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[发明专利]基材处理装置及基材处理方法-CN201810151094.0有效
发明人：高木善则;川上拓人;冈田広司 -专利权人：株式会社斯库林集团
申请日： 2018-02-13 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： B32B38/10 文献下载
摘要：本发明提供一种即便在层叠基材的左右的端缘部的长度存在差的情况下，在剥离辊的搬送方向上游侧的位置上，也可以抑制层叠基材中产生松弛的基材处理装置及基材处理方法。所述装置具有吸附辊、剥离辊及导入部。导入部将层叠有电解质膜与支撑膜的层叠基材导入至吸附辊与剥离辊之间。另外，基材处理装置具有空气气缸。空气气缸向吸附辊上按压剥离辊。但是，层叠基材可相对于剥离辊的外周面进行滑动。因此，即便在层叠基材的左右的端缘部的长度存在差的情况下，通过层叠基材的滑动，所述长度的差也被吸收。因此，在剥离辊的搬送方向上游侧的位置上，可抑制层叠基材中产生松弛。
基材处理装置方法

[发明专利]喷嘴清洁装置、涂布装置、喷嘴清洁方法以及涂布方法-CN201410058418.8有效
发明人：高木善则;大森雅文;冈田広司 -专利权人：斯克林集团公司
申请日： 2014-02-20 - 公布日： 2017-04-19 - 主分类号： B05B15/02 文献下载
摘要：本发明提供一种喷嘴清洁装置、涂布装置、喷嘴清洁方法以及涂布方法，在清洁与狭缝喷嘴的擦拭相关的构件时，雾气等不会附着在会影响被处理体的涂布性能的部分。形成着密闭空间(L1)，通过擦拭来去除狭缝喷嘴(30)的附着物(100)的擦拭构件(41)的清洁是在所述密闭空间(L1)内进行的。此外，在密闭空间(L1)内设置着将密闭空间(L1)内部的气液排出至装置外部的排出口(491)。因此，用于清洁擦拭构件(41)的双流体清洁液(wL)或因该清洁而产生的雾气从所述排出口(491)被排出至装置外部，而不会附着在装置内部中的密闭空间(L1)的外部。
喷嘴清洁装置方法以及