专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]斜板沉降器-CN201120164374.9无效
  • 吕镇山;杨顺亮;孙长涛 - 潍坊六合微粉有限公司
  • 2011-05-23 - 2011-11-30 - B01D21/02
  • 本实用新型公开了一种斜板沉降器,包括沉降器壳体,所述的沉降器壳体一端设有稳流分流器,所述的沉降器壳体的另一端设有出液口,所述的沉降器壳体内设有聚乙烯斜板,所述的沉降器壳体下端设有集料锥;本实用新型的优点在于:造价便宜,操作方便、沉降区内固体颗粒分布均匀。
  • 沉降
  • [发明专利]一种非平衡磁控溅射稀土类石墨复合膜及其制备方法-CN200910304713.6有效
  • 王佐平;张镜斌;陈鹏波;何源;孙长涛;李海军 - 中国船舶重工集团公司第十二研究所
  • 2009-07-23 - 2009-12-30 - C23C14/35
  • 本发明公开的一种非平衡磁控溅射稀土类石墨复合膜,由依次复合的等离子渗金属层、Cr/RE过渡层、C/Cr-RE梯度层及C/Cr-RE复合层组成;其中,Cr/RE过渡层按照质量百分比其组成为:RE:0.1%~1%,余量为Cr,各组分的质量百分比之和为100%;C/Cr-RE复合层按照质量百分比其组成为:Cr:3%~20%,RE:0.3%~10%,余量为C,各组分的质量百分比之和为100%。本发明制备非平衡磁控溅射稀土类石墨复合膜的方法,首先确定稀土类石墨复合膜成分,计算高纯铬靶和高纯碳靶上安装的稀土镶块的数量,在高纯铬靶和高纯碳靶上加工镶块安装孔,制备高纯铬镶块、高纯碳镶块和高纯稀土镶块,并进行安装,磁控溅射得到复合膜。本发明非平衡磁控溅射稀土类石墨复合膜,解决了现有的非平衡磁控溅射固体润滑复合膜热稳定性和抗电化学腐蚀性差的问题。
  • 一种平衡磁控溅射稀土石墨复合及其制备方法

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