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[发明专利]质量分析装置及质量分析方法-CN202180094318.9在审
发明人：平尾健;内藤康秀;小杉典正 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2021-12-06 - 公布日： 2023-10-13 - 主分类号： G01N27/64 文献下载
摘要：本发明的质量分析装置具备：试样台；照射部，其对试样照射能量线，在维持被照射能量线的区域的试样的位置信息的情况下使试样的成分离子化；引出电极，其通过与试样台的电位差来从试样的表面引出离子化试样；MCP，其放出相应于离子化试样的电子；摄像部，其取得基于通过MCP而放出的电子的图像；及控制部，其控制照射部、引出电极及摄像部的动作。控制部在由照射部进行的的能量线的照射后，在相应于检测对象成分的时刻，使引出电极的电位变化，且在相应于检测对象成分的期间，使摄像部取得作为分析对象的图像。
质量分析装置方法

[发明专利]激光解吸电离法、质谱法、试样支承体和试样支承体的制造方法-CN201880076626.7有效
发明人： 内藤康秀;大村孝幸;小谷政弘 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2018-10-05 - 公布日： 2023-08-15 - 主分类号： G01N27/64 文献下载
摘要：激光解吸电离法包括：第1工序，准备包括形成有在彼此相对的第1表面(2a)和第2表面(2b)开口的多个贯通孔(2c)的基板(2)、至少设置于第1表面的导电层和设置于多个贯通孔且在真空中具有不易挥发性的溶剂(81)的试样支承体(1)；第2工序，试样(S)载置于载置部(6)的载置面(6a)，以第2表面(2b)接触于试样的方式在试样(S)上配置试样支承体(1)；和第3工序，通过在试样(S)配置于载置部(6)与试样支承体(1)之间的状态下，向导电层施加电压且对第1表面(2a)照射激光，从而与溶剂混合并且从第2表面(2b)侧经由贯通孔(2c)移动至第1表面(2a)侧的试样(S)的成分被电离。
激光解吸电离质谱法试样支承制造方法

[发明专利]试样支承体、离子化方法和质量分析方法-CN202180032076.0在审
发明人：小谷政弘;大村孝幸;胁村明夏里;寺内勉;平修;内藤康秀 -专利权人：浜松光子学株式会社;大阳日酸株式会社;国立大学法人福岛大学
申请日： 2021-04-15 - 公布日： 2022-12-16 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：试样支承体(1)是用于试样的成分的离子化的试样支承体，并且具备：基板(2)，其具有第一表面(2a)、和与第一表面相反侧的第二表面(2b)、以及在第一表面和第二表面开口的多个贯通孔(2c)；导电层(5)，其至少设置于第一表面；以及衍生化剂(6)，其设置于多个贯通孔，并且用于将成分衍生化。
试样支承离子化方法质量分析

[发明专利]试样支承体、试样支承体的制造方法和试样的离子化方法-CN201980006760.4有效
发明人： 内藤康秀;大村孝幸;小谷政弘 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2019-01-08 - 公布日： 2022-12-13 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：本发明的试样支承体包括：具有彼此相对的第一表面和第二表面的基板；和至少设置在第一表面的导电层。在基板和导电层，形成有在导电层的与基板相反的一侧的第三表面和第二表面开口的多个贯通孔。对第二表面和第三表面的至少一者，进行用于使对水的亲和性在第二表面侧的面与第三表面侧的面之间不同的表面处理。
试样支承制造方法离子化

[发明专利]质量分析装置、以及质量分析方法-CN202080094997.5在审
发明人： 内藤康秀;平尾健;近藤稔 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2020-04-07 - 公布日： 2022-09-13 - 主分类号： H01J31/50 文献下载
摘要：本发明的质量分析装置包括试样台、照射部、MCP、荧光体、摄像部和控制部。照射部通过对试样照射能量射线而在维持试样的多个成分的位置信息的状态下使多个成分离子化。MCP根据离子化试样释放电子。荧光体根据电子发出荧光。摄像部具有能够切换开状态和闭状态的开闭机构。控制部控制开闭机构的开闭动作。控制部通过在每个成分的特定时间进行开闭机构的开闭，从而使摄像部对与多个成分的各自分别对应的荧光进行拍摄。
质量分析装置以及方法

[发明专利]摄像单元、质量分析装置和质量分析方法-CN202080095071.8在审
发明人： 内藤康秀;平尾健;近藤稔 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2020-04-07 - 公布日： 2022-09-06 - 主分类号： G01N21/64 文献下载
摘要：本发明的摄像单元包括MCP、荧光体和摄像部。MCP设置在离子化了的试样的成分即离子化试样的飞行路径上，根据离子化试样而释放电子。荧光体配置在MCP的后段，根据从MCP释放的电子而发出荧光。摄像部配置在荧光体的后段，具有构成为能够对开状态和闭状态进行切换的开闭机构，其中在开状态使来自荧光体的荧光通过而拍摄荧光，在闭状态遮蔽来自荧光体的荧光而不拍摄荧光。荧光体的余辉时间为12ns以下。
摄像单元质量分析装置方法

[发明专利]激光解吸电离法和质量分析方法-CN201880060451.0有效
发明人： 内藤康秀;大村孝幸;小谷政弘 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2018-08-03 - 公布日： 2022-08-30 - 主分类号： G01N27/64 文献下载
摘要：激光解吸电离法包括准备试样支撑体(1)的第1工序。试样支撑体(1)包括：基板(2)；电离基板(3)；以及支撑部(5)，其以电离基板(3)的第1表面(3a)与基板(2)彼此隔开的方式相对于基板(2)支撑电离基板(3)。在电离基板(3)的至少测量区域(R)形成有多个贯通孔(3c)。至少在第2表面(3b)上的贯通孔(3c)的周缘部设置有导电层(4)。此外，激光解吸电离法包括：对电离基板(3)的测量区域(R)滴落试样(S)的第2工序；和第3工序，其在试样(S)浸透于电离基板(3)后，对导电层(4)施加电压且对第2表面(3b)照射激光(L)，由此将试样(S)的成分电离。
激光解吸电离质量分析方法

[发明专利]表面辅助激光解吸电离法、质量分析方法和质量分析装置-CN201911035872.0有效
发明人： 内藤康秀;小谷政弘;大村孝幸 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2016-08-26 - 公布日： 2022-04-22 - 主分类号： G01N27/64 文献下载
摘要：本发明的一个方面所涉及的表面辅助激光解吸电离法包括：第一工序，其准备具有设置有从一个面(21a)贯通到另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)、和至少覆盖一个面(21a)的导电层(23)的试样支撑体(2)；第二工序，其将试样(10)载置于试样台(1)，且以另一个面(21b)与试样(10)相对的方式将试样支撑体(2)配置于试样(10)上；和第三工序，其通过向一个面(21a)照射激光(L)，使利用毛细管现象从另一个面(21b)侧经由贯通孔(S)而移动至一个面(21a)侧的试样(10)电离。
表面辅助激光解吸电离质量分析方法装置

[发明专利]质量分析装置和质量分析方法-CN201880016091.4有效
发明人： 内藤康秀;小谷政弘;大村孝幸 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2018-03-01 - 公布日： 2022-04-05 - 主分类号： G01N27/64 文献下载
摘要：本发明的一个方面所涉及的质量分析装置(200)包括试样台(1)、激光照射部(201)和检测器(203)，试样台(1)以如下方式构成：包括载置试样(10)并且设置有从一个面(21a)贯通至另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)和至少覆盖在一个面(21a)上未设置贯通孔(S)的部分的导电层(23)的试样支承体(2)以另一个面(21b)与试样(10)相对的方式载置，激光照射部(201)以向一个面(21a)上的成像对象区域(R1)照射激光(L)的方式控制激光(L)的照射，检测器(203)在维持成像对象区域(R1)上的试样(10)的位置关系的状态下对通过激光(L)的照射而离子化的试样(10)进行检测。
质量分析装置方法

[发明专利]试样支承体和试样支承体的制造方法-CN201980006766.1在审
发明人： 内藤康秀;大村孝幸;小谷政弘 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2019-01-08 - 公布日： 2020-08-21 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：本发明的试样支承体包括：具有彼此相对的第1表面和第2表面的基片；和至少设置在第1表面的导电层。在基片和导电层形成有在导电层的与基片相反侧的第3表面和第2表面具有开口的多个贯通孔。在第2表面、第3表面和多个贯通孔各自的内表面设置有对水的亲和性比基片高的保护膜。
试样支承制造方法

[发明专利]试样支撑体和试样支撑体的制造方法-CN202010487370.8在审
发明人： 内藤康秀;小谷政弘;大村孝幸 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2016-08-26 - 公布日： 2020-08-18 - 主分类号： G01N27/64 文献下载
摘要：本发明的一个方面所涉及的试样支撑体(2)为表面辅助激光解吸电离法用的试样支撑体，具有设置有从一个面(21a)贯通到另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)、和由导电性材料构成且至少覆盖一个面(21a)的导电层(23)，贯通孔(S)的宽度(d3)为1～700nm，基板(21)的厚度(d1)为1～50μm。
试样支撑制造方法

[发明专利]激光解吸电离法和质谱法-CN201880076606.X在审
发明人： 内藤康秀;大村孝幸;小谷政弘 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2018-10-05 - 公布日： 2020-07-10 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：激光解吸电离法包括：准备包括形成有在彼此相对的第1表面(2a)和第2表面(2b)开口的多个贯通孔的基板(2)和至少设置于第1表面的导电层的试样支承体(1)的第1工序；向多个贯通孔导入试样(S)和在真空中具有不易挥发性的溶剂(81)的第2工序；和通过向导电层施加电压且对第1表面照射激光而使试样的成分被电离的第3工序。
激光解吸电离质谱法

[发明专利]试样支撑体和试样支撑体的制造方法-CN201680002978.9有效
发明人： 内藤康秀;小谷政弘;大村孝幸 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2016-08-26 - 公布日： 2020-06-30 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：本发明的一个方面所涉及的试样支撑体(2)为表面辅助激光解吸电离法用的试样支撑体，具有设置有从一个面(21a)贯通到另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)、和由导电性材料构成且至少覆盖一个面(21a)的导电层(23)，贯通孔(S)的宽度(d3)为1～700nm，基板(21)的厚度(d1)为1～50μm。
试样支撑制造方法

[发明专利]激光解吸电离法及质量分析方法-CN201880055740.1在审
发明人： 内藤康秀;小谷政弘;大村孝幸 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2018-08-06 - 公布日： 2020-05-01 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：本发明涉及一种激光解吸电离法，其具备下述工序：第一工序，准备试样支撑体(1)，该试样支撑体(1)具备形成有多个在彼此相对的第一表面(2a)及第二表面(2b)开口的贯通孔的基板(2)和至少设置于第一表面的导电层；第二工序，将试样(S)载置于载置部(6)的载置面(6a)，且以第二表面与试样接触的方式将试样支撑体配置在试样上；第三工序，将基质溶液(81)导入多个贯通孔；以及第四工序，在将试样配置于载置部和试样支撑体之间的状态下，一边对导电层施加电压一边对第一表面照射激光(L)，从而使与基质溶液混合并且从第二表面侧经由贯通孔移动到第一表面侧的试样的成分(S1)电离。
激光解吸电离质量分析方法

[发明专利]表面辅助激光解吸电离法、质量分析方法和质量分析装置-CN201680002988.2有效
发明人： 内藤康秀;小谷政弘;大村孝幸 -专利权人：浜松光子学株式会社
申请日： 2016-08-26 - 公布日： 2019-11-26 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：本发明的一个方面所涉及的表面辅助激光解吸电离法包括：第一工序，其准备具有设置有从一个面(21a)贯通到另一个面(21b)的多个贯通孔(S)的基板(21)、和至少覆盖一个面(21a)的导电层(23)的试样支撑体(2)；第二工序，其将试样(10)载置于试样台(1)，且以另一个面(21b)与试样(10)相对的方式将试样支撑体(2)配置于试样(10)上；和第三工序，其通过向一个面(21a)照射激光(L)，使利用毛细管现象从另一个面(21b)侧经由贯通孔(S)而移动至一个面(21a)侧的试样(10)电离。
表面辅助激光解吸电离质量分析方法装置

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