专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果20个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]锂离子二次电池-CN202180050496.1在审
  • 由良幸信;大石宪吾;水上俊介 - 日本碍子株式会社
  • 2021-03-29 - 2023-04-11 - H01M4/485
  • 本发明提供能够提高成品率、长期性能的一体烧结体型的锂离子二次电池。该锂离子二次电池具备:(a)单元电池,其包括由锂复合氧化物烧结体构成的正极层、由含钛烧结体构成的负极层、介于正极层与负极层之间的陶瓷隔板、以及至少含浸于陶瓷隔板的电解质;(b)集电层,其配设于单元电池的两面或负极层侧的面;以及(c)外装体,其具有密闭空间,在该密闭空间内收纳有单元电池。正极层、陶瓷隔板、负极层以及集电层整体形成1个一体烧结体,由此正极层、陶瓷隔板、负极层、以及集电层彼此结合,对集电层与负极层的界面进行截面观察的情况下,界面处的集电层和负极层直接接触的区域占据的比例为45~90%。
  • 锂离子二次电池
  • [发明专利]锂二次电池及其充电状态的测定方法-CN202080058505.7在审
  • 由良幸信;冈田茂树;水上俊介 - 日本碍子株式会社
  • 2020-09-01 - 2022-07-08 - H01M10/0525
  • 本发明提供一种锂二次电池,虽然采用LiCoO2(LCO)等锂复合氧化物正极及Li4Ti5O12(LTO)等含钛氧化物负极,但是能够提供电阻值根据充电状态(SOC)而大幅变化的锂二次电池。该锂二次电池具备:正极层,其由锂复合氧化物烧结体构成,且厚度为70μm以上;负极层,其由含钛烧结体构成,且厚度为70μm以上;隔板,其介于正极层与负极层之间;电解质,其至少含浸于隔板;以及外装体,其具备密闭空间,且在该密闭空间内收纳有正极层、负极层、隔板及电解质,其中,该锂二次电池具有电阻值随着充电状态(SOC)从10%上升到80%而降低的特性。
  • 二次电池及其充电状态测定方法
  • [发明专利]三维造型物的制造方法及三维造型物的造型装置-CN201910183147.1有效
  • 水上俊介;山崎乡志;中村和英;汤胁康平;齐藤功一 - 精工爱普生株式会社
  • 2019-03-12 - 2022-02-11 - B29C64/112
  • 提供能够以高造型精度快速造型三维造型物的三维造型物的制造方法及三维造型物的造型装置。三维造型物的制造方法具备:第一工序,通过向正在旋转的平头螺杆提供材料,生成上述材料的至少一部分熔融而成的造型材料,并且边改变造型操作台和喷嘴的相对位置,边通过从上述喷嘴向上述造型操作台喷出上述造型材料的喷出处理在上述造型操作台上堆积上述造型材料,从而造型第一造型部位,上述第一造型部位具有凹部,上述凹部向着从上述造型操作台向上述喷嘴的方向开口;第二工序,包括通过上述喷出处理在上述凹部内堆积上述造型材料的工序,按照比上述第一造型部位的每单位体积的造型时间更短的每单位体积的造型时间造型固定于上述凹部内的第二造型部位。
  • 三维造型制造方法装置
  • [发明专利]造型材料供给装置、三维造型装置-CN202110779556.5在审
  • 齐藤功一;汤胁康平;水上俊介;中村和英 - 精工爱普生株式会社
  • 2018-08-23 - 2021-10-15 - B29C64/205
  • 提供一种造型材料供给装置、三维造型装置,能够以更高的精度来控制造型材料的喷出量。造型材料供给装置用于三维造型装置,并具备:造型材料生成部,使材料的至少一部分熔融以生成造型材料;喷嘴,具有喷出口,喷出所述造型材料;以及流量调节机构,调节所述造型材料从所述喷出口的喷出量,所述造型材料生成部具备:驱动电机;扁平螺杆,所述扁平螺杆具有形成有槽的槽形成面,所述扁平螺杆通过所述驱动电机而旋转;以及对面部,具有与所述槽形成面相对的螺杆相对面,所述对面部形成有与所述喷嘴连通的连通孔,并具有加热器,作为所述槽的一部分的第一槽的深度比作为所述槽的一部分且相比于所述第一槽更靠近所述扁平螺杆的中心的第二槽的深度深。
  • 造型材料供给装置三维
  • [发明专利]三维造型物的制造方法以及造型装置-CN201910120957.2有效
  • 水上俊介;中村和英;齐藤功一;汤胁康平 - 精工爱普生株式会社
  • 2019-02-18 - 2021-09-21 - B29C64/112
  • 本发明涉及三维造型物的制造方法以及造型装置,其能够抑制三维造型物的强度降低。三维造型物的制造方法具备:第一喷吐工序,一边在与造型台的上表面垂直的第一方向上改变喷嘴相对于所述造型台的位置,一边从所述喷嘴连续地喷出所述造型材料,使所述造型材料沿所述第一方向堆积;第二喷吐工序,一边在沿着所述造型台的上表面的第二方向上改变所述喷嘴相对于所述造型台的位置,一边从所述喷嘴连续地喷出所述造型材料,沿所述第二方向配置所述造型材料;以及重复工序,重复所述第一喷吐工序和所述第二喷吐工序。
  • 三维造型制造方法以及装置
  • [发明专利]锂二次电池-CN201980063910.5在审
  • 日比野真彦;水上俊介;中西贵大;藤田雄树 - 日本碍子株式会社
  • 2019-11-13 - 2021-07-23 - H01M4/131
  • 锂二次电池(1)的外装体(6)具备:被覆区域(67)和外周区域(68)。被覆区域(67)为在重合方向上与正极(2)、隔板(4)及负极(3)重叠的矩形的区域。外周区域(68)为将被覆区域(67)的周围包围的矩形框状的区域。外周区域(68)的第一区域(681)为沿着一对长边(691)分别延伸的带状区域。第一区域(681)中,第一片材部(65)及第二片材部(66)相接合。第二区域(682)为在一对第一区域(681)中的至少一个第一区域(681)与被覆区域(67)之间沿着被覆区域(67)延伸的带状区域。第二区域(682)中,第一片材部(65)及第二片材部(66)以非接合状态接触或接近。由此,能够抑制电解液(5)向锂二次电池(1)的外部漏出。
  • 二次电池
  • [发明专利]三维成型装置以及三维成型装置的控制方法-CN202110050192.7在审
  • 齐藤功一;汤胁康平;中村和英;水上俊介 - 精工爱普生株式会社
  • 2018-07-26 - 2021-06-04 - B29C64/112
  • 本发明提供一种三维成型装置以及三维成型装置的控制方法,提高材料从喷嘴的喷出控制精度。该三维成型装置具备:喷嘴,喷嘴,具有喷出熔融材料的喷出口;塑化部,具有扁平螺杆、螺杆对面部以及使扁平螺杆旋转的驱动电机,扁平螺杆具有设置有呈旋涡状延伸的槽部的槽形成面,螺杆对面部具有与槽形成面相对的螺杆相对面;以及喷出控制机构,控制熔融材料从喷出口流出,在扁平螺杆的侧面形成有接受固体状态的具有热塑性的材料的材料导入口,槽部连续至材料导入口,在螺杆对面部设置有第一加热器以及与喷嘴连通的连通孔,塑化部使从材料导入口供给的材料通过扁平螺杆的旋转而在槽部内被加热并塑化,生成熔融材料,使熔融材料穿过连通孔而导入喷嘴。
  • 三维成型装置以及控制方法
  • [发明专利]电路基板组件-CN201980053244.7在审
  • 由良幸信;前田一树;水上俊介 - 日本碍子株式会社
  • 2019-10-29 - 2021-06-01 - H01M50/284
  • 电路基板组件(8)具备:配线基板(81);纽扣型二次电池(1),其为利用焊锡回流焊而与配线基板(81)电连接的锂二次电池;以及无线通信器件(82),其与配线基板(81)电连接。纽扣型二次电池1具备:正极,其包含烧结体;负极,其包含烧结体;电解质层,其设置于正极与负极之间;以及外装体,其具有对正极、负极以及电解质层进行收纳的密闭空间。若将正极的容量设为C、将负极的容量设为A,则满足1.03<C/A<1.60。
  • 路基组件
  • [发明专利]电连接箱-CN201680032534.X有效
  • 奥村雅和;水上俊介 - 住友电装株式会社
  • 2016-06-13 - 2019-11-19 - H02G3/16
  • 本发明提供一种具备新结构的电连接箱,即使在使用将端子保持部与电气部件安装部一体化的部件保持壳体的情况下,也能够容易地确认侧方部件连接部中的连接端子部与支承销的卡合,能够同时实现组装作业性、可靠性的提高与部件个数的削减所实现的作业效率性的提高。在部件保持壳体(22)的上壁部(66),在与沿垂直方向配置于内部的支承销(52)相对的位置贯通设置有贯通窗(68)。
  • 连接
  • [发明专利]等离子体处理装置和半导体装置的制造方法-CN201110083707.X有效
  • 山本高志;水上俊介;大谷龙二;樋口公博 - 东京毅力科创株式会社
  • 2011-03-30 - 2011-10-05 - H01J37/32
  • 本发明提供一种等离子体处理装置和半导体装置的制造方法,其能够防止在半导体晶片等基板与下部电极的基材或其它周边构造物之间发生放电,能够使成品率提高,达到生产性的提高。该等离子体处理装置包括:处理腔室;设置在处理腔室内,具有被施加高频电力的由导电性金属构成的基材,兼用作载置被处理基板的载置台的下部电极;设置在处理腔室内,以与下部电极相对的方式配置的上部电极;和在下部电极上,以包围被处理基板的周围的方式配置的聚焦环,该等离子体处理装置中配置有电连接机构,该电连接机构经由电流控制元件对下部电极的基材与聚焦环之间进行电连接,并根据电位差产生直流电流。
  • 等离子体处理装置半导体制造方法

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top