及一种用以制备具有化学通式III的氨基-官能有机硅氧烷的方法，其包括：使具有化学通式IV的有机硅氧烷与一具有化学通式V的环型硅氮烷反应，其中R、R^X、R¹、s、t、r、k、m、p及q的定义如权利要求1所述。(SiO_4/2)_k(R¹SiO_3/2)_m(R¹₂SiO_2/2)_p(R¹₃SiO_1/2)_q[O_1/2SiR¹₂-R-NH₂]_s[O_1/2H]_t (III)(SiO_4/2)_k(R¹SiO_3/2)_m(R¹₂SiO_2/2)_p(R¹₃SiO_1/2)_q[O_1/2H]_r (IV)∴
氨基官能硅氧烷制备

[发明专利]环状硅氮烷-CN01131340.4有效
发明人：莱昂哈德·布拉德尔;奥利弗·舍费尔;安德烈亚斯·鲍尔;福尔克尔·弗赖;贝恩德·帕哈利 -专利权人：电化学工业有限公司(国际)
申请日： 2001-09-24 - 公布日： 2004-08-11 - 主分类号： C07F7/10 文献下载
摘要：本发明涉及具有化学通式II的环状硅氮烷：R是二价的、Si-C及Si-N键合的、选择性地被氰基或卤素取代的C₃-C₁₅-烃基，其中一个或多个彼此不相邻的亚甲基单元可由-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-S-或-NR^X-基代替，而且其中一个或多个彼此不相邻的次甲基单元可由-N＝、-N＝N-或-P＝基代替，其中该环内硅原子与氮原子之间有至少3个及至多6个原子，R^X是氢或选择性地被卤素取代的C₁-C₁₀-烃基，及：R²是氢原子或单价的、选择性地被氰基或卤素取代的、Si-C键合的C₁-C₂₀-烃基或C₁-C₂₀-烃氧基，在上述每个基团内一个或多个彼此不相邻的亚甲基单元可由-O-、-CO-、-COO-、-OCO-、-OCOO-、-S-或-NR^X-基代替，而且其中一个或多个彼此不相邻的次甲基单元可由-N＝、-N＝N-或-P＝基代替。
环状硅氮烷

[发明专利]高固体含量的SiO2分散液、其制造方法及用途-CN00812728.X无效
发明人：弗里茨·施韦特费格;约翰·魏斯;彼得·里特;阿基姆·莫尔特;沃尔夫冈·施韦雷恩;福尔克尔·弗赖;汉斯－彼得·舍尔姆 -专利权人：瓦克化学有限公司
申请日： 2000-09-07 - 公布日： 2002-10-09 - 主分类号： C01B33/141 文献下载
摘要：本发明涉及高固体含量的SiO2分散液、其制造方法以及由该分散液制造具有极高固体含量的多孔性无定形SiO2型材(Formkoerper)的制备方法。本发明的分散液是一种均匀的、容易浇注的、分散于分散介质中的无定形SiO2微粒的分散液。所说分散液的特征是其固体含量为至少80wt%的无定形SiO2微粒,且所述无定形SiO2微粒具有双模态粒径分布。
固体含量 sio2 分散制造方法用途

[发明专利]有机硅烷的制备-CN01136677.X无效
发明人：安德烈亚斯·鲍尔;奥利弗·舍费尔;马库斯·克里格鲍姆;莱昂哈德·布拉德尔;贝恩德·帕哈利;福尔克尔·弗赖 -专利权人：电化学工业有限公司(国际)
申请日： 2001-10-24 - 公布日： 2002-05-29 - 主分类号： C07F7/08 文献下载
摘要：本发明涉及一种用以制备具有化学通式I的硅烷的方法,其中包括在具有化学通式IV的铱化合物作为催化剂及游离二烯作为辅催化剂存在的情况下,使具有化学通式II的硅烷与一具有化学通式III的烯反应,其中R1、R2、R3、R4、R5、R6、R及二烯的定义与权利要求1相同。R6R5CH－R4CH－SiR1R2R3(I),[(二烯)IrCl]2(IV),HSiR1R2R3(II),R6R5CH=CHR4(III)。
有机硅烷制备

[发明专利]有机聚硅氧烷树脂粉末及制法和在有机聚硅氧烷组合物中的应用-CN96101208.0无效
发明人：里夏德·魏德纳;赫尔曼·布兰克;福尔克尔·弗赖;约翰·舒斯特 -专利权人：瓦克化学有限公司
申请日： 1996-01-24 - 公布日： 2001-10-31 - 主分类号： C08G77/32 文献下载
摘要：有机聚硅氧烷树脂粉，它的平均粒径（平均值d＃-[50,3]）为７０—３００μm，直径<４５μm的树脂颗粒的比例，以有机聚硅氧烷树脂粉的总重量为基准计，小于５wt％。
有机聚硅氧烷树脂粉末制法组合中的应用

[发明专利]制备甲基氯硅烷的方法-CN93120094.6无效
发明人：伯恩德·帕乔雷;福尔克尔·弗赖;赫伯特·施特劳斯贝格尔 -专利权人：瓦克化学有限公司
申请日： 1993-12-03 - 公布日： 1998-09-23 - 主分类号： C07F7/16 文献下载
摘要：本发明涉及在铜催化剂，如果需要，还要助催化物质的存在下由硅和氯代甲烷来制备甲基氯硅烷的方法，该方法基于由硅的结构参数ＱＦ控制的所用硅的表面积来控制单独的甲基氯硅烷的生产速率。结构参数由下述方法测定$ａ）切取硅的试样以使其形成一个切面，$ｂ）统计在该切面上狭长形的金属间相沉淀的面积以得出面积数值Ａ，$ｃ）统计在该切面上圆形的金属间相沉淀的面积以得出面积数值Ｂ，$ｄ）求出面积数值Ａ与面积数值Ｂ的比值，并将其称为结构参数ＱＦ。
制备甲基硅烷方法