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- [发明专利]等离子体治疗仪-CN201880052108.1有效
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D·万德克;M·哈恩尔;K-O·施托克;L·特鲁特威格;M·里克
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奇诺格有限责任公司
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2018-07-09
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2022-08-09
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H05H1/24
- 一种等离子体治疗仪，其具有布置在壳体中用于生成高压信号的高压级(5、6)和能与所述高压级(5、6)连接的头部件(2)，该高压信号适用于产生等离子体，被电介质(9)屏蔽的电极组件(13)位于头部件中，尤其所述等离子体治疗仪适用于在身体内部的等离子体治疗：头部件(2)具有能连接到壳体上的长形过渡件(10)，在所述过渡件的不能与壳体连接的端部布置有治疗头(16、16’)，治疗头的垂直于过渡件(10)的纵方向的尺寸明显地超过过渡件(10)的尺寸，并且在治疗头(16、16’)中电极组件(13)构成围绕软弹性的芯(14)的在空间上闭合的柔性外壳(12)并且在柔性外壳的外部壳面上被柔性的电介质(9)的薄层(15)覆盖，使得治疗头(16、16’)在导入身体内部时能够具有在身体内部的周围组织的形状。
- 等离子体治疗
- [发明专利]用于用介电阻碍的等离子体治疗身体表面的治疗装置-CN202080028604.0在审
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迪尔克·万德克;米尔科·哈恩;卡尔-奥托·施托克;里昂哈德·图尔蒂格;梅拉妮·里克;扬-亨德里克·赫尔莫尔德
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奇诺格有限责任公司
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2020-04-14
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2021-12-21
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H05H1/24
- 一种用于用介电阻碍的等离子体治疗身体表面的治疗装置，其具有电极装置(1)，其中至少一个电极(1a、1b)设置在电极装置(1)的基座部段中，通过电介质(3)朝向要治疗的表面完全被屏蔽并且以连接导体(6a、6b)延伸到电介质(3)的接触凸起(5)中，并且具有接触元件(2、2’)，所述接触元件具有用于接触凸起(5)的容纳开口(18、18’)和用于打开和关闭容纳开口(18、18’)的杠杆装置，并且所述杠杆装置用于将接触销(31)穿过电介质(3)的预制的凹口(14)按压到电极(1a、1b)上以将交流高压电源的接头引到电极(1a、1b)上，可实现将两个接触销(31)的空间上接近的设置方式，所述接触销与至少一个高压电源连接，彼此非常接近，其方式在于：电极装置(1)具有至少两个设置在基座部段中的电极(1a、1b)并且通过电介质(3)彼此绝缘并且以各一个连接导体(6a、6b)延伸到接触凸起(5)中，对于每个连接导体(6a、6b)而言，存在位于电介质(3)中的凹口(14)和各一个接触销(31)，接触销(31)中的至少一个借助介电的护套(30)安装在接触元件(2)中并且构成有非绝缘的端面(46)以与相关的电极(1a、1b)形成接触并且至少一个介电的护套(30)相对于电介质(3)中的相关的凹口(14)具有超尺寸，当接触销(31)的非绝缘的端面(46)接触相关的电极(1a、1b)时，护套(30)以所述超尺寸借助于杠杆装置形成护套(30)的在电介质(3)中的避免气隙的压配合。
- 用于用介电阻碍等离子体治疗身体表面装置
- [发明专利]用于待用介质阻挡等离子体处理的表面的处理仪-CN201680041373.0有效
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M·哈恩尔;K-O·施托克;L·特鲁特威格;D·万德克;M·科普;A·黑尔姆克
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奇诺格有限责任公司
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2016-06-16
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2020-11-27
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A61M35/00
- 本发明涉及一种用于待用介质阻挡等离子体处理的表面的处理仪，其包括：壳体(1)，该壳体具有端壁(14，14’)；电极(18，33)，该电极通过构成所述端壁(14，14’)的至少一个部分的电介质(19，34)相对于待处理的所述表面屏蔽，所述电极能够与高压发生器(17)连接；其中，所述端壁(14，14’)具有至少一个间隔保持件(29，29’)，在所述至少一个间隔保持件(29，29’)贴靠在待处理的所述表面上时，通过所述间隔保持件构成至少一个气体空间，在所述气体空间中形成所述介质阻挡等离子体用于所述处理，通过如下方式能够实现用所述介质阻挡等离子体同时处理和处理剂的配量供应：在所述端壁(14，14’)的背离待处理的所述表面的侧上布置有能够填充处理剂的储存腔(25，25’)，所述端壁(14，14’)具有贯通开口(28，28’)；并且所述储存腔(25，25’)在其体积方面能够这样减小，使得在体积减小的情况下，处理剂穿过所述贯通开口(28，28’)到达待处理的所述表面的区域中。
- 用于待用介质阻挡等离子体处理表面
- [发明专利]用于借助介质阻挡等离子体处理表面的装置-CN201680078601.1有效
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L·特鲁特威格;M·哈恩尔;K-O·施托克;D·万德克;M·科普
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奇诺格有限责任公司
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2016-12-16
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2020-11-03
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H05H1/24
- 用于借助介质阻挡等离子体处理表面的装置，所述表面作用为配对电极，所述装置具有由壳体本体(4)和壳体头部(17)构成的电绝缘壳体(1)，壳体中具有高压供应线路(10)和用于与该高压供应线路(10)连接的电极(18)的支承件，电极具有将该电极(18)相对于表面屏蔽的电介质(19)，电极(18)可旋转地支承在壳体头部(17)中并且以被电介质(19)覆盖的表面区段从壳体头部(17)中伸出，能够以简单的结构以如下方式实现电极在要处理的表面上原则上不受限地运动：所述电极具有布置在中心轴线中的旋转支承元件(28)，该电极借助该旋转支承元件与旋转支承元件(29)共同作用地绕中心轴线可旋转地支承在壳体头部(17)中并且与高压供应线路(10)连接，壳体头部(17)能够绕相对于中心轴线成角度的旋转轴线与壳体本体(4)连接并设有用于在旋转运动期间维持电连接的接触组件(11、21)。
- 用于借助介质阻挡等离子体处理表面装置
- [发明专利]等离子体处理装置-CN201880066141.X在审
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D·万德克;M·哈恩尔;K-O·施托克;L·特鲁特威格;M·里克
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奇诺格有限责任公司
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2018-09-03
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2020-05-26
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H05H1/24
- 一种等离子体处理装置，其构造用于在生物体的口腔内通过介电阻挡的等离子体进行处理，所述等离子体处理装置具有布置在壳体中的、用于生成为了产生等离子体所需的高压信号的高压级(5，6)以及与所述高压级连接的电极组件(10)，所述电极组件由用于形成介电阻挡的等离子体的电介质(9)覆盖，能够以简单的方式实现在生物体的口腔内进行不同的处理，其方式是，所述壳体具有手柄部件(1)，头部件(2)借助机械连接组件能松开地并且能更换地固定在所述手柄部件上，手柄部件(1)包含所有用于生成高压信号所需的级和被施加高压信号的接触组件，头部件(2)以用于特定处理的特定形状构造并且具有相应的成型的电极组件(10)，所述电极组件完全由电介质(9)包围并且具有接头(14)，在头部件(2)借助机械连接组件实现固定在所述手柄部件(1)上时，该接头接触所述手柄部件(1)的接触组件。
- 等离子体处理装置
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