专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]多晶硅薄膜晶体管离子注入机-CN200320112910.6无效
  • 付国柱;邵喜斌;荆海;廖燕平;高文涛;史辉琨 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 2003-12-08 - 2005-01-19 - H01L21/265
  • 本实用新型属于半导体器件制作技术领域,是一种多晶硅薄膜晶体管离子注入机。本实用新型包含有真空室,抽气装置,气路部分,电控制器。本实用新型的气路部分通过配气截止阀同真空室连接,向真空室运送所要注入的气体。抽气装置通过角阀和闸板阀同真空室连接,利用真空泵使真空室保持一定的真空度。电控制器连接所有的用电部件,作为本实用新型的电源。本实用新型采取离子通量注入的方式,省去了现有技术中质量分析系统、离子束聚焦和扫描系统,因此结构简单,而且可以大面积的离子注入。在抽气装置上增加大排量机械泵,使本实用新型可以用作化学气相淀积PECVD和等离子刻蚀。
  • 多晶薄膜晶体管离子注入
  • [发明专利]离子注入机-CN200310115894.0无效
  • 付国柱;邵喜斌;荆海;廖燕平;高文涛;史辉琨 - 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
  • 2003-12-08 - 2004-11-17 - H01L21/265
  • 本发明属于半导体器件制作技术领域,是一种多晶硅薄膜晶体管离子注入机。本发明包含有真空室,抽气装置,气路部分,电控制器。本发明的气路部分通过配气截止阀同真空室连接,向真空室运送所要注入的气体。抽气装置通过角阀和闸板阀同真空室连接,利用真空泵使真空室保持一定的真空度。电控制器连接所有的用电部件,作为本发明的电源。本发明采取离子通量注入的方式,省去了现有技术中质量分析系统、离子束聚焦和扫描系统,因此结构简单,而且可以大面积的离子注入。在抽气装置上增加大排量机械泵,使本发明可以用作化学气相淀积PECVD和等离子刻蚀。
  • 离子注入

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