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[发明专利]通过空间谐波的多重截断而优化计算效率-CN202010022693.X有效
发明人： 安德烈·韦尔德曼 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-02-22 - 公布日： 2022-02-01 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明涉及通过空间谐波的多重截断而优化计算效率。基于经截断空间谐波级数的电磁模拟算法的计算效率针对周期性目标得以改进，所述周期性目标展现一基本空间周期及一或多个逼近周期，所述一或多个逼近周期是所述基本空间周期的整数分数。根据展现多重周期性的目标的每一相异周期将空间谐波分类。为每一空间谐波群组选择一相异截断阶数。此方法产生最优的稀疏截断阶数取样图案，且确保仅选择对所述目标的逼近具有显著影响的谐波用于计算。采用这些技术的计量系统经配置以测量与不同半导体制作工艺相关联的工艺参数以及结构及材料特性。
通过空间谐波多重截断优化计算效率

[发明专利]通过空间谐波的多重截断而优化计算效率-CN201680009657.1有效
发明人： 安德烈·韦尔德曼 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2016-02-22 - 公布日： 2020-02-07 - 主分类号： G01B11/06 文献下载
摘要：本发明呈现用于以经减少的计算工作量及存储器要求来求解复杂装置结构的测量模型的方法及系统。基于经截断空间谐波级数的电磁模拟算法的计算效率针对周期性目标得以改进，所述周期性目标展现一基本空间周期及一或多个逼近周期，所述一或多个逼近周期是所述基本空间周期的整数分数。根据展现多重周期性的目标的每一相异周期将空间谐波分类。为每一空间谐波群组选择一相异截断阶数。此方法产生最优的稀疏截断阶数取样图案，且确保仅选择对所述目标的逼近具有显著影响的谐波用于计算。采用这些技术的计量系统经配置以测量与不同半导体制作工艺相关联的工艺参数以及结构及材料特性。
通过空间谐波多重截断优化计算效率

[发明专利]对参数追踪的计量系统优化-CN201480035612.2有效
发明人： 安德烈·韦尔德曼;安德烈·V·舒杰葛洛夫;格雷戈里·布雷迪;撒迪厄斯·吉拉德·奇乌拉;史帝蓝·潘戴夫;亚历山大·库兹涅佐夫 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2014-05-19 - 公布日： 2018-01-16 - 主分类号： H01L21/66 文献下载
摘要：本文中提出用于评估测量系统通过给定过程窗追踪测量参数的能力的方法及系统。性能评估包含随机扰动、系统扰动或两者以有效地特征化尤其模型误差、计量系统缺陷及校准误差的影响。在一些实例中，计量目标参数被预定为实验设计DOE的部分。比较所述计量目标参数的估计值与已知DOE参数值，以确定特定测量的追踪能力。在一些实例中，所述测量模型通过主分量参数化以减小所述测量模型的自由度的数量。此外，提出用于针对经历过程变化的计量应用优化半导体计量系统的测量能力的示范性方法及系统。
参数追踪计量系统优化

[发明专利]配备有经调制照射源的光学计量工具-CN201280056445.0有效
发明人：安德烈·V·谢卡格罗瓦;劳伦斯·D·罗特;戴维·Y·王;安德烈·韦尔德曼;凯文·彼得林茨;格雷戈里·布雷迪;德里克·萨乌夫尼斯 -专利权人：科磊股份有限公司
申请日： 2012-10-11 - 公布日： 2017-12-22 - 主分类号： G01B11/04 文献下载
摘要：本发明可包含可调制照射源，其经配置以照射安置于样本载台上的样本的表面；检测器，其经配置以检测从所述样本的表面发出的照射；照射光学器件，其经配置以将来自所述可调制照射源的照射引导到所述样本的所述表面；收集光学器件，其经配置以将来自所述样本的所述表面的照射引导到所述检测器；及调制控制系统，其通信地耦合到所述可调制照射源，其中所述调制控制系统经配置而以适于产生具有选定相干特征长度的照射的选定调制频率调制所述可调制照射源的驱动电流。另外，本发明包含多个光源的输出的时间循序交错以产生供在多波长时间循序光学计量中使用的周期性脉冲串。
配备调制照射光学计量工具