“拾斛科技（苏州）有限公司”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果2个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[实用新型]一种红外传感器-CN202020608742.3有效
发明人：李凡月 -专利权人： 拾斛科技（苏州）有限公司
申请日： 2020-04-21 - 公布日： 2020-10-09 - 主分类号： G01J5/08 文献下载
摘要：本实用新型公开一种红外传感器，包括红外感光区阵列层、空腔层和设置在红外感光区阵列层表面上的微透镜阵列层；所述红外感光区阵列层，用以支撑空腔层和微透镜阵列层；所述空腔层由所述红外感光区阵列层承托，所述空腔层内抽真空或注入惰性气体；所述微透镜阵列层位于空腔层上，所述微透镜阵列层的朝光面和/或背光面上具有收集光线的连续曲面或多个连续曲面组合。本实用新型的微透镜阵列层结构采用压印方式加工，微透镜阵列层或空腔层可以很薄，使得微透镜阵列离感光区阵列非常近，从而增大主光线角度CRA。
一种红外传感器

[实用新型]一种光掩模和一种曝光装置-CN202020631569.9有效
发明人：李凡月 -专利权人： 拾斛科技（苏州）有限公司
申请日： 2020-04-23 - 公布日： 2020-09-29 - 主分类号： G03F1/38 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种光掩模和曝光装置。所述光掩模包括：掩模板，所述掩模板上的掩模图案层包括M个单元图案；微透镜组阵列，包括N个微透镜组；设置一个所述微透镜组对应一个所述单元图案，所述微透镜组只通过从对应的所述单元图案经过的光线，所述单元图案与其在被曝光体上的成像的宽度比值小于1；所述掩模图案层中的任意相邻两个单元图案的距离大于单元图案的轮廓尺寸，任意相邻的两个所述单元图案在被曝光体上的成像不重叠。所述光掩模中单元图案被微透镜组放大曝光在曝光体上，形成单独的曝光图像，且分辨率高、焦深大，提高了加工精度，所述光掩模结构简单，成本低。所述曝光装置包括所述光掩模，加工精度高，且成本低。
一种光掩模曝光装置