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- [发明专利]竹桃霉素类的新衍生物-CN99815303.6无效
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G·布瑞克;G·拉扎瑞弗斯克;G·库伯瑞赫尔
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普利瓦药物工业公司
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1999-12-29
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2004-04-28
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C07H17/08
- 本发明涉及来自具有通式(I)的大环内酯物抗生素竹桃霉素类的新化合物,∴其中R1单独是指-CH2CH3基团或式(II)片段,和R2一起是式(III)片段,或者和R4一起是式(IV)片段或式(V)片段,∴R2和R3一起是酮,或者和R1一起是式(III)片段,R3单独是指OH基团,或者和R2一起是酮,R4单独是指甲基,或者和R1一起是式(IV)片段或式(V)片段,R5单独是指氢或苯甲氧基羰基,R6单独是指氢、甲基或苯甲氧基羰基,本发明还涉及用于制备这些化合物的中间体、制备它们的方法以及它们与无机或有机酸形成的可药用加成盐。
- 竹桃霉素衍生物
- [发明专利]3-脱氧-去碳霉糖太乐菌素衍生物和它们的制备方法-CN00807151.9无效
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A·纳兰德加;N·洛波塔;M·迪杰里克;D·帕弗洛维克
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普利瓦药物工业公司
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2000-05-02
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2002-08-07
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C07H17/08
- 本发明涉及结构式I的3-脱氧-去碳霉糖太乐菌素的衍生物,其中从三重保护的去碳霉糖太乐菌素起始,第一步在C-3上进行氧化,然后任选进行双键的氢化和环氧化,继之以环氧环的还原开环。本发明还涉及结构式II的3-脱氧-去碳霉糖太乐菌素的衍生物,其中在第一步中氢化三乙酰基去碳霉糖太乐菌素,然后,经中间体甲磺酸酯,它被转换为2,3-二脱氢衍生物;或2,3-二脱氢-去碳霉糖太乐菌素进行环氧化反应,随后再进行环氧环的还原开环。
- 脱氧去碳霉糖太乐菌素衍生物它们制备方法
- [发明专利]从9a-氮杂大环内酯类衍生的新3,6-半缩酮类-CN98811624.3无效
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G·克布雷赫尔;G·拉萨勒夫斯基;M·温科威克
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普利瓦药物工业公司
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1998-10-13
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2001-01-17
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C07H17/08
- 本发明涉及通式(Ⅰ)化合物,其中R1代表羟基式(Ⅱ)L-二脱氧甲基已糖基,其中R2代表氢或甲硅烷基;R3代表氢,或者与R6一起代表醚基;R4代表氢,(C1-C4)酰基或-COO-(CH2)n-Ar,其中n是1-7,Ar代表未取代或取代的最多可达18个碳原子的芳基;R5代表氢,甲基或-COO-(CH2)n-Ar,其中n是1-7,Ar代表未取代或取代的最多可达18个碳原子的芳基;R6代表氢,或者与R3一起代表醚基;R7代表氢,(C1-C12)烷基,甲硅烷基,或者与R8和C-11/C-12碳原子一起代表环状碳酸酯,R8代表氢,(C1-C12)烷基,甲硅烷基,或者与R7和C-11/C-12碳原子一起代表环状碳酸酯;涉及式(Ⅰ)化合物与无机酸或有机酸形成的可药用酸加成盐,涉及制备它们的方法,以及它们作为抗菌素或合成其它大环内酯抗菌素的中间体的用途。
- 氮杂大环内酯衍生缩酮
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