专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]磁头浮动块-CN200610151675.1无效
  • 桥本清司;小平英一;山崎敬法;三宅晃司 - 日立环球储存科技荷兰有限公司
  • 2006-09-11 - 2007-03-14 - G11B21/21
  • 需要这样的浮动块结构,其能够降低由浮动高度控制机构控制的浮动块的空气支承表面的伸出变形引起的浮动高度补偿比例,并以低控制功率提供浮动高度变化。浮动块(1)具有引导边缘(2)、空气支承表面(3)和尾随边缘(4)。空气支承表面(3)包括前基座(10),该前基座(10)由前台阶支承表面(5)、引导轨道表面(6、7),以及侧台阶支承表面(8、9)构成。空气支承表面(3)还包括由前基座10围绕的负压槽表面(11)。空气支承表面(3)还包括后基座12,该后基座(12)由以与前台阶支承表面(5)同样深度形成并位于尾随边缘(4)一侧上的后侧台阶支承表面(13)、尾随轨道表面(14)、比该尾随轨道表面(14)深的中间槽(15),以及与该尾随轨道表面(14)同样高的尾随基座表面(16)构成。该尾随基座表面(16)的前侧和两侧被尾随轨道表面(14)所围绕。
  • 磁头浮动
  • [发明专利]磁头浮动块和磁头平衡架组件的制造方法和制造设备-CN01125271.5无效
  • 桥本清司;松本真明 - 株式会社日立制作所
  • 2001-08-27 - 2002-05-01 - G11B21/21
  • 磁头浮动块的制造方法和制造设备配置了观察浮动块1气浮支承表面3曲率的装置,此时浮动块1处于予开的原材料或处于单个产品的状况;用于输入浮动块1的外形数据110如阶式止推支承深度等的外形数据输入器111,利用外形数据110来计算浮动块1的预测浮动高度;根据预测浮动高度和目标浮动高度之间的差别来计算出调整目标曲率的算术处理器112并且设有将浮动块1气浮支承表面3的曲率调整到目标曲率的装置。通过这些配置,调节了除气浮支承表面曲率以外的外形数据偏差所引起的浮动高度差异,即使当阶式止推支承深度等变化时,浮动块也可以实现浮动高度差异很小。
  • 磁头浮动平衡组件制造方法设备
  • [发明专利]磁盘装置-CN00108143.8无效
  • 时末裕充;土山龙司;松本真明;三宅芳彦;桥本清司 - 株式会社日立制作所
  • 2000-04-28 - 2001-08-01 - G11B21/21
  • 目的在于实现10nm以下的流出端悬浮量。为此,在磁盘装置的滑块中,把正压力的作用点向流入端侧移动,把负压力的作用点向流出端侧移动,加大负压力对流出端的影响,由此在减压时产生使流出端悬浮量增加的作用。也可以采用减压时使流出端悬浮量增加的结构,即等效推压载荷的作用点位于正压力的作用点的流入端侧,正压力的作用点与等效推压载荷的作用点的距离大于滑块全长的0.1倍。
  • 磁盘装置

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