专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [实用新型]硅片处理设备-CN202122868469.5有效
  • 安军林;牟童;魏东亮;陈英;王海礼 - 亚洲硅业(青海)股份有限公司;青海亚洲硅业半导体有限公司;青海省亚硅硅材料工程技术有限公司
  • 2021-11-22 - 2022-05-13 - H01L21/67
  • 本实用新型公开了硅片处理设备,包括支架、硅片固定装置、打磨装置和抛光装置;所述支架的一侧为打磨底座,支架的另一侧为抛光底座,所述硅片固定装置可在打磨底座和抛光底座上移动;所述打磨装置位于所述打磨底座上方;所述抛光装置包括淋洗喷头、抛光总管、抛光液分管、超纯水分管、吹扫分管、回收总管、抛光液回收分管、超纯水回收分管,当硅片固定装置位于抛光底座上所述淋洗喷头和硅片固定装置形成密封结构。本实用新型将机械打磨、化学抛光处理、清洗和烘干集成于同一处理装置,效率高,可以满足大批量生产的需求;同事此装置整个处理过程密闭下完成,环境安全;并且,此装置还设有专用的抛光液处理系统,用于抛光液的循环利用,节约成本。
  • 硅片处理设备

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