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[发明专利]一种降低硅片表面金属的清洗方法-CN202211081468.9在审
发明人： 焦芬芬 -专利权人：杭州中欣晶圆半导体股份有限公司
申请日： 2022-09-01 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本发明涉及一种降低硅片表面金属的清洗方法，所属硅片清洗技术领域，包括如下操作步骤：第一步：使用的清洗液原料MC1是NH4OH和螯合剂组成，硅片在65℃的温度下进行浸泡清洗5～7min。第二步：去离子水进行清洗。第三步：SC2清洗液由体积比为(1∶3∶30)～(1∶6∶60)的HCl、H2O2、H2O组成，硅片在65℃的温度下浸泡清洗5～7min。第四步：去离子水进行清洗。第五步：O3清洗将硅片放入O3水中浸泡5min。第六步：DHF清洗液由稀释的HF体积比为1∶104组成，在室温状态下浸泡清洗5～7min。第七步：最后通过去离子水进行清洗。具有操作便捷和使用效果好的特点。使得硅片上的轻金属降到1E9水平，重金属降到5E8水准。
一种降低硅片表面金属清洗方法

[发明专利]晶须补强氧化锆种植一体冠-CN202011575909.1有效
发明人：李廷凯;焦芬芬;赵武元;沈志坚;杨进 -专利权人：杭州而然科技有限公司
申请日： 2020-12-28 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： A61L27/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种晶须补强氧化锆种植一体冠，包括晶须补强氧化锆基体，所述晶须补强氧化锆基体的中心处设有纵向贯通的螺丝孔，晶须补强氧化锆基体由上至下由种植体上部冠、穿龈部和用于连接种植体的连接部组成；所述晶须补强氧化锆基体的材料为晶须补强氧化锆，所述晶须补强氧化锆的原料包括主材料及添加剂，所述主材料按质量百分比计由氧化锆80‑99%和晶须1‑20%组成，所述添加剂按占晶须重量的百分比计包括：超细纳米氧化铝粉0.1‑1%，超细纳米氧化硅粉0‑0.1%。本发明既能满足美学性能要求，又能达到类似钛金属一体冠的机械强度要求，同时表面粗糙度可控、具有良好生物活性和生物相容性。
晶须补强氧化锆种植一体

[发明专利]一种数字化精确制作牙科修复体的方法-CN201811167732.4有效
发明人：沈志坚;李廷凯;陶力;焦芬芬;赵静 -专利权人：杭州而然科技有限公司
申请日： 2018-10-08 - 公布日： 2021-07-02 - 主分类号： A61C13/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种数字化精确制作牙科修复体的方法，在临床端用具有合适强度，颜色，韧性，硬度的树脂，树脂基陶瓷复合材料和高强度蜡等易銑磨的材料快速制作代冠；以每个患者自身的牙床作为咬合架，通过临床医生和患者沟通检验，以临床微调数字化制作的代冠为媒介，建立修复体正确的几何形态、颜色，边缘密合性、邻接关系和咬合关系以及牙龈前期愈合所需要的形态等，达到暂时性修复‑‑‑‑保护、维持和稳定的作用；医生端再对已经调整好形态，咬合和邻接关系的代冠进行第二次精确扫描，将第二次扫描数据与之前设计的数字化蜡型数据进行融合获得精确的牙科修复体数字化设计，精确复制一个仿生氧化锆义齿,在医生端实现零调磨精确修复。
一种数字化精确制作牙科修复方法