专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
专利下载VIP
公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
更多 »
专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
更多 »
钻瓜专利网为您找到相关结果92个,建议您升级VIP下载更多相关专利
  • [发明专利]一种模压成形方法-CN202310944288.7在审
  • 尹韶辉;舒成松;蔡迫 - 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心;湖南大学
  • 2023-07-28 - 2023-10-24 - C03B23/03
  • 本发明公开了一种模压成形方法,涉及精密模压成形技术领域,方法包括:将曲面预制件与模具装配,模具包括上模具、下模具,包括:将曲面预制件放置在下模具中心的定位部;将上模具置于曲面预制件的上方,上模具与下模具设有相互对应的单模多穴结构;加热软化曲面预制件;通过上模具对曲面预制件施加第一压力,以便软化的曲面预制件从中心向外周均布冲型,得到阵列光学元件;降低加热温度,同时通过上模具对阵列光学元件施加第二压力,直到阵列光学元件降温至预定温度;停止施压,待阵列光学元件冷却到室温后,脱模取出阵列光学元件。解决了模压成形过程中在光学元件表面形成气泡,模具的形貌无法被精确复制,精度低、阵列中各穴面形差异大的问题。
  • 一种模压成形方法
  • [发明专利]用于碳化硅晶圆的减薄砂轮制备方法-CN202310882814.1在审
  • 尹韶辉;周仁宸;康宁;王哲;吉佛涛;杨远航 - 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心;湖南大学
  • 2023-07-18 - 2023-09-29 - B24D18/00
  • 本发明公开了一种用于碳化硅晶圆的减薄砂轮制备方法,包括:根据预定配方对多种原材料进行均匀混合,得到减薄砂轮模块成型料,多种原材料包括细粒度金刚石磨料、辅助磨料、陶瓷结合剂、造孔剂、粘结剂、分散剂、润滑剂;对减薄砂轮模块成型料进行冷压成型得到减薄砂轮磨块生坯,对该生坯进行烧结,其中,按照预定升温曲线进行升温至烧结温度,在烧结完成后进行冷却,得到减薄砂轮磨块熟坯;对该熟坯进行表面处理,得到减薄砂轮磨块;获取砂轮基体并进行去油清洗及干燥处理;将减薄砂轮磨块垂直粘贴在砂轮基体的沟槽内,并进行固化成型及修整处理,以得到减薄砂轮。根据本发明制备的减薄砂轮减薄后可获得超平坦、无缺陷及无损伤的碳化硅晶圆表面。
  • 用于碳化硅砂轮制备方法
  • [发明专利]砂轮基体制备方法及砂轮基体-CN202310899164.1在审
  • 尹韶辉;吉佛涛;周仁宸;杨远航 - 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心;湖南大学
  • 2023-07-20 - 2023-09-05 - B23P15/00
  • 本发明公开了一种砂轮基体制备方法及砂轮基体,方法包括:对主体进行车削加工,以在主体的顶部形成伞形斜面、与伞形斜面下边缘相连的过渡平面,得到第一加工件;对第一加工件进行铣销加工,以在第一加工件的顶部靠近边缘处形成用于定位粘接砂轮齿的环形粘接槽、在第一加工件的底部形成环形的进水槽,得到第二加工件;对第二加工件进行钻孔加工,以形成连通过渡平面和所述进水槽的多个通水孔,得到砂轮基体。根据本发明的技术方案,进水槽、多个通水孔和伞形斜面形成通水结构,以便冷却水经通水结构精确流至砂轮齿内壁进行冷却降温;并且,基于环形粘接槽易于对砂轮齿进行定位粘接,最终形成的砂轮的圆柱度更高,减薄效率更高。
  • 砂轮基体制备方法
  • [实用新型]一种导轨系统-CN202320551670.7有效
  • 尹韶辉;刘坚;邱蕾;高云睿;何富裕 - 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心;江苏优普纳科技有限公司
  • 2023-03-20 - 2023-08-29 - F16C32/06
  • 本实用新型公开了一种导轨系统,涉及超精密的移动定位技术领域,导轨系统包括滑板、底座、静压导轨组件和直线导轨抱闸装置。静压导轨组件包括安装于滑板上的静压滑块以及安装于底座两侧的两个导轨盖板。静压滑块与底座滑动连接以带动滑板相对底座运动,静压滑块与底座之间、导轨盖板的底部与静压滑块之间分别形成油膜;直线导轨抱闸装置与静压导轨组件平行布置,直线导轨抱闸装置包括安装于底座上的直线导轨和安装于滑板上的抱闸器,导轨系统工作状态下,抱闸器与直线导轨之间存在间隙;导轨系统停止工作时,抱闸器启动锁紧直线导轨,停止滑板运动。本实用新型中的导轨系统能够在保持高精度运行的基础上,防止停止工作或断电停机时滑块发生撞击。
  • 一种导轨系统
  • [实用新型]一种滑台组件-CN202320345065.4有效
  • 尹韶辉;刘坚;吴文志;邱蕾 - 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心;江苏优普纳科技有限公司
  • 2023-02-28 - 2023-08-15 - B23Q1/25
  • 本实用新型公开了一种滑台组件,涉及超精密的移动定位技术领域,滑台组件包括滑台本体。滑台本体包括:上滑板;交叉滚子导轨副,与所述上滑板连接,所述交叉滚子导轨副包括多个导轨、滚子保持架和圆柱滚子;下滑板,通过所述交叉滚子导轨副与所述上滑板滑动连接,所述下滑板的横截面呈凸型,且所述下滑板的中部设有凹型定位槽;直线电机,安装在所述下滑板的凹型定位槽中,适于驱动所述上滑板运动。本实用新型中的交叉滚子导轨副与上、下滑板组合后相应得到的运行精度能达到机械结构的理论数值,匹配相应运行精度的直线电机,能耗低,运行精度高。
  • 一种组件
  • [实用新型]一种测量系统-CN202320117772.8有效
  • 刘坚;吴卓骅;尹韶辉;王辰;张桢巍 - 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心;江苏优普纳科技有限公司
  • 2023-01-13 - 2023-08-01 - G01B21/20
  • 本实用新型公开了一种测量系统,涉及测量技术领域,该测量系统用于测量待测晶圆,包括:形状误差测量模块;粗糙度测量模块,布置在所述形状误差测量模块的一侧;竖直布置的第一滑台,所述第一滑台与所述形状误差测量模块固定连接,适于驱动所述形状误差测量模块竖直运动,以便调节所述形状误差测量模块的高度;水平布置的第二滑台,适于驱动所述待测晶圆水平运动至形状误差测量模块的测量范围内,以便对所述待测晶圆进行形状误差测量;并适于驱动所述待测晶圆水平运动至所述粗糙度测量模块的测量范围内,以便对所述待测晶圆进行表面粗糙度测量。根据本实用新型的技术方案,实现了对待测晶圆进行非接触式测量,提高了测量效率。
  • 一种测量系统
  • [发明专利]一种LED基片贴膜装置-CN201710111195.0有效
  • 尹韶辉;杨宏亮;胡天;叶青山;汪涵;张俊杰 - 长沙华腾智能装备有限公司
  • 2017-02-28 - 2023-06-30 - H01L33/48
  • 本发明公开了一种LED基片贴膜装置,它涉及半导体封装划片加工技术领域。它包括上模组件、定位模组件、下模组件。所述上模组件上均匀设置有若干组用于压紧贴膜的滚压柱,所述上模组件两侧设置有沿定位模组滑轨滑动的滚动轴承,定位模组两侧设置有导轨,所述下模组件设置有贴膜底板,贴膜底板通过支座支撑,支座上设置有光轴,定位模组通过直线轴承在光轴上运动。本发明的一种LED基片贴膜装置,相对于传统的人工贴膜,提高了贴膜的定位精度,能够将崩盘上的高粘性膜与LED基片膜贴合均匀牢固,无气泡,提高了后续划片过程图像识别的准确度及划片质量,该装置结构简单,且操作方便,贴膜板上可同时放置多层LED基片,可进行多盘贴膜,贴膜效率高。
  • 一种led基片贴膜装置
  • [发明专利]一种静压导轨及静压导轨系统-CN202310167889.1在审
  • 尹韶辉;吴书昊 - 江苏优普纳科技有限公司;无锡市锡山区半导体先进制造创新中心
  • 2023-02-24 - 2023-06-06 - B23Q1/01
  • 本发明公开了一种静压导轨及静压导轨系统,涉及流体静压支承领域,静压导轨外接供油设备,包括:底座;滑块,与底座滑动连接,滑块设有多个油孔;多个静压油垫,安装于滑块的上、下面及侧面,适于将滑块划分为多个油腔,多个油腔包括主油腔和辅油腔,多个油孔被划分至主油腔或辅油腔,滑块下面的油腔与底座间形成油膜间隙;端部挡油板,固定于底座两端;侧挡油板,固定于所述底座两侧;溜板,固定连接于所述滑块上方,溜板侧面设有液压油进油孔,液压油进油孔与进油管道连接。根据本发明的技术方案,在滑块中设置主油腔和辅油腔,液压油经由溜板从供油设备进入各油腔,在端部挡油板和侧挡油板的密封作用下,实现了闭式液压导轨的液压油流动。
  • 一种静压导轨系统
  • [发明专利]一种复合加工机床-CN202211084496.6在审
  • 尹韶辉;康宁 - 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心
  • 2022-09-06 - 2023-03-03 - B24B1/04
  • 本发明公开了一种复合加工机床,包括:床体;第一静压导轨,布置在床体上,第一静压导轨上安装有第一滑台,第一滑台适于在第一静压导轨上沿第一方向往复运动;第一滑台上设有工件主轴,工件主轴适于安装工件;第二静压导轨,布置在床体上,第二静压导轨上安装有第二滑台,第二滑台适于在第二静压导轨上沿第二方向往复运动;第二滑台上设有旋转台;超声振动辅助镜面磨削装置,设置在旋转台上,适于对工件进行斜轴超声振动辅助镜面磨削加工;磁射流抛光装置,设置在旋转台上,适于对工件进行磁射流抛光加工。根据本发明的复合加工机床,一次装夹工件可同时实现超声振动辅助镜面磨削与磁射流抛光两种工艺,提高了对工件的加工精度和加工效率。
  • 一种复合加工机床
  • [发明专利]一种在位测量测头及在位测量机床-CN202211299907.3在审
  • 尹韶辉;郭曦鹏 - 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心
  • 2022-10-14 - 2023-01-31 - B23Q17/20
  • 本发明公开了一种在位测量测头及在位测量机床,涉及非球面元件测量技术领域。本发明的在位测量测头包括方轴、空气轴承和电容式传感器。其中,方轴悬浮于空气轴承中,且与空气轴承之间存在气体薄膜,方轴的前端连接探针,方轴的后端连接电容式传感器。具体地,空气轴承用于支撑方轴悬浮于空气轴承内部;探针用于与待测量的非球面元件接触;方轴用于在外力作用下沿轴向滑动,使探针与非球面元件接触;电容式传感器用于记录方轴沿轴向滑动过程中与电容式传感器之间的位移变化量,位移变化量反映非球面元件的面形误差。本发明可以提高对非球面元件的在位测量精度。
  • 一种在位测量机床
  • [发明专利]一种磁流变抛光设备-CN202211336519.8在审
  • 尹韶辉;康宁 - 无锡市锡山区半导体先进制造创新中心;湖南大学
  • 2022-10-28 - 2023-01-13 - B24B1/00
  • 本发明公开了一种磁流变抛光设备,适于对工件进行磁流变抛光,磁流变抛光设备包括:抛光罩组件;电机,与抛光罩组件连接,适于带动抛光罩组件转动,以便抛光罩组件周期性形成漏磁磁场;磁流变液喷嘴,适于向抛光罩组件与工件之间的抛光区域喷射磁流变抛光液,以便磁流变抛光液在漏磁磁场作用下形成宾汉体对工件进行磁流变抛光,并在漏磁磁场消失时转变为液体;激光发射器,通过微调支撑架固定在电机上,激光发射器发射的激光照射在位于抛光罩组件末端下侧的非抛光区域,以使非抛光区域的磁流变抛光液的粘度下降而脱落。根据本发明的磁流变抛光设备,能实现抛光区域微小磨粒循环更新的效果,从而可以提高对工件进行磁流变抛光的质量和抛光效率。
  • 一种流变抛光设备

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

400-8765-105周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top