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- [发明专利]光学器件的制造方法-CN202211330344.X在审
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杉本达哉;铃木智史;港谷恭辅;藏本丰;铃木大几
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浜松光子学株式会社
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2018-08-02
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2023-01-31
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G02B26/08
- 本发明的目的是提供一种能够高精度地形成梁部的光学器件的制造方法。本发明的光学器件的制造方法包括：第1步骤，准备具有与基底、可动部和弹性支承部对应的部分的半导体基板(100)；第2步骤，在第1半导体层(101)的与绝缘层(103)相反侧的表面中与基底对应的区域形成第1抗蚀层(104)；第3步骤，通过将第1抗蚀层(104)用作掩模对第1半导体层进行蚀刻直至厚度方向上的中间部，而在第1半导体层形成凹部(105)；第4步骤，在凹部(105)的底面(105a)中与梁部对应的区域、凹部的侧面(105b)和第1半导体层的与绝缘层(103)相反侧的表面(101a)形成第2抗蚀层(106)；第5步骤，通过将第2抗蚀层(106)用作掩模对第1半导体层(101)进行蚀刻直至绝缘层(103)，而形成梁部(224)。
- 光学器件制造方法
- [发明专利]光学器件的制造方法-CN202211330346.9在审
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杉本达哉;铃木智史;港谷恭辅;藏本丰;铃木大几
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浜松光子学株式会社
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2018-08-02
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2023-01-31
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G02B26/08
- 本发明的目的是提供一种能够高精度地形成梁部的光学器件的制造方法。本发明的光学器件的制造方法包括：第1步骤，准备具有与基底、可动部和弹性支承部对应的部分的半导体基板(100)；第2步骤，在第1半导体层(101)的与绝缘层(103)相反侧的表面中与基底对应的区域形成第1抗蚀层(104)；第3步骤，通过将第1抗蚀层(104)用作掩模对第1半导体层进行蚀刻直至厚度方向上的中间部，而在第1半导体层形成凹部(105)；第4步骤，在凹部(105)的底面(105a)中与梁部对应的区域、凹部的侧面(105b)和第1半导体层的与绝缘层(103)相反侧的表面(101a)形成第2抗蚀层(106)；第5步骤，通过将第2抗蚀层(106)用作掩模对第1半导体层(101)进行蚀刻直至绝缘层(103)，而形成梁部(224)。
- 光学器件制造方法
- [发明专利]光学器件-CN202211376638.6在审
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杉本达哉;铃木智史;港谷恭辅
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浜松光子学株式会社
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2018-07-06
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2023-01-13
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G02B26/08
- 本发明提供实现可动反射镜的镜面的大型化，并抑制可动反射镜的可动性能降低和装置整体的大型化的光学器件。光学器件(10)包括：具有主面的基体(12)；具有沿着与主面平行的平面的镜面的可动反射镜(11)；将可动反射镜以沿着与主面垂直的第1方向可移动的方式支承的第1弹性支承部(14)和第2弹性支承部(15)；使可动反射镜沿着第1方向移动的致动器部(16)；和配置在与第1方向垂直的第2方向上的可动反射镜的一侧的第1光学功能部(17)。第1弹性支承部(14)具有从可动反射镜(11)沿着主面向与第1和第2方向垂直的第3方向上的第1光学功能部的两侧延伸的一对第1杆(141)。第2方向上的一对第1杆(141)各自的长度(A1)大于镜面(11a)的外缘与第1光学功能部(17)的边缘之间的最短距离(D1)。
- 光学器件
- [发明专利]光学组件-CN201880043521.1有效
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铃木智史;港谷恭辅;杉本达哉;藏本丰;柴山胜己;细川畅郎
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浜松光子学株式会社
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2018-07-06
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2022-04-19
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G02B26/08
- 光学组件(1A)包括包含可动反射镜(22)和固定反射镜(16)的反射镜单元(2)、分束器单元(3)、光入射部(4)、第1光检测器(6)、第2光源(7)、第2光检测器(8)、保持单元(130)、第1反射镜(51)、第2反射镜(52)和第3反射镜(53)，保持单元(130)以使得第1光检测器(6)、第2光检测器(8)和第2光源(7)朝向同一侧且按第1光检测器(6)、第2光检测器(8)、第2光源(7)的顺序排列的方式保持第1光检测器(6)、第2光检测器(8)和第2光源(7)，分束器单元(3)与第1光检测器(6)之间的光路的长度比分束器单元(3)与第2光检测器(8)之间的光路的长度短，且比分束器单元(3)与第2光源(7)之间的光路的长度短。
- 光学组件
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