专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种可提供位置和角度基准的光学基准件的标定方法-CN201811034266.2有效
  • 李杏华;吕泽奎;房丰洲;黄银国;张震楠;黄武;张冬;高凌妤;魏煊;杨晓唤 - 天津大学
  • 2018-09-05 - 2020-05-12 - G01B11/00
  • 本发明涉及一种可提供位置和角度基准的光学基准件的标定方法,待标定的光学基准件的表面加工有旋转抛物面阵列,所采用的设备包括辅助运动台,光学位置读数头和激光干涉仪。采用以下的步骤:干涉镜组和反射镜选择直线度测量镜组使所述光学位置读数头在运动轴的携带下移动到基准件抛物面阵列的基准点P(1,1)范围内,记录系统标定的零位点;标定基准行上各抛物面中心距基准点P(1,1)的y方向距离;标定基准列上各抛物面中心距基准点P(1,1)的x方向距离;以基准列第i行抛物面P(i,1)为起始点,标定第i行抛物面P(i,j)距P(i,1)在x方向上的距离x(i,j);以基准行第j列抛物面P(1,j)为起始点,标定第j列抛物面P(i,j)距P(1,j)在y方向上的距离y(i,j);得到抛物面阵列上各点距基准点的距离标定矩阵。
  • 一种提供位置角度基准光学标定方法

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