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专利名称
农业 化学；冶金 建筑 机械工程 区域搜索
主分类
A 农业
B 作业；运输
C 化学；冶金
D 纺织；造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]多次曝光图案分解系统和方法-CN200910003754.1有效
  • 朱迪·赫卡贝;方伟平;康春辛;周时英 - 凯登斯设计系统有限公司
  • 2009-02-01 - 2009-09-02 - G06F17/50
  • 本发明涉及多次曝光图案分解系统和方法，具体涉及一种用于识别不满足制造限制的设计布局中的图案的错误标记的方法和系统。一些实施例从错误标记区域扩展区域，以提取用于分解分析的图案。一些实施例将已提取的图案与库中存储的已知图案进行比较，库中还为各个已知的图案存储了至少一种预先计算的分解解决方案。对于库中存在的已提取图案，一些实施例从库中检索预先计算的分解解决方案。对于库中不存在的已提取图案，一些实施例使用一种或多种模拟来确定已提取图案的分解解决方案。所得到的分解解决方案取代设计布局中的已提取图案，产生包含此图案的已分解解决方案的初始布局的变形。
  • 多次曝光图案分解系统方法
  • [发明专利]有制造意识的设计和有设计意识的制造-CN200680022286.7有效
  • L·K·谢弗;A·藤村 - 凯登斯设计系统有限公司
  • 2006-05-20 - 2008-07-23 - G06F17/50
  • 本发明的一些实施例提供了用于设计集成电路(“IC”)版图的有制造意识的处理(1205)。该处理接收制造配置，该制造配置为用于基于IC版图制造IC的机器的集合指定制造设置的集合(1210)。处理基于指定的制造配置定义设计规则的集合(1215)。处理使用设计规则的集合来设计IC版图(1225)。本发明的一些实施例提供了用于制造集成电路(“IC”)的有设计意识的处理(1227)。该处理接收具有相关的设计性质集合的IC设计。处理指定制造配置，该制造配置为用于制造IC的机器的集合指定制造设置的集合，其中指定的制造设置的集合基于设计性质的集合。处理基于制造设置来制造IC(1230)。
  • 制造意识设计
  •  1 
  • 共 4 条
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