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专利名称

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农业化学；冶金建筑机械工程区域搜索

主分类

B 作业；运输

C 化学；冶金

D 纺织；造纸

E 固定建筑物

F 机械工程、照明、加热

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公布日期

2023-10-24 公布专利

2023-10-20 公布专利

2023-10-17 公布专利

2023-10-13 公布专利

2023-10-10 公布专利

2023-10-03 公布专利

2023-09-29 公布专利

2023-09-26 公布专利

2023-09-22 公布专利

2023-09-19 公布专利

专利权人

国家电网公司

华为技术有限公司

中兴通讯股份有限公司

三星电子株式会社

中国石油化工股份有限公司

鸿海精密工业股份有限公司

松下电器产业株式会社

上海交通大学

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[发明专利]载置台和等离子体处理装置-CN202010396274.2有效
发明人：高桥智之;林大辅;喜多川大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-11-21 - 公布日： 2023-07-28 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种载置台和具有该载置台的等离子体处理装置。该载置台包括：被施加高频电力的基座；被施加高频电力的基座；设置在基座上，具有用于载置被处理体的载置区域和包围载置区域的外周区域的静电卡盘；设置在载置区域的内部的加热器；与加热器连接并延伸至外周区域的内部的配线层；在外周区域与配线层的接点部连接的供电端子；和导电层，其设置在外周区域的内部或者设置在位于外周区域之外的厚度方向上的其它区域，从外周区域的厚度方向看时与供电端子重叠。由此，能够提高沿着被处理体的周向的电场强度的均匀性。
载置台等离子体处理装置

[发明专利]基片处理系统-CN202211332445.0在审
发明人： 喜多川大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-10-28 - 公布日： 2023-05-12 - 主分类号： H01L21/67 文献下载
摘要：本发明的目的在于削减基片处理系统的设置面积。本发明的基片处理系统具有一个或多个处理模块以及真空输送模块，至少一个处理模块与真空输送模块以在俯视时处理模块的至少一部分与真空输送模块的至少一部分重叠的方式配置。
处理系统

[发明专利]基片处理装置和基片处理装置的维护方法-CN202211063951.4在审
发明人：远藤宏纪;永岛望;佐藤优;伊藤功英;濑口泰生;喜多川大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2022-09-01 - 公布日： 2023-03-10 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供能够容易地维护基片处理装置的内壁部件的技术。本发明的基片处理装置包括腔室、基片支承器、支承部件、内壁部件、接触部件和致动器。基片支承器设置在腔室内。支承部件设置在基片支承器的上方。内壁部件包括能够配置在基片支承器的上方且支承部件的下方的顶部。接触部件安装在支承部件和内壁部件中的一者。接触部件构成为，通过对支承部件和内壁部件中的另一者施加水平方向的弹簧反作用力，将内壁部件可拆装地固定在支承部件。致动器构成为使内壁部件向下方移动而解除内壁部件相对于支承部件的固定。
处理装置维护方法

[发明专利]载置台和等离子体处理装置-CN201711165278.4有效
发明人：高桥智之;林大辅;喜多川大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2017-11-21 - 公布日： 2020-06-09 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供一种载置台和具有该载置台的等离子体处理装置。该载置台包括：被施加高频电力的基座；被施加高频电力的基座；设置在基座上，具有用于载置被处理体的载置区域和包围载置区域的外周区域的静电卡盘；设置在载置区域的内部的加热器；与加热器连接并延伸至外周区域的内部的配线层；在外周区域与配线层的接点部连接的供电端子；和导电层，其设置在外周区域的内部或者设置在位于外周区域之外的厚度方向上的其它区域，从外周区域的厚度方向看时与供电端子重叠。由此，能够提高沿着被处理体的周向的电场强度的均匀性。
载置台等离子体处理装置

[发明专利]静电卡盘的再生方法和静电卡盘-CN201910956853.5在审
发明人： 喜多川大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2019-10-10 - 公布日： 2020-04-21 - 主分类号： H01J37/32 文献下载
摘要：本发明提供能够减少加工量的静电卡盘的再生方法和静电卡盘。一种静电卡盘的再生方法，该静电卡盘的再生方法包括以下工序：提供具有凹部和自所述凹部的底面突出的凸部的所述静电卡盘；形成第1掩模，该第1掩模覆盖除所述凸部以外的所述凹部；借助所述第1掩模对所述静电卡盘的表面进行削除；去除所述第1掩模；在所述底面的与所述凸部的位置不同的位置形成第2掩模；借助所述第2掩模对所述静电卡盘的表面进行削除；以及去除所述第2掩模。
静电卡盘再生方法

[发明专利]加热器供电机构和载置台的温度控制方法-CN201580019476.2有效
发明人： 喜多川大 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-04-30 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供一种加热器供电机构，其用多个加热器将载置基板的载置台分区化，并且能够在每个分区进行温度控制，该加热器供电机构包括：多组加热器用端子，将一组加热器用端子作为一区段，以区段单位与上述多个加热器的任一者连接；加热器配线；和配线结构，使用上述加热器配线将上述多组加热器用端子间的至少任一者以区段单位连接的。
加热器供电机构载置台温度控制方法

[发明专利]载置台及等离子体处理装置-CN201580024261.X有效
发明人： 喜多川大;小泉克之;永井力;林大辅;照内怜 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-06-01 - 公布日： 2019-08-13 - 主分类号： H01L21/683 文献下载
摘要：本发明提供一种载置台及等离子体处理装置。本发明的一实施方式的载置台具备支承部件及基座。支承部件具有：载置区域，具有加热器；及外周区域，围绕载置区域。基座具有：第1区域，在其上支承载置区域；及第2区域，围绕第1区域。第2区域中设有贯穿孔。电连接于加热器的配线穿过第2区域的贯穿孔。
载置台等离子体处理装置

[发明专利]加热器供电机构-CN201580020523.5有效
发明人： 喜多川大;小泉克之 -专利权人：东京毅力科创株式会社
申请日： 2015-05-08 - 公布日： 2019-07-05 - 主分类号： H01L21/3065 文献下载
摘要：本发明提供一种加热器供电机构，用多个加热器将载置基板的载置台分为多个区域，能够对每个区域进行温度控制，该加热器供电机构包括：与上述多个加热器连接的多个加热器用端子；与上述多个加热器用端子连接的多个加热器配线；和使上述多个加热器配线偏移的偏移构造，上述多个加热器用端子配置在保持上述载置台的保持板上的外周部。
加热器供电机构

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