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[发明专利]感光性树脂组合物-CN201880010605.5有效
发明人： 樱井隆觉 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2018-02-07 - 公布日： 2023-07-14 - 主分类号： G03F7/023 文献下载
摘要：本发明提供一种感光性树脂组合物，其能够形成耐热形状保持性优异的正型抗蚀剂膜。本发明的感光性树脂组合物包含具有下述通式(I)所表示的单体单元单元的聚合物和聚酰胺酰亚胺。(通式(I)中，R1为化学单键或能够具有取代基的碳原子数为1～6的2价烃基，R2为氢原子或能够具有取代基的碳原子数为1～6的1价烃基。)
感光性树脂组合

[发明专利]感光性树脂层叠体-CN202211156119.9在审
发明人： 樱井隆觉;三个野原崇士 -专利权人：旭化成株式会社
申请日： 2022-09-22 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：本发明的目的在于，提供能够兼顾低粘性和高分辨率的感光性树脂层叠体、以及使用该感光性树脂层叠的卷、抗蚀图案和结构体。提供一种感光性树脂层叠体，其特征在于，其包含支撑体、感光性树脂层和覆盖薄膜，上述感光性树脂层和上述覆盖薄膜相接触，上述覆盖薄膜为低密度聚乙烯，且上述感光性树脂层含有：(A)碱溶性树脂、(B)具有烯属不饱和键的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂、和(D)两末端改性有机硅化合物，所述两末端改性有机硅化合物通过甲醇改性、酚改性或硅醇改性中的任意者进行了改性。
感光性树脂层叠

[发明专利]等离子体蚀刻方法-CN201780047429.8有效
发明人： 樱井隆觉;乾裕俊 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2017-07-21 - 公布日： 2023-04-04 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明涉及一种等离子体蚀刻方法，其为对氧化硅膜和氮化硅膜层叠而成的多层层叠体进行蚀刻的等离子体蚀刻方法，包含并用能够由组成式C3H2BrF3表示的含溴的碳氟化合物的气体和不含溴的碳氟化合物的气体，对氧化硅膜和氮化硅膜进行等离子体蚀刻的蚀刻工序。
等离子体蚀刻方法

[发明专利]感光性干膜-CN202210149893.0在审
发明人： 樱井隆觉 -专利权人：旭化成株式会社
申请日： 2022-02-18 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：[课题]提供能够降低针孔、并且能够实现微细化的感光性干膜。[解决手段]一种感光性干膜，其特征在于，具有(1)支承体、(2)感光性树脂层和(3)覆盖膜，(2)感光性树脂层含有以下的成分：(A)主链不含有烯属不饱和基团的碱溶性树脂；(B)具有烯属不饱和键的光聚合性化合物；(C)光聚合引发剂；和(D)I/O值(无机性值/有机性值)超过0且为0.7以下、环中含有1个以上N原子的杂环化合物(其不包括含有巯基(‑SH基)的杂环化合物)。
感光性

[发明专利]感光性树脂层叠体和抗蚀图案的形成方法-CN202111009525.8在审
发明人： 樱井隆觉 -专利权人：旭化成株式会社
申请日： 2021-08-31 - 公布日： 2022-03-01 - 主分类号： G03F7/09 文献下载
摘要：一种感光性树脂层叠体和抗蚀图案的形成方法。其课题在于，提供最小显影时间、分辨率、侧蚀(SE)量、对比度和渗出性中的至少一者优异的感光性树脂层叠体。一种感光性树脂层叠体，其特征在于，其具有支承体和使用感光性树脂组合物在前述支承体上形成的感光性树脂组合物层，所述感光性树脂组合物包含以下的成分：(A)碱溶性树脂、(B)具有烯属不饱和键的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂、(D)光波长550～700nm的吸光度增大的化合物和(E)有机显色剂，感光性树脂组合物层的膜厚超过0且为10μm以下。
感光性树脂层叠图案形成方法

[发明专利]感光性树脂组合物、使用了感光性树脂组合物的转印薄膜-CN202011462119.2在审
发明人： 樱井隆觉;西本秀昭;三个野原崇士;下田浩一朗 -专利权人：旭化成株式会社
申请日： 2020-12-11 - 公布日： 2021-06-18 - 主分类号： G03F7/004 文献下载
摘要：感光性树脂组合物、使用感光性树脂组合物的转印薄膜。提供使通过光刻法形成的物体、图案的成品率提高的干膜抗蚀剂或包含其的图案形成方法，层压性、最小显影时间、分辨率、侧蚀量、Cu缺损和显影残渣的至少一者优异的感光性树脂层叠体。提供干膜抗蚀剂，包含支撑薄膜和支撑薄膜上的感光性树脂组合物层，感光性树脂组合物包含(A)碱溶性树脂、(B)包含烯属不饱和键的光聚合性化合物、(C)光聚合引发剂和(D)染料，特定的穿刺试验的最大点载荷为70gf以上；作为B成分，包含三官能以上的多官能单体和二官能单体；和/或将感光性树脂组合物的不挥发成分的酸值记作A且将感光性树脂组合物层的厚度记作T，酸值A与厚度T之比为5～90。
感光性树脂组合使用薄膜

[发明专利]正型放射线敏感性树脂组合物-CN201880054622.9在审
发明人： 樱井隆觉 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2018-09-13 - 公布日： 2020-04-10 - 主分类号： G03F7/023 文献下载
摘要：本发明提供一种正型放射线敏感性树脂组合物，其可形成显影密合性优异的图案，且即使在以低温进行热处理的情况下也可形成耐药品性优异的树脂膜。本发明的正型放射线敏感性树脂组合物含有能够溶于碱的树脂、当照射放射线时生成羧酸的第一产酸剂、当照射放射线时生成磺酸的第二产酸剂、以及含氟酚性化合物。
放射线敏感性树脂组合

[发明专利]等离子体蚀刻方法-CN201780015395.4在审
发明人： 樱井隆觉 -专利权人：日本瑞翁株式会社
申请日： 2017-03-16 - 公布日： 2018-10-23 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明涉及等离子体蚀刻方法，其包含将包含能够由组成式C₃H₂BrF₃表示的化合物的气体的处理气体供给到处理容器内、将处理容器内设为对能够由组成式C₃H₂BrF₃表示的化合物的气体进行发射光谱分析而得到的CF₂/F比的值成为0.33以上的条件、对被处理体上的硅氮化物膜进行等离子体蚀刻的第1蚀刻工序，上述能够由组成式C₃H₂BrF₃表示的化合物的气体为2‑溴‑3,3,3‑三氟丙烯气体、1‑溴‑3,3,3‑三氟丙烯气体、(E)‑1‑溴‑3,3,3‑三氟丙烯气体和/或3‑溴‑2,3,3‑三氟丙烯气体。
三氟丙烯等离子体蚀刻组成式处理容器蚀刻处理气体供给发射光谱分析被处理体硅氮化物