专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]高分子膜层叠基板以及柔性电子设备的制造方法-CN201880008350.9有效
  • 奥山哲雄;渡边直树;土屋俊之;山下全广;德田桂也 - 东洋纺株式会社
  • 2018-01-23 - 2022-01-28 - B32B7/06
  • 本发明提供一种聚酰亚胺膜层叠基板,其中,在将聚酰亚胺膜从无机基板剥离之时,即使在超过500℃的温度下进行了热处理之后,也可稳定地、利用低且恒定的力进行剥离。在无机基板的至少单面的一部分上连续或不连续地形成出铝氧化物的薄膜、或者铝与硅的复合氧化物的薄膜、或者钼乃至钨、或者钼与钨的合金薄膜,在该无机基板上进行硅烷偶联剂处理,进一步在硅烷偶联剂层之上层叠聚酰亚胺膜层。所获得的层叠体中的具有铝氧化物薄膜层的部分作为易剥离层而发挥功能,不具有铝氧化物薄膜层的部分作为良好粘合部而发挥功能,即使在经过了500℃以上的热处理之后易剥离部的粘合强度也不变化,稳定地维持低的值。
  • 高分子层叠以及柔性电子设备制造方法
  • [发明专利]聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体-CN201880035479.9有效
  • 山下全广;奥山哲雄;土屋俊之;渡边直树;德田桂也;原彰太 - 东洋纺株式会社
  • 2018-05-24 - 2021-08-06 - B32B27/34
  • 本发明要解决的课题为提供一种聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体,其可用于以高成品率制造包括有机EL显示元件之类的微小设备阵列的挠性电子设备。将经过充分地洗涤、清洁从而除去无机物异物的聚酰亚胺膜与无机基板贴合形成层叠体,进一步地在350℃以上且小于600℃的温度下热处理后急速冷却,从而使有机异物碳化减少,并且起泡内的气体迅速冷却,从而使起泡高度降低,得到内部包埋有碳化物粒子的起泡缺陷的个数密度为50个/平方米以下、起泡的平均高度在2μm以下、起泡个数密度(个/平方米)和起泡的平均高度(μm)之积在20以下的聚酰亚胺膜和无机基板的层叠体。
  • 聚酰亚胺无机层叠
  • [发明专利]新型含磺酸基链段化嵌段共聚物聚合物及其用途-CN201080034433.9无效
  • 市村俊介;岩原良平;北村幸太;山下全广 - 东洋纺织株式会社
  • 2010-08-03 - 2012-07-11 - C08G81/00
  • 本发明提供与现有聚合物得到的质子交换膜相比不仅质子传导性、对热水的耐溶胀性优异、而且作为燃料电池使用时的耐久性进一步优良的燃料电池用质子交换膜,和构成该质子交换膜的含磺酸基链段化嵌段共聚聚合物,使用了该质子交换膜的膜电极接合体,以及使用了该膜电极接合体的燃料电池。本发明是一种含磺酸基链段化嵌段共聚聚合物,是以N-甲基-2-吡咯烷酮为溶剂的0.5g/dL的溶液在30℃测定的比浓对数粘度为0.5~5.0dL/g的范围、且在分子中具有一种以上的亲水性链段和一种以上的疏水性链段的二嵌段或多嵌段共聚聚合物,具有化学式1所示的一种以上疏水性链段,所述的链段具有与下述化学式2所示的基团相键合的结构,亲水性链段为下述化学式3或3-2所示的一种以上结构。
  • 新型含磺酸基链段化嵌段共聚物聚合物及其用途
  • [发明专利]高分子电解质膜的制造方法-CN200780048097.1有效
  • 佐佐井孝介;山口裕树;坂口佳充;北村幸太;山下全广 - 东洋纺织株式会社
  • 2007-12-26 - 2010-02-03 - H01M8/02
  • 本发明提供不易产生厚度不均和皱褶、凹凸的高分子电解质膜的制造方法。该高分子电解质膜的制造方法具有膜形成工序(A),使含离子性基团的高分子电解质的膜状物形成于支撑体上;酸处理工序(B),使所述膜与含无机酸的酸性液接触从而将离子性基团转变为酸型;酸除去工序(C),除去所述酸处理膜中的游离的酸;以及干燥工序(D),将所述酸除去膜干燥,其中,在不将膜从支撑体剥离的情况下实施所述(B)~(D)的工序。优选膜形成工序(A)包括流延工序(A1),将含离子性基团的高分子电解质的溶剂溶液流延于支撑体上形成流延膜;干燥工序(A2),将所述流延膜干燥;以及脱溶剂工序(A3),将所述干燥膜用与所述含离子性基团的高分子电解质的溶剂混合的液体脱溶剂。
  • 高分子电解质膜制造方法

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