专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果4个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]纯铜板-CN202180018743.X有效
  • 松永裕隆;伊藤优树;森广行;饭田典久;日高基裕 - 三菱综合材料株式会社
  • 2021-03-08 - 2023-10-17 - C22C9/00
  • 本发明的纯铜板具有如下组成:Cu的含量为99.96质量%以上,P的含量为0.01质量ppm以上且3.00质量ppm以下,Pb、Se及Te的合计含量为10.0质量ppm以下,Ag及Fe的合计含量为3.0质量ppm以上,剩余部分为不可避免杂质,轧制面中的晶粒的平均晶粒直径为10μm以上,并且轧制面中的晶粒的纵横比为2.0以下,小倾角晶界及亚晶界相对于总晶界的长度比率以分配率(partition fraction)计为80%以下。
  • 铜板
  • [发明专利]纯铜板-CN202180018747.8在审
  • 松永裕隆;伊藤优树;森广行;饭田典久;日高基裕 - 三菱综合材料株式会社
  • 2021-03-08 - 2022-10-18 - C22C9/00
  • 本发明的纯铜板具有以下组成:Cu的含量为99.96质量%以上,P的含量为0.01质量ppm以上且3.00质量ppm以下,Ag及Fe的合计含量为3.0质量ppm以上,剩余部分为不可避免杂质,轧制面中的晶粒的平均晶粒直径为10μm以上,通过EBSD法,以测定间隔5μm步长测定1mm2以上的测定面积,排除通过数据分析软件OIM分析的CI值为0.1以下的测定点,在将相邻的像素间的取向差为5°以上的边界视为晶界时的KAM(Kernel Average Misorientation:平均取向差)值为1.50以下。
  • 铜板

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top