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[实用新型]掩膜支撑结构及掩膜组件-CN202220767245.7有效
发明人：刘佳宁;沈阔;刘华猛;关新兴;白珊珊;李彦松 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-03-31 - 公布日： 2022-09-30 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请实施例提供了一种掩膜支撑结构及掩膜组件。该掩膜支撑结构包括由第一磁性材料制成的第一支撑层和由第二磁性材料制成的第二支撑层，且由于第二磁性材料的磁性小于第一磁性材料的磁性，使得完整的掩膜支撑结构不会产生过大的磁场力从而降低压伤待蒸镀基板的风险；高精度金属掩膜板包括多个子掩膜板，子掩膜板宽度小于相邻第一支撑部之间的距离，也就是子掩膜板的边缘与第一支撑部之间存储缝隙，这更有利于高精度金属掩膜的边缘进行舒展，从而使得高精度金属掩膜板边缘的褶皱能够展平，能够改善显示屏边缘材料蒸镀阴影过大引起混色等不良的问题，从而有利于提升蒸镀品质。
支撑结构组件

[发明专利]像素排布结构、显示面板及显示装置-CN202011243070.1有效
发明人：李鑫;韩城;樊星;李彦松;白珊珊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-11-09 - 公布日： 2022-09-23 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本申请提供一种像素排布结构、显示面板及显示装置。像素排布结构包括第一子像素、第二子像素和第三子像素。四个第一子像素位于第一虚拟四边形的顶角位置。第一虚拟四边形两个相对侧边的中点处分别设一个第二子像素，另外两个相对的侧边上分别设一个第三子像素。第一虚拟四边形分割成两个第二虚拟四边形，两个第二虚拟四边形的公共边及内部分别设有一个第三子像素。同一第二虚拟四边形中，位于侧边上的及位于内部的第三子像素的中心作为顶点相连形成等腰三角形。一个第二虚拟四边形内设有一第一子像素，且该第一子像素至少部分位于内部的等腰三角形内；另一第二虚拟四边形内设有一个第二子像素，且该第二子像素至少部分位于内部的等腰三角形内。
像素排布结构显示面板显示装置

[发明专利]显示基板及其制作方法、显示装置、掩膜板-CN202110209752.9在审
发明人：李彦松;白珊珊;皇甫鲁江 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-02-24 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明提供一种显示基板及其制作方法、显示装置、掩膜板。该显示基板中，像素单元至少包括第一子像素、第二子像素和第三子像素，第一子像素的发光亮度占比大于第二子像素的发光亮度占比，第二子像素的发光亮度占比大于第三子像素的发光亮度占比；第一子像素和第二子像素位于第一列，第三子像素位于第二列，多个像素单元包括多个第一像素单元和多个第二像素单元；在第一像素单元和第二像素单元中，第一子像素和第二子像素沿第一方向的排布顺序相反；在每行像素单元中，在相邻的第一像素单元和第二像素单元中，第一子像素之间的距离小于第二子像素之间的距离；在每列像素单元中各像素单元中的第一子像素和第二子像素沿第一方向均位于同一列。
显示及其制作方法显示装置掩膜板

[发明专利]显示基板和显示装置-CN202210530530.1在审
发明人：关新兴;陈友春;白珊珊;李彦松 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-05-16 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：一种显示基板和显示装置。该显示基板包括衬底基板；多个子像素，位于衬底基板上；至少一个子像素在衬底基板上的正投影的形状包括第一形状，第一形状包括第一弯曲边和第二弯曲边，第一弯曲边的两端和第二弯曲边的两端分别相连，并形成第一连接点和第二连接点；第一连接点和第二连接点的第一连线的长度为第一形状在第一连线的延伸方向上的最大长度，第一形状被第一连线划分为包括第一弯曲边的第一子部分和包括第二弯曲边的第二子部分；第一子部分的面积大于第二子部分的面积，第一弯曲边上的各点与第一连线的最大垂直距离大于第二弯曲边上的各点与第一连线的最大垂直距离。由此，该显示基板可减轻甚至避免色分离现象的产生。
显示显示装置

[发明专利]一种掩模板框架、掩模板组件及掩模板张网方法-CN202210447200.6在审
发明人：刘华猛;白珊珊;李彦松 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2022-04-26 - 公布日： 2022-08-12 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请实施例提供一种掩模板框架、掩模板组件及掩模板张网方法，属于掩模板技术领域，包括：框架主体；包括第一边梁、第二边梁、第三边梁和第四边梁，第一边梁、第二边梁、第三边梁和第四边梁相连并围成安装区域；第一边梁和第三边梁在第一方向相对设置，第二边梁和第四边梁在第二方向相对设置；其中，第一边梁的中间部位在第一方向上的尺寸大于第一边梁的两端部位在第一方向上的尺寸；第三边梁的中间部位在第一方向上的尺寸大于第三边梁的两端部位在第一方向上的尺寸。通过本申请实施例提供的一种掩模板框架、掩模板组件及掩模板张网方法，可以减小垂直蒸镀时掩模板框架的下垂，提高蒸镀质量。
一种模板框架组件方法

[发明专利]掩膜板及其制作方法-CN202210276961.X在审
发明人：关新兴;毕娜;刘华猛;刘佳宁;白珊珊;李彦松;曾琪皓;刘浩 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2022-03-21 - 公布日： 2022-07-15 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本公开提供了一种掩膜板及其制作方法，涉及显示技术领域。该掩膜板的制作方法包括：形成具有第一开口的掩膜基板；将掩膜基板铺设于一掩膜板框架一侧，并对掩膜基板进行张网；在掩膜基板背离掩膜板框架的表面设置遮盖第一开口的支撑层；形成覆盖掩膜基板的掩膜层，掩膜层填充第一开口，且掩膜层位于第一开口内的区域具有多个第二开口；剥离支撑层。本公开通过在掩膜基板上形成精细金属掩膜板开口，并在精细金属掩膜板开口中形成电铸精细掩膜板开口，提高了掩膜板的分辨率，同时解决了传统的电铸精细掩膜板的焊接难度大、低开口率、张网误差大以及热膨胀系数大引起的蒸镀混色不良问题。
掩膜板及其制作方法

[发明专利]像素阵列及显示装置-CN202180000017.5在审
发明人：刘月;白珊珊;王伟伟;关新兴;王本莲 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-01-05 - 公布日： 2022-07-08 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：一种像素阵列及显示装置，像素阵列包括多个子像素；多个子像素中的每个均具有虚拟像素中心，多个子像素包括第一子像素(R)、第二子像素(G)和第三子像素(B)；其中，两个第一子像素(R)和两个第三子像素(B)的虚拟中心的依次连线构成第二虚拟四边形(100)；呈阵列排布的四个第二虚拟四边(100)形以共邻边的方式构成第一虚拟多边形(10)，且第一子像素(R)和第三子像素(B)位于第一虚拟多边形(10)的顶角或边上，且沿顺时针方向交替分布于该第一虚拟多边形(10)的顶角或边位置上；第一虚拟多边形(10)内具有第一虚拟点(P)，第一虚拟点(P)与第一虚拟多边形(10)上的四个第三子像素(B)的虚拟中心的连线，将第一虚拟多边形(10)分割为四个虚拟等腰梯形(300)。
像素阵列显示装置

[发明专利]显示基板、显示装置以及显示基板的制备方法-CN201910950175.1有效
发明人：张浩瀚;李彦松;王品凡;白珊珊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2019-10-08 - 公布日： 2022-04-26 - 主分类号： H01L51/52 文献下载
摘要：本发明提供一种显示基板、显示装置以及显示基板的制备方法，属于显示技术领域，其可解决现有的显示基板的发光单元发光的封装效果不佳的不足。本发明显示基板，包括基底，基底包括多个间隔的岛部和连接在不同岛部间的多个桥部，且基底在非岛部且非桥部的区域具有多个开口；每个岛部上设有多个层结构，每个岛部上的层结构构成至少一个发光单元，发光单元远离基底一侧设有封装层；任意层结构在其所在的岛部上的正投影的边缘与该岛部的边缘间有间隔，封装层在其所在的岛部上的正投影覆盖该岛部。
显示显示装置以及制备方法

[发明专利]一种3,4-二氨基吡啶的合成方法-CN202111628249.3在审
发明人：赵翠然;贾宗英;王学功;白珊珊;李泽奇;赵东明;吕伟茹;王晨光;王建明 -专利权人：河北一品生物医药有限公司
申请日： 2021-12-28 - 公布日： 2022-04-12 - 主分类号： C07D213/73 文献下载
摘要：本发明涉及一种3,4‑二氨基吡啶的合成方法，包括如下步骤：步骤1、4‑甲氧基吡啶与发烟硝酸反应生成4‑甲氧基3‑硝基吡啶；步骤2、4‑甲氧基3‑硝基吡啶与浓氨水反应生成4‑氨基3‑硝基吡啶；步骤3、4‑氨基3‑硝基吡啶在催化剂作用下发生氢化反应，生成3,4‑二氨基吡啶；本发明相较于传统合成路线而言，由5步反应减少为3步反应，收率由45％提高到55‑67％，纯度由97.5％提高至99.5％。
一种氨基吡啶合成方法

[实用新型]免手接触按钮触碰器-CN202122522194.X有效
发明人：付宝华;白珊珊;国华;国昊成 -专利权人：泰安市第一人民医院;泰安市中心医院分院
申请日： 2021-10-20 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： H01H13/14 文献下载
摘要：本实用新型公开了免手接触按钮触碰器，包括容纳腔、推进器、弹簧和接触头，所述容纳腔为两端贯穿的中空腔体，所述推进器包括按压头和滑柱，所述滑柱滑动贯穿容纳腔设置，所述按压头设于滑柱的端部，所述弹簧套设于滑柱上，所述弹簧的两端分别连接于按压头和容纳腔上，所述接触头设于滑柱的另一端。本实用新型属于防感染日常用品技术领域，具体是指一种体积小，便携，操作简单的免手接触按钮触碰器。
接触按钮触碰器

[发明专利]一种掩膜板的制作方法、掩膜板及显示装置-CN202110100848.1有效
发明人：关新兴;白珊珊;毕娜;刘佳宁;吴淞全 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司
申请日： 2021-01-26 - 公布日： 2022-03-29 - 主分类号： C25D1/10 文献下载
摘要：本发明提供了一种掩膜板的制作方法、掩膜板及显示装置，所述方法包括：在导电基板的一侧表面形成多个相互独立的凹槽；在导电基板形成凹槽的一侧形成一整层石墨烯涂层；在各凹槽内的石墨烯涂层上形成图案化的绝缘结构，绝缘结构在导电基板上的正投影小于凹槽在导电基板上的正投影；将导电基板置于电镀液中通电后进行电铸工艺，在石墨烯涂层未被绝缘结构遮挡的表面形成包括主体部和支撑部的掩膜板本体，主体部覆盖凹槽之外的区域，支撑部由主体部延伸至凹槽的底部且围绕凹槽的边缘设置；去除绝缘结构，在掩模板本体去除绝缘结构的位置形成通孔结构；通过在分散剂中超声分散石墨烯涂层，将掩膜板本体从导电基板上剥离。
一种掩膜板制作方法显示装置

[发明专利]显示基板、其驱动方法、显示装置及高精度金属掩模板-CN201810639832.6有效
发明人：李真真;孙阔;皇甫鲁江;白珊珊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2018-06-20 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本发明公开了一种显示基板、其驱动方法、显示装置及高精度金属掩模板，由于将显示区域设置为像素分布密度大的第一显示子区域和像素分布密度小的第二显示子区域。由于第二显示子区域内的像素分布密度较小，因此可以将摄像头等元件设置在第二显示子区域内，即采用降低局部像素分布密度来增加屏幕透光率的方式来提高显示基板的屏占比。并且，该显示基板在驱动时，由于根据子像素的发光面积和像素分布密度对第二显示子区域的子像素的灰阶值进行了调整，因此可以补偿由于第一显示子区域和第二显示子像素的像素分布密度不一致导致的两个显示子区域亮度存在的较大差异，从而减轻第二显示子区域和第一显示子区域的边界存在的暗纹，实现全屏均匀显示。
显示驱动方法显示装置高精度金属模板

[实用新型]一种掩膜板-CN202023169232.X有效
发明人：毕娜;白珊珊;刘月 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2020-12-24 - 公布日： 2022-01-25 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种掩膜板，以改善现有技术在通过掩膜板形成发光基板的图案时，存在蒸镀位置不准确，容易产生混色的问题。所述掩膜板，用于采用光罩多分割曝光工序形成的母板进行遮挡，所述母板具有因多分割曝光工序形成无法曝光的基板无效区，其中，所述掩膜板包括：金属框架；支撑掩膜板，所述支撑掩膜板位于所述金属框架的一侧；至少一个精细金属掩膜条，所述精细金属掩膜条位于所述支撑掩膜板背离所述金属框架的一侧，具有多个用于对所述母板中子像素蒸镀发光薄膜的开口；支撑板，所述支撑板位于所述金属框架与所述精细金属掩膜板之间，用于对所述基板无效区进行遮挡，所述支撑板的厚度大于所述支撑掩膜板的厚度。
一种掩膜板

[实用新型]显示基板和显示装置-CN202121461718.2有效
发明人：皇甫鲁江;王伟伟;白珊珊;卢江楠;祝文秀 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-06-29 - 公布日： 2022-01-18 - 主分类号： H01L27/32 文献下载
摘要：本公开提供一种显示基板和显示装置，该显示基板包括：多行子像素，每行子像素包括循环排布的第一子像素、第二子像素和第三子像素，相邻两行子像素错开排布，每相邻两行子像素中，一行子像素中的所述第一子像素与另一行子像素中的与其相邻的所述第二子像素和所述第三子像素组成一个像素，位于同一像素行的各个所述像素的白光亮度中心位于同一条直线上，位于同一子像素行的所述第一子像素的亮度中心与所述第二子像素和所述第三子像素的亮度中心不在同一条直线上。
显示显示装置

[发明专利]金属掩膜版以及金属掩膜版的加工方法-CN202111115763.7在审
发明人：刘月;白珊珊 -专利权人：京东方科技集团股份有限公司
申请日： 2021-09-23 - 公布日： 2021-12-28 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本申请公开了一种金属掩膜版以及金属掩膜版的加工方法，所述金属掩膜版，包括：板体，所述板体上具有多个像素过孔，第一凹部和第二凹部，所述第一凹部形成在所述板体的一侧，所述第二凹部形成在所述板体相对的另一侧，所述第一凹部与所述第二凹部连通以限定出所述像素过孔，所述第一凹部的外轮廓线与所述像素过孔的一致，所述第二凹部的刻蚀深度大于所述第一凹部的刻蚀深度。由此，可以改善金属掩膜版的受力，降低应力集中，进而在确保像素过孔与需求外形轮廓一致的前提下，使第二凹部的深度更深，可以使板体的受力分布均匀性更好，在受到拉力时，金属掩膜版的变形量更小，降低拉伸褶皱。
金属掩膜版以及加工方法

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