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[发明专利]用于微光刻的照明光学部件-CN201410006090.5有效
发明人： 马丁.恩德雷斯;拉尔夫.施图茨尔;詹斯.奥斯曼 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2008-11-20 - 公布日： 2014-04-09 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于微光刻的照明光学部件，该照明光学部件包括用于将照明光引导到物平面中要照明的物场的光学组件。根据本发明的第一方面，照明光学部件(26)将照明光辐射束(3)分成多个辐射子束(28至30)，该多个辐射子束被分配物场照明的不同照明角。照明光学部件(26)被配置以使辐射子束(28至30)中的至少一些在交叠平面中交叠，该交叠平面与物平面分开且不被成像到其中发生交叠的物平面。该交叠使得交叠辐射子束(28至30)的边缘(32)至少部分地重合。根据本发明的另一方面，场强度设定装置(24)包括多个相邻的单独的光阑(27)，当对那里曝光时，该多个相邻的单独的光阑至少减弱照明光(3)。这些单独的光阑(27)在平行于物移动方向(v)的方向上可插入到照明光辐射束(3)中。场强度设定装置(24)的所有单独的光阑(27)可从同一侧插入到照明光辐射束(3)中。
用于微光照明光学部件

[发明专利]微光刻的投射曝光设备使用的分面镜-CN201310194962.0有效
发明人：乌多.丁格;马丁.恩德雷斯;阿明.沃伯;诺伯特.米尔伯格;弗洛里安.巴赫 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2009-02-06 - 公布日： 2013-09-11 - 主分类号： G02B26/08 文献下载
摘要：本发明提供一种在微光刻的投射曝光设备（1）中用作光学元件的分面镜（13，14；47；64；67，70），-包括多个分立镜（21；69），对于入射照明光（10）的单独偏转，在每种情况下所述多个分立镜被连接到至少一个驱动器（24），-使得所述多个分立镜通过分离的驱动能够关于至少一个倾斜轴（x，y）倾斜，连接到所述驱动器（24）的控制装置（28），被配置使得允许将分立镜（21；69）分组为给定的分立镜组（19；31；32，33；34至37；38至45；46；48；50；60；61），所述分立镜组在每种情况下设置至少两个分立镜，所述控制装置（28）被配置，使得一个分立镜组的各个分立镜的驱动能够分别地不同于所述分立镜组的剩余分立镜的驱动。
微光投射曝光设备使用分面镜

[发明专利]用于微光刻的投射物镜-CN201210286762.3有效
发明人：约翰尼斯.泽尔纳;汉斯-于尔根.曼;马丁.恩德雷斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2009-02-28 - 公布日： 2012-12-12 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于微光刻的投射物镜（7）被用于将物平面（5）中的物场（4）成像为像平面（9）中的像场（8）。所述投射物镜（7）包括至少六个反射镜（M1至M6），其中至少一个反射镜具有自由形状反射面。根据本发明的第一方面，投射物镜（7）的总长度（T）与物像位移（dOIS）的比小于12。根据本发明的另一方面，像平面（9）是物平面（5）的下游的投射物镜（7）的第一个场平面。根据本发明的另一方面，投射物镜具有多个反射镜（M1至M6），其中总长度（T）与物像位移（dOIS）之间的比小于2。
用于微光投射物镜

[发明专利]在像场中成像物场的成像光学系统和照明物场的照明光学系统-CN201080037247.0有效
发明人：汉斯-于尔根.曼;约翰尼斯.泽尔纳;奥雷利安.多多克;马科.普雷托里厄斯;克里斯托夫.门克;威廉.乌尔里克;马丁.恩德雷斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2010-06-08 - 公布日： 2012-05-30 - 主分类号： G02B17/06 文献下载
摘要：一种具有多个反射镜的成像光学系统，该多个反射镜将物平面(11)中的物场(9)成像到像平面(14)中的像场(13)中。至少一个所述反射镜的反射面被构造为不能通过旋转对称函数描述的自由形状面。所述物场的纵横比大于(x/y)1，物场的最小和最大横向尺寸的比小于0.9。在另一方面中，物场(9)和/或像场(13)偏离镜面对称场形状。用于照明物场(9)的照明光学系统(10)具有引导照明光(3)的组件，所述组件被设计为照明相应形成的物场(9)。结果，在配备了上述反射镜的成像光学系统、照明光学系统和透射曝光系统中，考虑对由成像光学系统成像的场上的成像误差的校正的更高的要求。
像场中成像光学系统照明

[发明专利]用于微光刻的照明光学系统与光学系统-CN200980159125.6有效
发明人： 马丁.恩德雷斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2009-03-06 - 公布日： 2012-04-18 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种用于微光刻的照明光学系统被用于照明物场(12)。照明光学系统具有第一传输光学系统，用于引导由光源发出的照明光(3)。具有多个照明预设微面(25)的照明预设分面镜(7)布置在第一传输光学系统的下游。照明预设分面镜(7)通过照明预设分面镜(7)的边缘形状以及照明预设微面(25)的各个独立倾斜角，产生物场(12)的预设照明。第一传输光学系统和照明预设分面镜(7)的布置产生物场(12)的远心照明。根据另一方面的光学系统在照明预设分面镜与物场之间包括投射光学系统的入瞳平面，投射光学系统与照明光学系统一起作为用于微光刻的光学系统的一部分。在该另一方面中，第一传输光学系统与照明预设分面镜的布置使得实现了与投射光学系统的入瞳适配的物场的照明。另一方面，在包括投射光学系统及照明光学系统的光学系统中，与投射光学系统的总长度相比，出现较大的物像偏移或更大的中间焦点-像偏移。这使得照明光学系统和光学系统满足关于照明光使用的特定效率要求。
用于微光照明光学系统

[发明专利]用于EUV微光刻的投射曝光设备的照明光学部件的场分面镜-CN200980138463.1有效
发明人：阿德里安.斯泰库;马丁.恩德雷斯 -专利权人：卡尔蔡司SMT有限责任公司
申请日： 2009-08-31 - 公布日： 2011-08-31 - 主分类号： G03F7/20 文献下载
摘要：一种在用于EUV微光刻的投射曝光设备的照明光学部件中使用的场分面镜，用以将布置在物场中的物的结构传送到像场中。场分面镜(6)具有包含反射表面(22)的多个场面(18x)。所述场面(18x)彼此相邻的设置分布在基平面(xy)上。至少两个场面(18x)的反射表面(22)到基平面(xy)上的投影关于至少一个以下参数不同：尺寸、形状、定位。场分面镜确保均匀的物场照明以及高EUV通过量同时符合高要求。
用于 euv 微光投射曝光设备照明光学部件场分面镜