专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]光学层叠体-CN201780033030.4有效
  • 堀尾智之;中岛正隆;中村启志;野村崇尚;篠原诚司;松井清隆;大岛研太郎;久保山聪;小野行弘 - 大日本印刷株式会社;迪睿合株式会社
  • 2017-07-10 - 2021-08-03 - G02B1/14
  • 本发明的目的在于提供一种光学层叠体,其层间的密合性优异,特别是即便在室外使用的情况下层间的密合性也优异,抗粘连性也极其优异。本发明涉及一种光学层叠体,该光学层叠体在基材膜的至少一个面上具有包含二氧化硅微粒的硬涂层,在上述硬涂层的与上述基材膜侧相反侧的面上具有干膜层,该光学层叠体的特征在于,上述二氧化硅微粒从上述硬涂层的上述干膜层侧表面露出,上述干膜层直接层叠在上述二氧化硅微粒露出的上述硬涂层表面,设置上述干膜层前,在硬涂层的上述干膜层设置侧的表面形成有凹凸形状,在上述硬涂层的厚度方向的截面中,在厚度方向上从上述干膜侧界面起至10%厚度为止的范围内任意选择10处0.2μm×0.2μm的区域,上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的平均值为30%~80%,并且上述10处区域中的上述二氧化硅微粒的存在比的标准偏差为1~7,通过X射线光电子能谱分析测定的上述硬涂层的与上述基材膜侧相反一侧表面中的硅原子的存在率A为2%~10%。
  • 光学层叠
  • [发明专利]光学层叠体及其制造方法、前面板、以及图像显示装置-CN201780010824.9有效
  • 山本佳奈;恒川雅行;岩崎迅希;野村崇尚;中川博喜;滨田孝则;大石英司;芳片邦聪;中岛正隆 - 大日本印刷株式会社
  • 2017-02-09 - 2021-07-27 - B32B7/023
  • [1]一种光学层叠体,其为依次具有基材膜、透明导电层和表面保护层的光学层叠体,其中,依照JIS K6911测定的表面电阻率的平均值为1.0×107Ω/□以上、1.0×1010Ω/□以下的范围,并且该表面电阻率的标准偏差σ为5.0×108Ω/□以下;[2]一种光学层叠体,其为依次具有基材膜、透明导电层和表面保护层的光学层叠体,该基材膜为环烯烃聚合物膜,该基材膜的厚度相对于该光学层叠体整体的厚度的比例为80%以上、95%以下,利用动态粘弹性测定装置在频率10Hz、拉伸负荷50N、升温速度2℃/分钟的条件下测得的150℃温度下的该光学层叠体的伸长率为5.0%以上、20%以下;[3]一种光学层叠体,其为依次具有纤维素系基材膜、稳定化层和导电层的光学层叠体,其中,依照JIS K6911测定的表面电阻率的平均值为1.0×107Ω/□以上、1.0×1012Ω/□以下的范围,并且将该表面电阻率的标准偏差σ除以该平均值而得到的值为0.20以下;光学层叠体的制造方法、前面板和图像显示装置。
  • 光学层叠及其制造方法面板以及图像显示装置

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