专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]液晶显示装置-CN200610127486.0无效
  • 林子原;林敬桓;张志明;潘信桦;姜俊宏;谢富程;吴俊杰 - 友达光电股份有限公司
  • 2006-09-15 - 2007-02-21 - G02F1/133
  • 本发明是有关于一种液晶显示装置,包含:第一基板,其上具有第一电极;第二基板,其上具有第二电极,其中该第二基板是与该第一基板平行设置,且该第一电极是与该第二电极相对;第一配向膜及第二配向膜,是分别形成于该第一电极与该第二电极之上,其中该第一配向膜的配向方向与该第二配向膜的配向方向垂直,以及经配向处理的液晶层,配置于该第一配向膜及第二配向膜之间,其中该液晶层的液晶材料是为强诱电性液晶或反强诱电性液晶。
  • 液晶显示装置
  • [发明专利]显示元件的形成方法及其结构-CN200610108007.0无效
  • 李刘中;潘信桦;黄国有 - 友达光电股份有限公司
  • 2006-07-21 - 2007-01-03 - G03F7/20
  • 本发明提供一种形成显示元件的方法,包括:于基板上形成第一金属、绝缘层、第二金属、保护层,并且形成有机光致抗蚀剂层于保护层上。接着,对有机光致抗蚀剂层进行光刻步骤,以形成图案化有机光致抗蚀剂层。接着,以图案化有机光致抗蚀剂层作为掩模,执行干蚀刻步骤,使得在第一金属上形成第一接触孔和在第二金属上形成第二接触孔,并分别曝露出第一金属和第二金属。接下来,采用热处理的方式,处理图案化有机光致抗蚀剂层,使得图案化有机光致抗蚀剂层产生相变,并朝向第一接触孔的侧壁和第二接触孔的侧壁流动,且覆盖在第一接触孔和第二接触孔的侧壁上。通过图案化有机光致抗蚀剂层覆盖接触孔的侧壁,以控制接触孔侧壁的倾斜角度。
  • 显示元件形成方法及其结构

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