“李孝尚”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]用于同时传感接触力和横向应变的系统和方法-CN202180086537.2在审
发明人： 李孝尚;凯瑟琳·J.·库亨贝克 -专利权人：马克斯-普朗克科学促进学会
申请日： 2021-12-15 - 公布日： 2023-09-15 - 主分类号： G01L1/18 文献下载
摘要：一种触觉传感系统，具有传感器组件和检测单元，传感器组件包括沿着法向轴Z堆叠的多个层，检测单元电连接到传感器组件，其中，传感器组件包括设计为压阻层的第一层、设计为电连接到检测单元的导电层的第三层，以及设计为第一层与第三层之间的间隔层的第二层，其中，第一层包括电连接到检测单元的多个电极，其中，由于第一层与第三层之间的电流分布的变化，检测单元可检测传感器组件上沿着法向轴Z的至少一个接触力，其中，由于压阻第一层中的电阻分布变化的变化，检测单元可检测传感器组件上的至少一个横向应变。
用于同时传感接触横向应变系统方法

[发明专利]在穿硅通孔镀敷中减少副产品-CN201110281341.7无效
发明人：马克·J·威利;李孝尚 -专利权人：诺发系统有限公司
申请日： 2011-09-09 - 公布日： 2012-04-04 - 主分类号： C25D7/12 文献下载
摘要：本发明涉及在穿硅通孔镀敷中减少副产品。确切地说，本发明描述用于用具有低氧浓度的镀敷溶液将金属镀敷到工件上的方法、系统及设备。在一方面中，一种方法包含降低镀敷溶液的氧浓度。所述镀敷溶液包含约百万分之10或更少的加速剂及约百万分之300或更少的抑制剂。在降低了所述镀敷溶液的所述氧浓度之后，在镀敷单元中使晶片衬底与所述镀敷溶液接触。所述镀敷单元中的所述镀敷溶液的所述氧浓度为约百万分之1或更少。接着，在所述镀敷单元中将金属电镀到所述晶片衬底上。
穿硅通孔镀敷中减少副产品