“濑柳博”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果14个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]抛光垫-CN201480005111.X有效
发明人： 濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2014-01-15 - 公布日： 2015-09-30 - 主分类号： B24B37/24 文献下载
摘要：本发明的目的在于提供一种在吸湿环境下不易吸水劣化、抛光特性和寿命特性优异、并且抛光速度大的抛光垫及其制造方法。本发明的抛光垫具有抛光层，所述抛光层包含具有微细气泡的聚氨酯发泡体，所述聚氨酯发泡体为异氰酸酯封端预聚物和增链剂的反应固化体，其中所述异氰酸酯封端预聚物由包含异氰酸酯成分、高分子量多元醇、及脂肪族二元醇的预聚物原料组合物反应而得到，所述高分子量多元醇包括在200-300的范围内具有分子量分布的峰的聚亚烷基二醇A、及在800-1200的范围内具有分子量分布的峰的聚亚烷基二醇B。
抛光

[发明专利]容器及使用了该容器的研磨垫的制造方法-CN201180070072.8无效
发明人： 濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2011-04-25 - 公布日： 2013-12-25 - 主分类号： B29C39/24 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供用于制作无气穴、质量好的研磨垫的容器，使用了该容器的研磨垫的制造方法，以及通过该制造方法而得到的研磨垫。本发明的容器是用于容纳树脂组合物的容器，其特征在于，所述容器以通过连结部将两个以上的主体构件连结为环箍状的方式构成，且在至少一个连结部中设置有使相邻的主体构件之间以可以双开的方式连结的开闭构件，而其他的至少一个连结部中设置有使相邻的主体构件之间连结为铰链门状的连结构件。
容器使用研磨制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148746.7有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-03-26 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148745.2有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-03-26 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148747.1有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-03-19 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148750.3有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148749.0有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148751.8有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200710148748.6无效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2008-02-27 - 主分类号： B24B37/04 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN200680004397.5有效
发明人：堂浦真人;福田武司;小川一幸;数野淳;濑柳博;中森雅彦;山田孝敏;下村哲生 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2006-02-27 - 公布日： 2008-01-30 - 主分类号： C08G18/00 文献下载
摘要：本发明提供一种具有由聚氨酯树脂发泡体形成的研磨层的研磨垫及其制造方法中，所述聚氨酯树脂发泡体是异氰酸酯末端预聚物和增链剂的反应固化物，其中，(1)使用熔点70℃以下的芳香族多胺作为增链剂，(2)使用含有异氰酸酯成分和高分子量多元醇的异氰酸酯末端预聚物和作为增链剂的芳香族二醇的EO/PO加成体，或(3)使用脂肪族/脂环族异氰酸酯末端预聚物和作为增链剂的非卤素类芳香族胺。此外，所述聚氨酯树脂发泡体也可以使用多聚化二异氰酸酯和芳香族二异氰酸酯作为异氰酸酯成分。由此能够得到具有极其均匀的微细气泡，研磨特性(平坦化特性)优异，修整性提高的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]研磨垫片用聚氨酯发泡体的制造方法和聚氨酯发泡体-CN02828915.3有效
发明人： 濑柳博;井上薰 -专利权人：东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-05-07 - 公布日： 2005-06-08 - 主分类号： C08G18/08 文献下载
摘要：本发明提供一种研磨垫片用聚氨酯发泡体的制造方法，包括：向槽中投入规定量的预聚物、制泡剂和含活性氢化合物，并在规定时间内利用搅拌器进行发泡、混合的步骤；在所述步骤之后，使混合液流入金属模的步骤。
研磨垫片聚氨酯发泡制造方法

[发明专利]生产聚氨酯泡沫塑料的方法,聚氨酯泡沫塑料和磨光片-CN01811078.9有效
发明人： 濑柳博;井上薰;小川一幸;增井敬志;小野浩一 -专利权人：东洋橡膠工业株式会社
申请日： 2001-06-07 - 公布日： 2005-03-30 - 主分类号： C08G18/10 文献下载
摘要：一种通过混合包含异氰酸酯化合物的第一成分和包含含活泼氢基团的化合物的第二成分生产细孔聚氨酯泡沫塑料的方法，其特征在于包含基于第一成分和第二成分的总量，以0.1－5重量％的量，不包括5重量％，向所述第一成分和第二成分的至少一种中加入不含羟基的非离子硅氧烷表面活性剂，随后搅拌所述包含表面活性剂的成分和惰性气体以将所述惰性气体分散成微细气泡，来制备气泡分散体，然后混合所述气泡分散体与剩余成分，固化得到的混合物。因此，不使用化学反应发泡剂如水、可汽化膨胀发泡剂如碳氟化合物、或其它物质如细粒中空泡沫或溶于溶剂的物质，可生产具有均匀细孔和比具有相同密度的聚氨酯泡沫塑料更高硬度的聚氨酯泡沫塑料。
生产聚氨酯泡沫塑料方法磨光

[发明专利]研磨垫及其制造方法-CN02822514.7有效
发明人：下村哲生;中森雅彦;山田孝敏;增井敬志;驹井茂;小野浩一;小川一幸;数野淳;木村毅;濑柳博 -专利权人：东洋纺织株式会社;东洋橡胶工业株式会社
申请日： 2002-10-03 - 公布日： 2005-02-23 - 主分类号： H01L21/304 文献下载
摘要：本发明提供提供一种研磨垫，通过该研磨垫可以稳定且高研磨效率地将透镜、反射镜等的光学材料、或硅晶片、硬盘用的玻璃基片、铝基片、以及一般的金属研磨加工等的要求高度表面平坦性的材料平坦化。本发明还提供半导体晶片用研磨垫，其平坦化特性优良，划痕的发生少并且可以低成本制造。还提供无脱夹误差从而不仅不损害晶片也不降低作业效率的研磨垫。还提供平坦性、晶片内均匀性、和研磨速度令人满意、并且研磨速度变化小的研磨垫。还提供可以同时获得平坦性提高和划痕减少的研磨垫。
研磨及其制造方法

[发明专利]聚氨酯组合物以及研磨垫-CN02811396.9有效
发明人：增井敬志;中森雅彦;山田孝敏;小野浩一;小川一幸;数野淳;濑柳博 -专利权人：东洋纺织株式会社;东洋橡膠工业株式会社
申请日： 2002-04-04 - 公布日： 2004-07-14 - 主分类号： C08G18/08 文献下载
摘要：使用聚氨酯中分散含有实心珠子的聚氨酯组合物且该聚氨酯为含有微细气泡的聚氨酯微发泡体并且通过动态粘弹性测定装置测定的40℃下的贮存弹性率在270MPa以上的聚氨酯组合物的研磨垫具有良好的平坦性。另外使用聚氨酯中分散含有实心珠子的聚氨酯组合物且上述实心珠子为在水性介质中溶胀或者溶解的实心珠子的聚氨酯组合物的研磨垫，可以兼有平坦性和均匀性，并且可以减少刮痕。
聚氨酯组合以及研磨

1
共 14 条