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[发明专利]用于激光打印设备的扫描反光镜及其制作方法-CN201310014798.0无效
发明人：杨晓;威廉·斯潘塞·沃利三世;东敏·陈;王叶 -专利权人：明锐有限公司
申请日： 2008-01-25 - 公布日： 2013-05-15 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本申请涉及用于激光打印设备的扫描反光镜及其制作方法。根据一种实施例，扫描反光镜包括：框架；一对固定电极指状物组，其连接到所述框架，所述固定电极指状物组中的每个包括多个固定电极；一组扭转铰链，其连接到所述框架；反光镜板，其连接到所述扭转铰链；一对可动电极指状物组，其连接到所述反光镜板，所述可动电极指状物组中的每一者包括多个可动指状物，其中所述多个可动指状物被构造为与所述多个固定指状物相交错。
用于激光打印设备扫描反光镜及其制作方法

[发明专利]用于激光打印应用的微机电系统-CN200880009714.1有效
发明人：杨晓;威廉·斯潘塞·沃利三世;东敏·陈;王叶 -专利权人：明锐有限公司
申请日： 2008-01-25 - 公布日： 2010-02-03 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本发明提供了一种用于激光打印应用的微机电系统。用于激光打印应用的微机电系统包括提供包括一对电极的CMOS衬底，以及提供在衬底和电极上方可动的反光镜。施加到电极的电压产生静电力，使得反光镜的一个末端被衬底吸引。通过感测反光镜的末端与下方电极之间的电容的改变可以探测并且控制反光镜的精确位置。
用于激光打印应用微机系统

[发明专利]用于防止微机械系统中抗粘连的优先沉积润滑剂-CN200780049134.0有效
发明人：东敏·陈;福林·熊;威廉·斯潘塞·沃利三世 -专利权人：明锐有限公司
申请日： 2007-11-01 - 公布日： 2009-11-04 - 主分类号： H01L23/58 文献下载
摘要：本发明涉及用于防止微机械系统中抗粘连的优先沉积润滑剂。本发明的实施例大体设计由于存在润滑剂而改善了可用寿命的器件，该润滑剂减小了机电器件中的各个运动部件之间发生粘连的可能性。本发明的实施例还大体包括器件及形成器件的方法，该器件具有一个或多个表面或区域，所述表面或区域上布置有某体积的润滑剂，用作“新鲜”润滑剂的现成供应以防止器件内的相互作用元件之间发生粘连。在一个方面，该体积的润滑剂内的成分形成气相或蒸气相，降低了所形成的器件中与粘连相关的失效的几率。在一种示例中，本发明的各方面特别有利于制造和使用微机械器件，例如MEMS器件、NEMS器件或其他类似的热学或流体器件。
用于防止微机系统粘连优先沉积润滑剂

[发明专利]包括高填充率硅空间光调制器的投影显示系统-CN200680040298.2有效
发明人：杨晓;王宇翔;乌克·吉;贾斯廷·艾伦·佩恩;王叶;威廉·斯潘塞·沃利三世;陈东敏;霍华德·沃 -专利权人：明锐有限公司
申请日： 2006-10-26 - 公布日： 2008-10-29 - 主分类号： G02B26/00 文献下载
摘要：一种显示系统包括光源和第一光学系统，所述第一光学系统光耦合到所述光源，并且适于沿着照明路径而提供照明光束。所述显示系统还包括位于所述照明路径中的空间光调制器。所述空间光调制器包括半导体基底和铰链结构，所述半导体基底包括多个电极器件，所述铰链结构耦接到所述半导体基底。所述铰链结构包括硅材料。所述空间光调制器还包括镜柱和镜板，所述镜柱耦接到所述铰链结构，并且延伸到离半导体基底预定距离的位置，所述镜板耦接到所述镜柱，并且覆盖所述多个电极器件。所述显示系统还包括第二光学系统，其光耦合到所述空间光调制器，并且适于将图像投影到投影表面上。
包括填充空间调制器投影显示系统

[发明专利]高填充率硅空间光调制器-CN200680040202.2有效
发明人：杨晓;王宇翔;乌克·吉;贾斯廷·艾伦·佩恩;王叶;威廉·斯潘塞·沃利三世;陈东敏;霍华德·沃 -专利权人：明锐有限公司
申请日： 2006-10-26 - 公布日： 2008-10-29 - 主分类号： G02B26/00 文献下载
摘要：一种用于显示应用的光偏转器件。所述光偏转器件包括具有上表面区域的半导体基底(105)以及一个或多个电极器件(112)，电极器件被设置以覆在上表面区域之上。该光偏转器件还包括铰链器件(214)，铰链器件包括硅材料并连接至所述上表面区域。该光偏转器件还包括：间隙，其界定在上表面区域与铰链器件(214)之间；以及镜子结构，其包括连接至铰链器件(214)的柱部分(208)，以及连接至柱部分(208)并覆在铰链器件(214)之上的镜板部分(212)。
填充空间调制器