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[发明专利]具有超微细凹凸表面结构的成型物的制造方法-CN201110058142.X无效
发明人：村濑英寿;佐佐木良成;松井俊辅;阿苏幸成 -专利权人：索尼公司
申请日： 2011-03-10 - 公布日： 2011-09-21 - 主分类号： B44C1/22 文献下载
摘要：本发明提供了一种具有超微细凹凸表面结构的成型物的制造方法，其中，其中，对每一次发射使激光照射区域相对于加工对象物的加工面连续移动，同时将激光束重复照射到加工对象物的加工面上，该制造方法包括以下步骤：设定激光束的能量密度；设定发射数，通过该发射数来形成所需的微细形状；计算激光照射区域相对于加工面的移动速度；以及照射所设定的能量密度的激光束，同时使加工面相对于激光照射区域以所计算出的移动速度移动，从而在形成有微细形状的加工面上形成由加工痕迹形成的超微细凹凸结构。
具有微细凹凸表面结构成型制造方法

[发明专利]模具制造方法、功能膜制造方法以及功能膜-CN200910171686.X无效
发明人：村濑英寿;佐佐木良成;阿苏幸成;城崎友秀;冲野节雄 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2009-09-07 - 公布日： 2010-03-17 - 主分类号： C25D1/10 文献下载
摘要：本发明披露了一种模具制造方法、一种功能膜及其制造方法。该模具制造方法包括以下步骤：通过激光加工而在圆柱形树脂原板的加工表面上形成图案；以及通过使用形成有图案的树脂原板的电铸法来制造圆柱形模具。
模具制造方法功能以及

[发明专利]激光加工设备、碎片收集机构及方法与显示板的制造方法-CN200810131749.4无效
发明人：村瀬英寿;佐佐木良成;阿苏幸成;山田尚树 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2008-06-27 - 公布日： 2008-12-31 - 主分类号： B23K26/00 文献下载
摘要：本发明涉及一种激光加工设备、碎片收集机构及方法与显示板的制造方法。提供了一种激光加工设备，用于以激光图案化形成于基板上的树脂膜或者金属膜。该设备包括激光源和碎片收集装置，该碎片收集装置具有透射激光的透射窗口、通过使气体流入树脂膜或者金属膜的激光照射区域附近的区域而产生涡流气流的涡流产生机构，以及具有激光通过的开口并且屏蔽碎片流的屏蔽装置。该机构靠近基板上的树脂膜或金属膜设置。由激光照射产生的碎片于堆叠在目标膜上之前和之后被夹带在由涡流产生机构产生的涡流气流中，并且通过屏蔽装置排出到外部。
激光加工设备碎片收集机构方法显示制造

[发明专利]激光加工装置、激光加工头及激光加工方法-CN200710167181.7有效
发明人： 佐佐木良成;阿苏幸成;村瀬英寿;山田尚树 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2007-11-02 - 公布日： 2008-05-07 - 主分类号： B23K26/14 文献下载
摘要：公开了一种激光加工装置。所述激光加工装置包括辐射激光束的激光束源，以及激光加工头。所述激光加工头包括：透射窗口，激光束通过所述透射窗口照射材料；在所述激光头的底部中形成的窗孔部，使得所述激光束可经由所述透射窗口而通过；将气体导入到所述激光加工头中的导入孔；将所述激光加工头内的环境气体排出到外部的排气孔。所述激光加工头进一步包括：将气体导入到材料的激光照射区域周围的空气孔；允许排出所述材料的激光照射区域的环境气体的空气孔；以及遮蔽部，具有位于所述透射窗口与所述窗孔部之间的开口以及与所述导入孔和排气孔连通的通风部。
激光加工装置工头方法

[发明专利]激光加工装置，激光加工头及激光加工方法-CN200610136314.X无效
发明人：阿苏幸成;佐佐木良成;村瀬英寿;山田尚树 -专利权人：索尼株式会社;埃克斯特克有限公司
申请日： 2006-08-31 - 公布日： 2007-09-12 - 主分类号： B23K26/14 文献下载
摘要：提供一种激光加工装置。该激光加工装置包括具有透射窗、开口部分、出口孔、第一排气孔和第二排气孔的激光加工头。该透射窗透射通过照射加工物体的激光。该开口部分使所述透射通过的激光照射到该激光加工头的底部。该出口孔使该加工物体的激光照射区域附近的空气排放到外部。该第一排气孔引导气体进入激光照射区域附近。该第二排气孔排放激光照射区域附近的空气。通过与设置在该激光加工头底部的开口部分连续的出口孔和该第二排气孔排放该加工物体产生的废屑。
激光加工装置工头方法

[发明专利]定向膜的图形形成方法-CN200710087965.9有效
发明人：村濑英寿;佐佐木良成;山田尚树;阿苏幸成 -专利权人：索尼株式会社
申请日： 2007-02-08 - 公布日： 2007-08-15 - 主分类号： G02F1/1337 文献下载
摘要：提供一种简便且高精度的定向膜的图形形成方法。形成聚酰亚胺膜(5)以便覆盖在玻璃基板(2)上形成的金属膜(3)和透明电极膜(4)的整个面板基板(30)之后，通过由显示顶部平坦化的能量强度分布且具有在140mJ/cm²以上并在400mJ/cm²以下能量的ArF受激准分子激光进行照射，有选择地除去聚酰亚胺膜。通过引起烧蚀反应，聚酰亚胺膜(5)升华，不对金属膜(3)或透明电极膜(4)造成损伤，且在短时间内能够简便地形成规定形状的定向膜图形(5A)。
定向图形形成方法

[发明专利]烧蚀工艺及其装置-CN200580026519.6有效
发明人： N·塞克斯;佐佐木良成;村濑英寿;山田尚树;阿苏幸成 -专利权人：埃克西特克有限公司;索尼株式会社
申请日： 2005-06-13 - 公布日： 2007-08-15 - 主分类号： B23K26/12 文献下载
摘要：本发明首先包括一种烧蚀处理，其包括利用激光束(3)对基体(1)的区域进行烧蚀的步骤，其特征在于还包括利用流体流(7)，即气体或蒸气、液体或其组合，清除从区域(1)烧蚀的碎屑的步骤，其中引导流体(7)流在该区域上流动，以便夹带上述碎屑，然后通过引导带有碎屑的流体流沿预定路径(6)远离区域，从该区域清除夹带的碎屑，避免了夹带的碎屑后续沉积到基体上。本发明还包括一种使激光(3)能够烧蚀基体区域的装置，其特征是位于激光束(3)的聚焦或成像透镜(2)和基体区域(1)之间的部分封闭的碎屑提取模块(4)，DEM(4)具有输入端口(8)和输出端口(6)，通过该端口使流体流(即气体或蒸气、液体或其组合)在区域(1)上流过，以夹带从区域烧蚀的碎屑，并其后通过使带有夹带碎屑的流体沿预定路径远离区域通过的机构，从该区域清除夹带的碎屑，防止夹带的碎屑后来沉积在基体上。
工艺及其装置

[发明专利]激光处理设备和方法以及碎片排出机构和碎片排出方法-CN200610132228.1无效
发明人：村瀬英寿;佐佐木良成;阿苏幸成;山田尚树 -专利权人：索尼株式会社;埃克斯特克有限公司
申请日： 2006-08-31 - 公布日： 2007-06-27 - 主分类号： B23K26/14 文献下载
摘要：本发明提供一种激光处理设备。激光处理设备用于通过利用激光对在基底上的多层膜上形成的透明导电膜进行图案处理，包括具有旋涡产生机构的碎片排出模块，所述机构通过将气体引导入所述透明导电膜的激光照射部分附近而产生旋涡流。所述碎片排出模块接近于所述基底设置，并且通过激光照射产生的在基底上沉积前和沉积后的碎片被诱捕入所述旋涡流以与气体一起排出到外部。
激光处理设备方法以及碎片排出机构

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