“弗朗西斯科·科里亚”申请（专利权）人搜索_中国专利权人_发明人_技术持有人_科研专家_钻瓜专利网

钻瓜专利网为您找到相关结果15个，建议您升级VIP下载更多相关专利

[发明专利]具有不均匀的纵向截面的用于半导体材料的外延反应器的反应室及反应器-CN201980083556.2有效
发明人：西尔维奥·佩雷蒂;弗朗西斯科·科里亚;毛里利奥·梅斯基亚 -专利权人：洛佩诗公司
申请日： 2019-10-17 - 公布日： 2022-05-27 - 主分类号： C23C14/54 文献下载
摘要：反应室(100A)用于反应器，用于在基底(62)上沉积半导体材料；反应室沿纵向方向延伸，并包括沿该纵向延伸的反应和沉积区域(10)；该区域(10)由适于通过电磁感应加热的感受器元件(21A、21B、21C、22A、22B、31、32)限定；第一感受器元件(21A、21B、21C、22A、22B)与室的基底支撑元件(61)相对，并且具有孔(20)，该孔沿着其整个长度在纵向方向上延伸；第一感受器元件(21A、21B、21C、22A、22B)具有取决于其纵向位置的不均匀的横截面。
具有不均匀纵向截面用于半导体材料外延反应器反应

[发明专利]具有传送室的处理装置和外延反应器-CN202080068619.X在审
发明人：西尔维奥·佩雷蒂;弗朗西斯科·科里亚 -专利权人：洛佩诗公司
申请日： 2020-10-02 - 公布日： 2022-05-13 - 主分类号： C30B25/20 文献下载
摘要：用于外延反应器(1000)的处理装置(900)包括：用于处理基片的反应室(100)；邻近反应室(100)的用于传送被放置在基片支撑设备上的基片的传送室(200)；至少部分地邻近传送室(200)的被布置成容纳具有一个或更多个基片的基片支撑设备的装载/卸载组(300)；至少部分邻近装载‑锁定室(300)的存储室(400)，该存储室具有用于已处理的和/或未处理的基片的第一存储区(410)和用于没有任何基片的基片支撑设备的第二存储区(420)；用于在所述存储室(400)和所述装载/卸载组(300)之间传送已处理的基片、未处理的基片和不具有任何基片的基片支撑设备的至少一个外部机器人(500)；用于在所述装载/卸载组(300)和所述反应室(100)之间经由所述传送室(200)传送具有一个或更多个基片的基片支撑设备的至少一个内部机器人(600)。
具有传送处理装置外延反应器

[发明专利]具有存储室的处理装置和外延反应器-CN202080068618.5在审
发明人：西尔维奥·佩雷蒂;弗朗西斯科·科里亚 -专利权人：洛佩诗公司
申请日： 2020-10-02 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：用于外延反应器(1000)的处理装置(900)包括：用于处理基片的反应室(100)；邻近反应室(100)的用于传送被放置在基片支撑设备上的基片的传送室(200)；至少部分地邻近传送室(200)的被布置成容纳具有一个或更多个基片的基片支撑设备的装载/卸载组(300)；至少部分邻近装载/卸载组(300)的装载/卸载室(400)，其具有用于已处理的和/或未处理的基片的第一存储区(410)和用于没有任何基片的基片支撑设备的第二存储区(420)；用于在所述装载/卸载室(400)和所述装载/卸载组(300)之间传送已处理的基片、未处理的基片和不具有任何基片的基片支撑设备的至少一个外部机器人(500)；用于在所述装载/卸载组(300)和所述反应室(100)之间经由所述传送室(200)传送具有一个或更多个基片的基片支撑设备的至少一个内部机器人(600)；其中所述外部机器人(500)包括铰接臂(510)，该铰接臂被布置成操纵已处理的基片和未处理的基片两者以及基片支撑设备。
具有存储处理装置外延反应器

[发明专利]具有装载/卸载组的处理装置和外延反应器-CN202080068626.X在审
发明人：西尔维奥·佩雷蒂;弗朗西斯科·科里亚 -专利权人：洛佩诗公司
申请日： 2020-10-02 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：用于外延反应器(1000)的处理装置(900)包括：用于处理基片的反应室(100)；邻近反应室(100)的用于传送被放置在基片支撑设备上的基片的传送室(200)；至少部分地邻近传送室(200)的被布置成容纳具有一个或更多个基片的基片支撑设备的装载/卸载组(300)；至少部分地容纳装载/卸载组(300)的存储室(400)，该存储室具有用于已处理的和/或未处理的基片的第一存储区(410)和用于没有任何基片的基片支撑设备的第二存储区(420)；用于在所述存储室(400)和所述装载/卸载组(300)之间传送已处理的基片、未处理的基片和不具有任何基片的基片支撑设备的至少一个外部机器人(500)；用于在所述装载/卸载组(300)和所述反应室(100)之间经由所述传送室(200)传送具有一个或更多个基片的基片支撑设备的至少一个内部机器人(600)；所述装载/卸载组包括彼此关联的装载‑锁定室(300A)和准备站(300B)。
具有装载卸载处理装置外延反应器

[发明专利]用于沉积半导体材料的包括旋转元件的反应室-CN202080007290.6在审
发明人： 弗朗西斯科·科里亚;D·克里帕;毛里利奥·梅斯基亚;徳田雄一郎 -专利权人：洛佩诗公司;株式会社电装
申请日： 2020-01-07 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：反应室(100)被设计用于反应器(100)，反应器用于在基底上沉积半导体材料的层；反应室包括管(110)和注射器(20)以及保持器(30)，管(110)由石英制成并且具有圆柱形或棱柱形的形状并且围绕反应和沉积区；注射器(20)被布置成将前体气体注入反应和沉积区；保持器(30)被布置成在沉积过程期间支撑在反应和沉积区中的基底；石墨基座元件(10、40、50)位于管(110)的内部，用于加热反应和沉积区以及在反应和沉积区内的部件；感应器系统(60、70)位于管(110)外部，用于通过电磁感应向基座元件(10、40、50)提供能量；呈圆柱形管或棱柱形管的形式的旋转元件(80)位于反应和沉积区内部并且围绕注射器(20)。
用于沉积半导体材料包括旋转元件反应

[发明专利]具有间隙和下部封闭元件的用于沉积反应器的反应室和反应器-CN202080007298.2在审
发明人： 弗朗西斯科·科里亚;D·克里帕;毛里利奥·梅斯基亚;西尔维奥·佩雷蒂;徳田雄一郎 -专利权人：洛佩诗公司;株式会社电装
申请日： 2020-01-07 - 公布日： 2021-08-06 - 主分类号： C23C16/44 文献下载
摘要：反应室(100)被用于在基底上沉积半导体材料的层的沉积反应器；反应室包括管(110)，管由石英制成并且具有圆柱形的形状，并且适于在使用中被定位成使得其轴线(111)是竖直的；管(110)具有圆柱形的内部间隙(112)，内部间隙沿着管(110)的整个长度延伸并且适于容纳流动的液体；室(100)还包括的环形的封闭元件(120)，封闭元件由石英制成并且固定到管(110)的第一下端，以便封闭间隙(112)，防止液体在底部处从间隙流出；在顶部处，封闭元件(120)具有面向间隙(112)的环形凹部(122)，使得流动的液体可在底部处到达凹部(122)；室(100)还包括间隙(112)内部的一组内部导管(130)，其中所述内部导管(130)从管(110)的第一下部区域延伸直到管(110)的第二上部区域，以便于流动的液体在间隙(112)中的循环。
具有间隙下部封闭元件用于沉积反应器反应

[发明专利]用于操纵衬底的工具、操纵方法及外延反应器-CN201580035249.9有效
发明人：温森佐·奥格里阿里;弗朗西斯科·科里亚;弗兰科·佩雷蒂 -专利权人： LPE公司
申请日： 2015-07-02 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：外延反应器中的用于操纵衬底的工具(1)包括臂(2)、抓取盘(3)和球接头(4)；所述抓取盘(3)具有在其下面上的座(5)，该座用于接纳待操纵的衬底(6)；所述抓取盘(3)通过所述球接头(4)安装在臂(2)上，球接头相对于所述抓取盘(3)居中地放置；所述抓取盘(3)成形为使得仅与待操纵的所述衬底(6)的上边缘接触；所述抓取盘(3)相对于所述臂(1)具有两个旋转运动自由度以允许适合于衬底在外延反应器的基座的袋状部中的位置。
用于操纵衬底工具方法外延反应器

[发明专利]具有支撑元件的衬托器-CN201480052013.1有效
发明人： 弗朗西斯科·科里亚;D·克里帕;劳拉·戈博;M·毛切里;温森佐·奥格里阿里;弗兰科·佩雷蒂;马尔科·普利西;卡尔梅洛·韦基奥 -专利权人： LPE公司
申请日： 2014-09-24 - 公布日： 2020-05-26 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明主要涉及用于外延生长的反应器的衬托器，所述衬托器包括：圆盘形主体(90)，其具有第一面和第二面，其中第一面包括适于接收将经受外延生长的基底(2000)的至少一个区(99)；和至少一个支撑元件(91+97)，其用于基底(2000)、位于区(99)处；支撑元件(91+97)包括具有相对于圆盘被升高的边缘(97)的圆形圆盘(91)；区(99)可以是圆盘形主体(90)的凹进部(99)的底部或凸起的顶部；圆盘形主体(90)至少在凹进部(99)或凸起处是实心的。
具有支撑元件衬托

[发明专利]具有在基底支撑件上的弯曲的同心凹槽的衬托器-CN201480067667.1有效
发明人： 弗朗西斯科·科里亚;D·克里帕;温森佐·奥格里阿里;弗兰科·佩雷蒂;马里奥·普莱蒂 -专利权人： LPE公司
申请日： 2014-12-17 - 公布日： 2019-09-13 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明涉及一种用于外延生长反应器的衬托器；它大体上包含主体(601)，所述主体(601)具有面(602)，该面(602)包括适合于接纳将经历外延生长的基底的至少一个区(603)；该区(603)具有用于放置所述基底的支托表面(604)或与用于放置所述基底的支托表面(604)相关联；支托表面(604)设置有图案，该图案包括多个弯曲的凹槽伸展部(606)，该多个弯曲凹槽伸展部(606)使它们的中心大体上在与所述支托表面(604)相同的位置(605)中。
具有基底支撑弯曲同心凹槽衬托

[发明专利]具有衬底支撑表面上的拱形凹槽的衬托器-CN201480061427.0有效
发明人： 弗朗西斯科·科里亚;温森佐·奥格里阿里;弗兰科·佩雷蒂;马里奥·佩雷蒂 -专利权人： LPE公司
申请日： 2014-11-06 - 公布日： 2019-06-07 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明涉及用于外延生长反应器的衬托器；其大体上由主体(601)组成，该主体具有面(602)，该面包括至少一个区域(603)，该区域适用于接纳待经受外延生长的衬底；该区域(603)具有用于搁置所述衬底的搁置表面(604)或与该搁置表面相关联；该搁置表面(604)设置有图案，该图案包括拱形凹槽(606)的至少三个复数体(605A、605B、605C)；特别是，所述凹槽(606)的凹面朝向搁置表面(604)的边缘。
具有衬底支撑表面上拱形凹槽衬托

[发明专利]具有装载/卸载装置和反应器的用于外延生长的反应室-CN201480067668.6有效
发明人： 弗朗西斯科·科里亚;D·克里帕;劳拉·戈博;M·毛切里;温森佐·奥格里阿里;弗兰科·佩雷蒂;马尔科·普利西;卡尔梅洛·韦基奥 -专利权人： LPE公司
申请日： 2014-12-17 - 公布日： 2018-11-13 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：一种用于外延生长的反应器的反应室，包括：‑具有凹部的壁(1)，‑衬托器(7)，其包括主体和凸起，其中所述主体相对于所述壁(1)以旋转方式放置在所述凹部中，‑圆盘状支撑元件(8)，其具有适合于稳定地放置在所述凸起上的形状，具有使得从所述凸起径向地突出的尺寸并且适合于支撑将经历外延生长的一个或更多个基底，和‑平坦覆盖物(91，92)，其位于所述壁(1)的上方并且具有在所述圆盘状支撑元件(8)处的孔(10)；其中所述孔(10)的形状对应于所述圆盘状支撑元件(8)的形状；其中所述覆盖物(92)具有用于装载/卸载所述圆盘状支撑元件(8)的装置(16)的通行的至少一个中空导引件(11，12)，其中所述中空导引件(11，12)从所述覆盖物(92)的边缘开始延伸至所述孔(10)。
具有装载卸载装置反应器用于外延生长反应

[发明专利]带不对称凹部的衬托器、用于外延沉积的反应器和生产法-CN201610959219.3在审
发明人：温森佐·奥格里阿里;西尔维奥·佩雷蒂;弗朗西斯科·科里亚;弗兰科·佩雷蒂 -专利权人： LPE公司
申请日： 2016-11-03 - 公布日： 2018-04-17 - 主分类号： C30B25/12 文献下载
摘要：公开了带不对称凹部的衬托器、用于外延沉积的反应器和生产法。本发明涉及一种用于外延沉积的反应器的衬托器，其包括具有水平盘形的主体；主体具有第一上表面、第二下表面和主体的竖直对称轴线；第一面有多个盘形凹部，其中的每个具有质心并具有穿过该质心的凹部的对称轴线；沿包括主体的竖直对称轴线的任何竖直平面截取的凹部中的每一个的截面关于任何轴线不对称；沿平行于主体的竖直对称轴线且垂直于主体的穿过凹部的质心的半径的任何竖直平面截取的凹部中的每一个的截面关于竖直轴线对称。由于这样的衬托器，补偿由于从衬托器插入(冷的，即在低温下)反应器的反应室中时到开始在基底上沉积(在高温下)时衬托器的形变造成的负面影响是可能的。
不对称衬托用于外延沉积反应器生产

[实用新型]用于外延沉积的具有液体分配器的反应室和反应器-CN201620768775.8有效
发明人： 弗朗西斯科·科里亚;温琴佐·奥格里亚里 -专利权人： LPE公司
申请日： 2016-07-19 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：本实用新型提供一种用于外延沉积的具有液体分配器的反应室和反应器，其中，用于外延沉积反应器的反应室(1)，包括外表面(2)，外表面2包括至少一个可被液体冷却的第一区域(Z1)和至少一个可被气体冷却的第二区域(Z2)，所述第一区域(Z1)和所述第二区域(Z2)被至少一个从所述外表面(2)向外突出的第一屏障(3)分开；所述反应室(1)包括一个上部分配系统(100)，所述上部分配系统(100)包括一个冷却剂分配管(110)，所述分配管上有孔(120)，所述孔(120)的形状至少和第一屏障(3)的形状部分相似，且位于所述第一屏障(3)和所述外表面(2)的第一区域(Z1)的附近。
用于外延沉积具有液体分配器反应反应器

[发明专利]涂覆的衬托器和抗弯曲法-CN201480053217.7在审
发明人： 弗朗西斯科·科里亚;D·克里帕;劳拉·戈博;M·毛切里;温森佐·奥格里阿里;弗兰科·佩雷蒂;马尔科·普利西;卡尔梅洛·韦基奥 -专利权人： LPE公司
申请日： 2014-09-24 - 公布日： 2016-06-01 - 主分类号： C23C16/458 文献下载
摘要：本发明涉及用于外延生长的反应器的衬托器，由具有第一面和第二面的由石墨制成的圆盘形主体(20、30)组成；第一面包括至少一个区，特别地包括适于接收将经受外延生长的基底的圆形凹进部(21)或凸起(31)；第一面暴露对应于此区(21、31)的第一上表面(22、32)和围绕此区(21、31)的第二上表面(23、33)；第二面暴露下表面(24、34)；第二上表面(22、33)和下表面(24、34)用碳化硅的层来涂覆；所以，衬托器的向外弯曲在该衬托器的寿命期间即在已经被用于碳化硅的外延生长的许多工艺之后被限制。
衬托弯曲

[实用新型]用于外延反应器的反应室的顶部倾斜部件、反应室和外延反应器-CN201520417640.2有效
发明人：温琴佐·奥格里亚里;弗朗西斯科·科里亚;马里奥·普雷蒂;弗兰科·乔瓦尼·普雷蒂 -专利权人： LPE公司
申请日： 2015-06-16 - 公布日： 2015-12-16 - 主分类号： C30B25/08 文献下载
摘要：本专利涉及位于外延反应器的石英反应室(1)内部的部件(3)、用于外延反应器的反应室和外延反应器，该部件包括具有正面、背面和两个侧面的水平石英板(30)以及分别在两个侧面处的两个垂直石英壁(31、32)；所述板的前部和/或后部弯曲。用于外延反应器的反应室和外延反应器均包括该部件。优点是：该部件可以改进部件的气流和温度性能。
用于外延反应器反应顶部倾斜部件

1
共 15 条