专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种双极膜电渗析制备六氰钴酸的方法-CN202211056984.6在审
  • 沈江南;董云迪;崔海龙;母俊杰;阮慧敏 - 浙江工业大学
  • 2022-08-31 - 2022-12-06 - C01C3/00
  • 一种双极膜电渗析制备六氰钴酸的方法,所述方法包括如下步骤:1)将六氰钴酸钾固体粉末配制成6~11wt%的六氰钴酸钾水溶液;2)将步骤1)得到的六氰钴酸钾水溶液送至双极膜电渗析装置进行处理,所述的双极膜电渗析装置是由阳离子交换膜和双极膜间隔排列组装而成的酸室/碱室两隔室双极膜电渗析装置,在酸室和碱室中分别通入六氰钴酸钾水溶液和去离子水,通电进行电渗析;3)经步骤2)中的双极膜电渗析装置处理之后,酸室得到六氰钴酸溶液,碱室得到氢氧化钾溶液,经浓缩可制得氢氧化钾晶体或回用到步骤1)调节六氰钴酸钾溶液pH至7~8。本发明解决了传统六氰钴酸生产工艺中存在的问题,实现六氰钴酸的高效生产。
  • 一种双极膜电渗析制备六氰钴酸方法
  • [发明专利]庆大霉素基聚物改性阴离子交换膜的制备方法-CN202210330512.9在审
  • 沈江南;姚宇洋;李业洋;母俊杰 - 浙江工业大学
  • 2022-03-30 - 2022-07-12 - B01D61/42
  • 本发明公开了一种庆大霉素基聚物改性阴离子交换膜的制备方法,其包括如下步骤:步骤1:将商业阴离子交换膜依次在氢氧化钠水溶液、氯化钠水溶液中浸泡,接着水洗制备得到原膜;步骤2:在室温下,将多巴胺溶解于pH在8‑9之间的Tris缓冲液中,经多巴胺自聚合得到PDA溶液,将原膜的单面与PDA溶液接触,充分接触后将膜取出用去离子水充分冲洗得到M‑PDA膜;步骤3:制备庆大霉素基聚物;步骤4:将由上述步骤2制备的M‑PDA膜浸入高碘酸钠水溶液中,接触15‑45min后将膜取出水洗后,转移到含有庆大霉素基聚合物水溶液的培养皿中,将培养皿静置12‑48h,取出水洗得到改性阴离子交换膜。本发明所制得的阴离子交换膜具有较好的抗化学污染物性能和抗菌性能。
  • 庆大霉素基聚物改性阴离子交换制备方法

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