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[发明专利]遮光基板及其制备方法和阵列基板-CN202110311433.9有效
发明人： 吴豪旭 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2021-03-24 - 公布日： 2023-10-03 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本申请提供一种遮光基板及其制备方法和阵列基板。遮光基板包括：基板和设置于所述基板一侧的遮光层，所述遮光层的材料为黑色介孔金属氧化物。当所述遮光基板用来制备阵列基板时，黑色介孔金属氧化物可以加强对可见光的吸收和散射，从而降低阵列基板上金属层对入射光线的反射率。当所述阵列基板用来制备显示面板时，可以提高显示面板的对比度和视觉效果。
遮光及其制备方法阵列

[发明专利]微胶囊剥离剂组合物及其用于制备柔性基板的方法-CN202010237732.8有效
发明人： 吴豪旭;陈孝贤 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-03-30 - 公布日： 2023-05-30 - 主分类号： H01L21/77 文献下载
摘要：一种柔性基板的制备方法，包括:将用于制备微胶囊单体的囊心的材料混合形成第一悬浮液；将用于制备微胶囊单体的囊壁的材料混合形成第二悬浮液；将第一悬浮液置于流化床中，通入空气使该第一悬浮液分散漂浮于承载空气中形成第一悬浮液分散体；提供一玻璃基板；将该第二悬浮液涂覆所述第一悬浮液分散体，形成多个微胶囊单体；将该多个微胶囊单体沉积在该玻璃基板上，形成一微胶囊单体膜层；对形成在该玻璃基板上的该微胶囊单体膜层进行预固化程序；在该微胶囊单体膜层上形成柔性基板层；对该玻璃基板进行加热烘烤程序，以固化该柔性基板层；在该柔性基板层上制作薄膜晶体管；以及将该柔性基板层从该玻璃基板剥离以获得一柔性基板。
微胶囊剥离组合及其用于制备柔性方法

[发明专利]铜铝膜蚀刻液-CN202110029611.9有效
发明人： 吴豪旭 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2021-01-11 - 公布日： 2023-03-28 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本申请实施例公开了一种铜铝膜蚀刻液，所述铜铝膜蚀刻液相对于所述蚀刻液的总重量，以重量计，包含：4％至10％的过氧化氢，0.1％至1％的过氧化氢稳定剂，0.05％至0.5％的蚀刻抑制剂，10％至30％的螯合剂，0.2％至2％的表面活性剂，0.2％至5％的无机磷酸盐或无机磷酸氢盐，0.1％至5％的无机酸，0至0.05％的氟化物以及余量的去离子水。本申请蚀刻液具有较长的使用寿命。
铜铝膜蚀刻

[发明专利]阵列基板及显示装置-CN201911259325.0有效
发明人：梅园;李金城;吴豪旭 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2019-12-10 - 公布日： 2022-11-01 - 主分类号： H01L27/28 文献下载
摘要：本发明提供一种阵列基板及显示装置，该阵列基板的驱动电路层形成有第一薄膜晶体管和第二薄膜晶体管，第一薄膜晶体管，例如P型薄膜晶体管的有源层材料为有机导电高分子材料；基于该结构，通过使用有机导电高分子材料作为第一薄膜晶体管的有源层材料，解决了陈列基板的柔性受制于低温多晶硅材料特性的技术问题，增强了阵列基板的柔性，同时基于有机导电高分子材料的高迁移率，实现了第一薄膜晶体管的高迁移率，减小了显示器件大小，提高了开口率，降低了漏电流。
阵列显示装置

[发明专利]低反射复合体层、其制作方法及其应用于阵列基板-CN201911356683.3有效
发明人： 吴豪旭 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-12-25 - 公布日： 2022-09-09 - 主分类号： G02F1/1335 文献下载
摘要：本发明提供一种低反射复合体层及其制作方法与阵列基板。低反射复合体层包括三维硅橡胶以及黑色金属氧化物颗粒形成的三维多孔结构。本发明通过利用低反射复合体层的复合体材料形貌加强对可见光源的吸收，从而降低其反射率，且该方法成本低。本发明提供的阵列基板中的缓冲层采用所述低反射复合体层，避免了产生强烈的反光现象，节省了成本，并提高了对比度和观赏视觉效果，提升了产品竞争力。
反射复合体制作方法及其应用于阵列

[发明专利]生产硝酸系统及生产硝酸方法-CN202010160684.7有效
发明人： 吴豪旭;李金城;梅园 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-03-10 - 公布日： 2021-12-03 - 主分类号： C01B21/38 文献下载
摘要：本发明提供一种生产硝酸系统及生产硝酸方法，生产硝酸方法使用生产硝酸系统生产硝酸，生产硝酸系统包括原料供给装置以及硝酸生成装置。所述原料供给装置用于提供氮气、氧气以及去离子水；所述硝酸生成装置设有光催化层以及光源供给单元并与所述原料供给装置相连通，通过由所述光源供给单元提供的可见光和光催化层的相互作用，使所述氮气供给单元提供的氮气离解成氮原子，所述氮原子与所述去离子水进行反应生成一氧化氮；所述一氧化氮、所述氧气与所述去离子水反应生成硝酸。本发明通过光催化层受可见光照射将去离子水及高洁净的空气转化为硝酸，属于环保型生产硝酸方式，无废水及废液产出，且能够降低生产成本。
生产硝酸系统方法

[发明专利]复合材料及其制备方法、显示面板-CN201910787720.X有效
发明人： 吴豪旭 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2019-08-26 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： C09D1/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种复合材料及其制备方法、显示面板，复合材料的原料包括高吸光材料和低反射材料，所述高吸光材料的光的吸收系数为3.5‑4.5，所述高吸光材料的折射系数为0.01‑0.1；所述低反射材料的光的吸收系数为2‑3，所述低反射材料的折射系数为1‑1.5。本发明的复合材料，通过颗粒状的纳米硅加强对可见光的吸收，以及采用所述低反射材料作为基体，形成三维复合多孔结构，进一步减弱光的镜面反射，提高对比度和观赏视觉效果。
复合材料及其制备方法显示面板

[发明专利]三维多孔结构复合体材料及制备方法、阵列基板-CN201910456905.2有效
发明人： 吴豪旭 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2019-05-29 - 公布日： 2021-11-02 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明披露一种三维多孔结构复合体材料及制备方法、阵列基板。所述阵列基板中的金属电极层均采用低反射且具有三维多孔结构复合体材料，从而能够加强对可见光源的吸收，并且降低其反射率，以进一步提高对比度和观赏视觉效果。
三维多孔结构复合体材料制备方法阵列

[发明专利]蚀刻液和蚀刻方法-CN202110800709.X在审
发明人： 吴豪旭 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2021-07-15 - 公布日： 2021-10-22 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本申请提供一种蚀刻液和蚀刻方法。一种蚀刻液包括占蚀刻液总质量百分比为5％‑12％的过氧化氢、3％‑10％的螯合剂、0.1％‑1％的过氧化氢稳定剂、0.03％‑0.5％的抑制剂、2％‑10％有机碱、0.1‑5％的无机酸以及0.2％‑5％的酸碱调节剂，其余为水。本申请提供的蚀刻液不含氟化物且蚀刻效果好。
蚀刻方法

[发明专利]湿式蚀刻方法及装置-CN201910573451.7有效
发明人：梅园;吴豪旭 -专利权人： TCL华星光电技术有限公司
申请日： 2019-06-28 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： H01L21/306 文献下载
摘要：本发明公开一种湿式蚀刻方法及装置，所述方法包含步骤：提供一湿式蚀刻配置，包括一输送带及其上方的一喷液装置，所述输送带用以沿一输送方向由一较高的上游端输送物件到一较低的下游端；提供一待蚀刻件，所述待蚀刻件具有一光致抗蚀图案，所述光致抗蚀图案具有至少一线段，所述至少一线段沿至少一直线方向延伸；将所述待蚀刻件放置在所述输送带上，并且致使所述线段延伸的所述直线方向与所述输送方向之间的一夹角介于30至60度；及控制所述输送带输送所述待蚀刻件，且控制所述喷液装置向下喷淋蚀刻液。
蚀刻方法装置

[发明专利]蚀刻螯合剂及其制备方法与蚀刻液组合物-CN202010209957.2有效
发明人： 吴豪旭 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-03-23 - 公布日： 2021-04-27 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种蚀刻螯合剂及其制备方法与蚀刻液组合物，所述蚀刻螯合剂包括纤维素交联聚合物，所述纤维素交联聚合物由羧甲基纤维素与胺类化合物交联聚合而得。所述蚀刻螯合剂中含有大量的羧基与胺基，与铜离子能够发生较强的螯合作用，并形成沉淀将铜离子从溶液中脱离出来，因此，使用加入此蚀刻螯合剂的蚀刻液进行含铜膜层蚀刻时，可有效抑制蚀刻液中铜离子浓度的升高。
蚀刻螯合剂及其制备方法组合

[发明专利]一种阵列基板及其制造方法-CN201810955669.4有效
发明人： 吴豪旭 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2018-08-21 - 公布日： 2020-12-04 - 主分类号： H01L27/12 文献下载
摘要：本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种阵列基板及其制造方法，该阵列基板包括：透明基板；以及位于所述透明基板上的栅极、栅极绝缘层、有源层、源极及漏极；散射膜层，设置于所述透明基板上，所述散射膜层包括第一散射膜层及第二散射膜层，其中，第一散射膜层设置于透明基板与栅极之间，第二散射膜层设置于源极、漏极与有源层之间，通过在该阵列基板上设置散射膜层，并通过干法刻蚀方法将其制备为特定的不规则金属氧化物形貌结构，能够加强对可见光源的散射和吸收，从而降低阵列基板上金属电极的反射率，提供对比度和观赏视觉效果，节省成本，提升了产品竞争力。
一种阵列及其制造方法

[发明专利]偶氮苯衍生物及其制备方法以及偶氮苯基光控可逆粘合剂极其使用方法-CN202010787570.5在审
发明人： 吴豪旭 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-08-07 - 公布日： 2020-12-01 - 主分类号： C07C245/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种偶氮苯衍生物及其制备方法以及偶氮苯基光控可逆粘合剂极其使用方法。其中偶氮苯衍生物，其分子结构如P1和P2所示。上述的偶氮苯衍生物的制备方法，使用偶氮苯基团和3,4,5‑三戊氧基苯甲酸或3,4,5‑三十二氧基苯甲酸与2,2'‑二羟基‑1,1'‑双萘酚发生酯化反应，即可得到P1或P2。本发明利用烷基链和双萘酚共同调节偶氮苯衍生物P1和P2到一个稍高于室温的熔点，液态P1和P2可在2min内自发且快速固化，固化后表现出优良的粘合性能，其粘结强度可达几个兆帕满足后续制程需求；绿光照射下，P1和P2的光热效应导致了固体到液体的转变，绿光照射后，P1和P2升温熔化，失去粘合性能。
偶氮衍生物及其制备方法以及苯基光控可逆粘合剂极其使用方法

[发明专利]显示面板的金属图案制作方法-CN201910585008.1有效
发明人：梅园;吴豪旭 -专利权人：深圳市华星光电技术有限公司
申请日： 2019-07-01 - 公布日： 2020-11-24 - 主分类号： C23F1/02 文献下载
摘要：一种显示面板的金属图案制作方法被提供,包括:在一铜/钼金属层的蚀刻过程中,当所述金属层的金属离子在蚀刻液中到达一对应含量时,在所述蚀刻液中额外连续或间歇地添加蚀刻功能剂或蚀刻维持剂,直至所述蚀刻功能剂或蚀刻维持剂占所述蚀刻液和所加入蚀刻功能剂或蚀刻维持剂总量的2‑5wt％时为止。
显示面板金属图案制作方法

[发明专利]一种水凝胶及制备方法、柔性面板及制备方法-CN202010401920.X在审
发明人： 吴豪旭 -专利权人：深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
申请日： 2020-05-13 - 公布日： 2020-08-25 - 主分类号： C07C201/12 文献下载
摘要：本发明公开了一种水凝胶及制备方法、柔性面板及制备方法，其中水凝胶化学结构式为所述R2为烃基长链。本发明的有益效果在于，本发明的一种水凝胶及制备方法、柔性面板及制备方法。通过水凝胶的制备方法制备出水凝胶，柔性面板利用水凝胶的特性，在水凝胶中掺杂陶瓷颗粒形成缓冲层，采用先光照再酸化的步骤，实现柔性层与基板的无损剥离，可以减少激光剥离技术对柔性层的不良影响，从而提高柔性面板的使用寿命。
一种凝胶制备方法柔性面板

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