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[实用新型]半导体封装清洗设备摇摆喷淋装置-CN201821219774.3有效
发明人：韦光露;曾志家;张彦平 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2019-04-16 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半导体封装清洗设备摇摆喷淋装置，包括喷淋室，设有喷孔的第一喷杆，用于支撑第一喷杆的第一摆动架，电机，第一偏心轮和第一进液管；第一进液管分别与第一喷杆连通，第一偏心轮与电机主轴固定连接，第一偏心轮的第一偏心轴与第一摆动架固定连接，电机通过第一偏心轴驱动第一摆动架摆动。它的优点是第一喷杆和第二喷杆在喷淋室内摆动，因此可以对喷淋室内的待清洗部件全面清洗，清洗效果好，清洗效率高。
喷杆摆动架偏心轮半导体封装第一进液管喷淋装置清洗设备摆动喷淋摇摆电机室内本实用新型偏心轴驱动电机主轴清洗部件清洗效果清洗效率全面清洗喷淋室偏心轴喷孔连通支撑

[实用新型]半导体封装清洗设备空气和水加热装置-CN201821213029.8有效
发明人：梁小龙;曾志家;廖许胜 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： F24H6/00 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半导体封装清洗设备空气和水加热装置，包括内管，外管，进水管，出水管，进气管和出气管；外管套设在内管外且与内管之间形成密封的水流通道，内管内密封设有加热体，水流通道的进水口与进水管端连通，水流通道的出水口与出水管端连通，内管的进气口与进气管连通，内管的出气口与出气管连通。能同时加热液体和气体，加热体的热量得到充分利用。它的优点是能同时加热液体和气体，加热体的热量得到充分利用；内管气体的温度不易散发，水流通道的的液体对内管气体起到保温作用。
内管水流通道连通加热体半导体封装水加热装置加热液体清洗设备出气管出水管进气管进水管进气口本实用新型保温作用出气口出水口进水口内密封外管套外管密封散发

[实用新型]半导体封装清洗设备药液配比装置-CN201821213125.2有效
发明人：曾志家;梁小龙;张彦平 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： B01F15/04 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种半导体封装清洗设备药液配比装置，包括水箱，水出管，连接管，原液箱和原液管，水箱的出水口与水出管通过设有的第一阀门连接；原液箱的底部通过设有第二阀门与原液管连接，水出管与原液管通过连接管连接。它的优点是根据需要的溶度，分别往水箱内注入一定量的水，往原液箱内注入一定量的原液，通过控制第一阀门和第二阀门，使得原液和水在连接管内混合，混合后形成的清洗液直接喷向清洗室内，因此可以大量配置清洗液，可以方便快速控制清洗液的溶度，同时防止了清洗液对水箱或者原液箱产生的腐蚀。
清洗液水箱连接管原液管原液箱出管阀门原液半导体封装清洗设备药液配比溶度本实用新型阀门连接快速控制出水口内混合清洗腐蚀室内配置

[实用新型]高精密集成电路离心清洗设备-CN201821212217.9有效
发明人：黄绍炎;张彦平;曾志家;廖许胜 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2019-03-26 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种高精密集成电路离心清洗设备，包括清洗室，清洗液箱，喷嘴，第一发热管，第二发热管，清洗管，离心转轴，带动离心转轴转动的电机，第一进气管和第一进水管；清洗室内设有夹紧待洗元件的夹紧件，夹紧件与离心转轴固定连接，第一进水管的一端与第二发热管连接，另一端与喷嘴连接，喷嘴伸入清洗室内；第一进气管的一端与第一发热管的出口连接，另一端与第一进水管的中部连通，第一发热管的进口通过设有的第二进气管与外部压缩空气连接；清洗管的一端与清洗液箱连接，另一端伸入清洗室内。它的优点是清洗液和水依次对元件清洗，由于元件随着偏心轴在清洗室内做偏心运动，因此能够全面对元件进行清洗，清洗效果好。
发热管清洗离心转轴喷嘴进气管进水管室内离心清洗设备清洗液箱高精密夹紧件清洗管伸入集成电路压缩空气连接本实用新型出口连接偏心运动清洗效果偏心轴清洗室清洗液夹紧连通转动电机外部进口

[发明专利]高精密集成电路离心清洗设备-CN201810843399.8在审
发明人：黄绍炎;张彦平;曾志家;廖许胜 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2018-07-27 - 公布日： 2018-12-07 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种高精密集成电路离心清洗设备，包括清洗室，清洗液箱，喷嘴，第一发热管，第二发热管，清洗管，离心转轴，带动离心转轴转动的电机，第一进气管和第一进水管；清洗室内设有夹紧待洗元件的夹紧件，夹紧件与离心转轴固定连接，第一进水管的一端与第二发热管连接，另一端与喷嘴连接，喷嘴伸入清洗室内；第一进气管的一端与第一发热管的出口连接，另一端与第一进水管的中部连通，第一发热管的进口通过设有的第二进气管与外部压缩空气连接；清洗管的一端与清洗液箱连接，另一端伸入清洗室内。它的优点是清洗液和水依次对元件清洗，由于元件随着偏心轴在清洗室内做偏心运动，因此能够全面对元件进行清洗，清洗效果好。
发热管清洗离心转轴喷嘴进气管进水管室内离心清洗设备清洗液箱高精密夹紧件清洗管伸入集成电路压缩空气连接出口连接偏心运动清洗效果偏心轴清洗室清洗液夹紧连通转动电机外部进口

[实用新型]晶圆清洗机-CN201621063171.X有效
发明人：李健;张彦平;黄建军;李成江;张明思 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2016-09-19 - 公布日： 2017-08-08 - 主分类号： B08B3/12 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种晶圆清洗机，包括清洗罐以及与清洗罐可形成密封盖合的上盖，还包括设于清洗罐内用于固定晶圆的固定盘，用于存放乙醇的乙醇箱体，用于存放清洗液的清洗液箱体以及若干管道；上盖设有排气口，清洗罐内安装有超声波震板，上盖的内侧面设有向清洗罐内喷淋清洗液的喷嘴，清洗液箱体的排液口通过设有的管道与喷嘴连接；清洗罐底部设有排液口，乙醇箱体的排液口通过管道与清洗罐的进液口连接，清洗罐的底部设有压缩空气的进气管，进气管内设有加热器以及检测进气管内气体温度的测温探头。它的优点是结合清洗液和超声波对晶圆表面的污垢进行清洗，能够快速干净的清洗晶圆表面的污垢，再通过热空气将晶圆烘干处理，提高了晶圆的清洗效率和速度，同时还能对晶圆进行烘干，工艺简单。
清洗

[实用新型]刮刀清洗机-CN201621062578.0有效
发明人：李健;张彦平;黄建军;李成江;张明思 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2016-09-19 - 公布日： 2017-04-26 - 主分类号： B08B3/10 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种刮刀清洗机，包括电机，机箱以及与机箱盖合的机盖，还包括用于固定刮刀的刮刀固定架，清洗槽和锡膏过滤器；清洗槽和锡膏过滤器分别设置于机箱内，刮刀固定架的两端与清洗槽的内壁通过设有的旋转轴连接，电机带动刮刀固定架旋转；清洗槽内设有于可旋转的刮刀固定架，清洗槽的侧壁设有排气孔，清洗槽的底部通过设有的排水管与锡膏过滤器连接，机箱盖设有进液管和进气管。它的优点是刮刀固定架一次性可固定若干刮刀，因此可同时清洗若干刮刀，提高了清洗效率；刮刀固定架可正转和反转，容易清除刮刀表面的水分及附着残留物，缩短清洗时间；锡膏过滤器可回收过滤沉淀后的锡膏。
刮刀清洗

[实用新型]SMT废水处理设备-CN201520094943.5有效
发明人：肖立煌;李健;张彦平;杨智文 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2015-02-10 - 公布日： 2015-10-21 - 主分类号： C02F9/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种SMT废水处理设备，包括：若干循环槽系统，每个所述循环槽系统均连接有管道，且所述循环槽系统均包括有通过所述管道连接的过滤器、低压泵、高压泵、反渗透膜，从所述反渗透膜过滤后的透析液，连通至透液存储箱，从所述反渗透膜出来的浓缩液通过针阀、热交换器重新接回所述循环槽系统或浓液存储槽。本实用新型是一种具有高抗污染、使用寿命长、极大地降低污水处理成本和运营成本的SMT废水处理设备。
smt 废水处理设备

[实用新型]FCCSP全自动在线清洗机-CN201420528639.2有效
发明人：杨智文;李健 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2014-09-16 - 公布日： 2014-12-31 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本实用新型属于清洗设备，具体涉及的是一种自动晶片覆晶载板清洗机。本清洗机中化学隔离室、第一风切干燥室和第二风切干燥室中对应的胶辊设有沿覆晶载板移动方向设置的扫风槽，扫风槽用于增大覆晶载板被扫风的面积，扫风槽为沿胶辊径向设置的环形凹槽，胶辊上设有多个扫风槽且沿胶辊轴向均匀设置。本实用新型采用上胶辊和下胶辊配合夹装覆晶载板，在胶辊上设置环形扫风槽，在风刀向覆晶载板扫风的时候，高速空气可以通过扫风槽通过覆晶载板表面，同时扫风槽设有多个且均匀分布，可以提供更大面积的向覆晶载板扫风面积，扫风槽的设置使得清除清洗液的效率更高。
fccsp 全自动在线清洗

[发明专利]FCCSP全自动在线清洗机-CN201410468379.9在审
发明人：杨智文;李健 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2014-09-16 - 公布日： 2014-12-24 - 主分类号： B08B3/02 文献下载
摘要：本发明属于清洗设备，具体涉及的是一种自动晶片覆晶载板清洗机。本清洗机中化学隔离室、第一风切干燥室和第二风切干燥室中对应的胶辊设有沿覆晶载板移动方向设置的扫风槽，扫风槽用于增大覆晶载板被扫风的面积，扫风槽为沿胶辊径向设置的环形凹槽，胶辊上设有多个扫风槽且沿胶辊轴向均匀设置。本发明采用上胶辊和下胶辊配合夹装覆晶载板，在胶辊上设置环形扫风槽，在风刀向覆晶载板扫风的时候，高速空气可以通过扫风槽通过覆晶载板表面，同时扫风槽设有多个且均匀分布，可以提供更大面积的向覆晶载板扫风面积，扫风槽的设置使得清除清洗液的效率更高。
fccsp 全自动在线清洗

[实用新型]有机废水COD分离装置-CN201420333973.2有效
发明人：杨智文;李健 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2014-06-23 - 公布日： 2014-12-17 - 主分类号： C02F9/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了有机废水COD分离装置，涉及污水处理领域；该装置包括换热器、储液槽和COD膜，所述换热器的废水出口接所述储液槽废水入口，所述储液槽出口接COD膜废水入口，废水经COD膜反渗透后，透过液经第一出口排放或回收利用，浓缩液经COD膜第二出口与换热器的废水入口连接，本实用新型提供的有机废水COD分离装置，高效浓缩废水中的COD，为后续处理COD作准备，而且经过COD膜处理后的水可以直接引出外部循环利用，从而达到节约用水，减排废水的环保目的。
有机废水 cod 分离装置

[发明专利]有机废水COD分离装置及方法-CN201410280562.6无效
发明人：杨智文;李健 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2014-06-23 - 公布日： 2014-09-10 - 主分类号： C02F9/02 文献下载
摘要：本发明公开了有机废水COD分离装置及方法，涉及污水处理领域；该装置包括换热器、储液槽和COD膜，所述换热器的废水出口接所述储液槽废水入口，所述储液槽出口接COD膜废水入口，废水经COD膜反渗透后，透过液经第一出口排放或回收利用，浓缩液经COD膜第二出口与换热器的废水入口连接，本发明提供的有机废水COD分离装置及方法，高效浓缩废水中的COD，为后续处理COD作准备，而且经过COD膜处理后的水可以直接引出外部循环利用，从而达到节约用水，减排废水的环保目的。
有机废水 cod 分离装置方法

[实用新型]全自动半导体封装微尘清洗设备-CN201320592351.7有效
发明人：高辉武;曾志家 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2013-09-24 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： H01L21/02 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种全自动半导体封装微尘清洗设备，将待清洗的半导体器件对应固定在叶轮盘上，且在叶轮盘的上下两侧各设置有多个二流体喷淋头，将压缩空气和清洗液对应以雾化去离子水分子的形式喷出，当主轴驱动机构带动叶轮盘旋转时，通过喷出的雾化去离子水分子可实现对半导体器件的清洗；在清洗后，通过加热板和空气过滤机构对腔体中的水雾进行抽干和干燥处理，从而实现对半导体器件的干燥。与现有技术相比，本实用新型可适应电子行业高精度元器件的清洗要求，其具有清洗质量稳定，效果好的优点，且在清洗完成之后能快速离心甩干，可以大大提高生产效率及烘干效果。
全自动半导体封装微尘清洗设备

[实用新型]全自动兆声波半导体晶圆清洗设备-CN201320592361.0有效
发明人：高辉武;曾志家 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2013-09-24 - 公布日： 2014-04-16 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种全自动兆声波半导体晶圆清洗设备，其利用兆声波发生器产生的兆声波进入到设置在腔体中的兆声清洗机构，从进水端进入的洁净DI水会对应带上超声波能量，将正在清洗盘上旋转的工件上的污染物击穿气化；同时利用二流体清洗机构进入洁净DI水与进入的压缩空气进行混合产生雾化去离子水分子，而雾化后的水分子可以充满整个腔体及工件的小缝隙，达到完全清洗的效果。与现有技术相比，本实用新型利用二流体、高频兆声波及离子风相结合的清洗方式，实现了对高精密半导体晶圆的清洗，满足了其洁净度的要求；同时本实用新型还利用清洗完后快速离心甩干实现了高精密半导体晶圆的干燥，有效提高了工作效率，保证了清洗的效果。
全自动声波半导体清洗设备

[发明专利]全自动兆声波半导体晶圆清洗设备-CN201310440054.5有效
发明人：高辉武;曾志家 -专利权人： 深圳市凯尔迪光电科技有限公司
申请日： 2013-09-24 - 公布日： 2014-01-01 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明公开了一种全自动兆声波半导体晶圆清洗设备，其利用兆声波发生器产生的兆声波进入到设置在腔体中的兆声清洗机构，从进水端进入的洁净DI水会对应带上超声波能量，将正在清洗盘上旋转的工件上的污染物击穿气化；同时利用二流体清洗机构进入洁净DI水与进入的压缩空气进行混合产生雾化去离子水分子，而雾化后的水分子可以充满整个腔体及工件的小缝隙，达到完全清洗的效果。与现有技术相比，本发明利用二流体、高频兆声波及离子风相结合的清洗方式，实现了对高精密半导体晶圆的清洗，满足了其洁净度的要求；同时本发明还利用清洗完后快速离心甩干实现了高精密半导体晶圆的干燥，有效提高了工作效率，保证了清洗的效果。
全自动声波半导体清洗设备

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