专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种干法刻蚀方法-CN202211272272.8在审
  • 钟伟华;林武;鲁日彬;李景浩;李慧敏;蔡武;黄友鑫;李家昌 - 福建兆元光电有限公司
  • 2022-10-18 - 2023-03-07 - B08B5/00
  • 本发明公开一种干法刻蚀方法,在腔体内使用氧气产生自由原子;吹扫去除所述自由原子,得到清洁后的腔体;在所述清洁后的腔体内对片源进行干法刻蚀;干法刻蚀完成后,在所述腔体内使用氮气吹扫,利用氧气自由原子以化学方法蚀除有机物的同时,不会刻蚀基片,再通过吹扫清除刻蚀残留物,在刻蚀完成后进行氮气吹扫,有效去除吸附在片源表面的刻蚀残留气体及刻蚀生成物,并去除刻蚀盘及传递腔内刻蚀残留气体及刻蚀生成物,避免吸附在片源上,从而有效去除片源表面的刻蚀麻点。
  • 一种刻蚀方法

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